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111.
GaN材料系列的研究进展   总被引:3,自引:0,他引:3  
宋登元  王秀山 《微电子学》1998,28(2):124-128
GaN及其合金作为第三代半导体材料具有一系列优异的物理和化学性质,在光电子器件,高温大功率电子器件及高频微波器件应用方面具有广阔的前景,已成为当前高科技领域的研究重点,论述了这种材料的研究历史与发展现状,物理与化学性质,薄膜的生长方法及在光学电子和微电子器件应用于方面的研究进展。  相似文献   
112.
随着我国计算机产业的发展,计算机已广泛应用到社会各领域。计算机在管理信息系统方面的应用日趋普及,各企事业单位在管理上的现代化要求也越来越高。如何利用计算机搞好管理信息系统的开发,自然成了我们需要思考的一个问题。  相似文献   
113.
Ⅱ型平面动力裂纹线场的弹塑性精确解   总被引:3,自引:1,他引:2  
本采用线场分析方法对理想弹塑性Ⅱ型平面应力裂纹裂纹线附近的应力场及弹塑性边界进行了精确分析,本完全放弃了小范围屈服条件,探讨了弹塑性边界上弹塑性应力场匹配条件的正确提法,通过将裂纹线附近塑性区应力场的通解(而不是过去采用的特解)与弹性应力场的精确解(而不是通常的裂尖应力强度因子K场)在裂纹线附近的弹塑性边界上匹配,本得出了塑性区应力场,塑性区长度及弹塑性边界的单位法向量在裂纹线附近的足够精确  相似文献   
114.
115.
自由电子激光振荡器的二维数值模拟   总被引:2,自引:2,他引:0  
在柱二维坐标系中,用数值计算方法求解了摇摆器内电子模拟方程组、光场方程组和无源区(不含摇摆器区)经非自适应方法变换后的无源旁轴波动方程并设计了相应的程序R_2D。用该程序计算的数值结果表明,在有源条件下二维数值模拟结果与高斯光束近似下的数值模拟结果符合较好;取完全相同的计算条件R-2D程序与洛斯阿拉莫斯实验室(LANL)的FELEX程序的计算结果符合较好;初步认为LANL实验数据的物理图象合理,数值结果基本可信;最后给出北京自由电子激光器(BFEL)的一些物理数据。  相似文献   
116.
三相异步电动机由于缺相损坏的比例在工业企业中的所占约80%以上,而三相电压严重不平衡造成断相、严重过热而损坏的电机也占相当比例,本文初步探讨了负序电压系数与零序电压的关系,并介绍了缺相与定子电压不对称的保护方案。  相似文献   
117.
王培林  魏科 《半导体学报》1994,15(9):596-602
用控制容积法对布里兹曼碲镉汞(Hg1-xCdxTe)晶体生长过程热场分布进行了计算。介绍了控制容积公式的推导和边界条件的处理,并对所得结果进行了分析。虽然碲镉汞晶体生长时热场受系统的影响情况错综复杂,但从本文的研究结果中仍可看出一些明显的规律,可供从事该方面研究工作时参考。  相似文献   
118.
PZT铁电薄膜的制备及电学性能研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
使用硝酸锆作锆源的溶胶-凝胶方法制备PZT铁电薄膜。他们的电学性能被测试包括电滞回线,电流I(t)特性,漏电流,矫顽场疲劳和老化。测到的PZT薄膜剩余极化8.2μC/cm~2,矫顽场68kV/cm.簿膜的寿命可超过10~(11)周期。  相似文献   
119.
1μm宽硅深槽刻蚀技术   总被引:1,自引:1,他引:0  
王清平  郭林 《微电子学》1996,26(1):35-39
介绍了硅深槽刻蚀的基本原理和影响刻蚀效果的几个主要工艺因素。提出了一种实现1μm宽的硅深槽刻蚀工艺途径;并给出了1μm宽、8μm深、侧壁及底部光洁的硅深槽刻蚀工艺条件。  相似文献   
120.
基于极化不变量的飞机目标识别   总被引:5,自引:2,他引:3  
基于宽带毫米波极化雷达体制背影,通过极化不变量之一的去极化系数,研究了飞机目标的极化散射特性,并提取了极化特征,设计了飞机目标的分类或识别器结构,它能对五种飞机目标进行有效的分类或识别。  相似文献   
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