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111.
多级孔ZSM-5分子筛结合了微孔分子筛可调变的酸性、良好的水热稳定性以及介孔材料优异的传质扩散性能,在催化领域有着广阔的应用前景.我们综述了近年来多级孔ZSM-5分子筛的研究进展,重点概述了多级孔ZSM-5分子筛的不同制备方法,包括后处理法、硬模板法和软模板法等,同时介绍了多级孔ZSM-5分子筛在炼油领域的应用研究,并在上述基础上对多级孔ZSM-5分子筛的研究趋势进行了展望.  相似文献   
112.
设计了一种8位1.2V,1GS/s双通道流水线A/D转换器(ADC)。所设计ADC对1.5位增益D/A转换电路(MDAC)中的流水线双通道结构进行改进,其中设置有双通道流水线时分复用运算放大器和双/单通道快闪式ADC,以简化结构并提高速度;在系统前置采样/保持器中加设由单一时间信号驱动的开关线性化控制(SLC)电路,以解决两条通道之间的采样歪扭和时序失调问题。用90nm标准CMOS工艺对所设计的流水线ADC进行仿真试验,结果表明,室温下所设计ADC的信噪比SNR为32.7dB,无杂散动态范围SFDR为42.3dB,它的分辨率、功耗PD和采样速率SR分别为8位、23mW和1GS/s,从而满足了高速、高精度和低功耗的应用需要。  相似文献   
113.
铁路数据通信网作为铁路通信重要的承载网络之一,承载业务的IP地址需求及规划是数据通信网建设及运维的重要工作。文章主要结合工程建设实践,对数据通信网IP地址编制流程及内容进行了阐述。  相似文献   
114.
方酸菁染料在有机太阳能电池中的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
方酸菁作为一种重要的菁类染料,由于它在可见-近红外区有强烈的吸收和发射性质,以及良好的光热稳定性,使它在太阳能电池的研究中越来越受到重视.随着理论的不断完善,以及太阳能电池制作技术的成熟,方酸菁将在这一领域继续得到快速发展.综述了近年来方酸菁染料在染料敏化太阳能电池和本体异质结太阳能电池中的应用,从机理角度着重讨论了染料分子结构等因素对电池性能的影响,并提出了未来的研究方向.  相似文献   
115.
将磷化镍纳米片均匀负载到石墨烯(G)上制备出Ni2P/G复合材料,并将其作为硫载体构筑了硫基复合材料(S/Ni2P/G)。研究表明,磷化镍纳米片对可溶性多硫化物具有强的化学作用和较高的电催化活性,使S/Ni2P/G硫基复合材料表现出良好的电化学性能。特别是,在高硫含量(80.3%)和低电解液用量(15μL·mg-1)条件下,S/Ni2P/G硫基复合材料展现出1 164.7 m Ah·g-1的质量比容量和良好的循环稳定性。此外,S/Ni2P/G复合材料具有高的振实密度(1.02 g·cm-3),其体积比容量高达954.0 m Ah·cm-3,约为S/G复合材料体积比容量的1.6倍。  相似文献   
116.
VLSI电路可测性设计技术及其应用综述   总被引:9,自引:8,他引:9  
成立  王振宇  高平  祝俊 《半导体技术》2004,29(5):20-24,34
综述了超大规模集成电路的几种主要的可测试性设计技术,如扫描路径法、内建自测试法和边界扫描法等,并分析比较了这几种设计技术各自的特点及其应用方法和策略.  相似文献   
117.
设计了一种BiCMOS光隔离放大器,给出了其中两个运算放大器的设计电路.设计过程中只在推拉式输出级配置两个双极型晶体管(BJT),而在电路的其余部分则设置CMOS器件.为了提高放大器的增益线性度和稳定性,光电耦合部分和各运放中都引入了负反馈,并采取了优选元器件参数和提速等措施.实验结果表明所设计光隔离放大器的±3 dB带宽比双极型光隔离放大器ISO100增加了约20 kHz,当电源电压为8.6 V时,时延-功耗积比ISO100降低了约17.7 pJ,增益线性度提高到5.5×10-5,因此特别适用于高速通信系统中.  相似文献   
118.
针对调制信号分类特征选择问题,提出了自适应惯性权重模拟退火二进制离散粒子群算法。该算法将模拟退火算法嵌入到离散粒子群算法循环体中,利用模拟退火算法具有较强的局部搜索能力和避免陷入局部最优解的特点,解决了简单智能优化算法早熟收敛和局部搜索能力弱等问题。仿真结果表明,该算法能有效选取最优特征,性能优于简单离散粒子群算法和遗传算法。  相似文献   
119.
介绍了新一代全球定位系统(GPS)采用的新技术,建立了对运行在我国区域内的GPS实施转发式干扰的数学模型,通过计算分析得出有效干扰误差和有效干扰范围,仿真结果验证了干扰方法的合理与有效性。  相似文献   
120.
BiCMOS器件应用前景及其发展趋势   总被引:5,自引:1,他引:5  
为拓宽混合微电子技术研发思路和加大其工程应用力度,综述了BiCMOS器件的发展概况、基本结构、技术特点和应用领域以及目前达到的技术水平,并简述了BiCMOS技术的典型工艺和已获得的研究成果,讨论了BiCMOS电路未来的发展趋势和市场前景。  相似文献   
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