N-氧化吡啶-2-甲醛衍生物的配合物研究 III: N-氧化吡啶 -2-甲醛缩氨基硫脲的双核铜配合物的晶体结构和电子结构

合成了N-氧化吡啶 -2-甲醛缩氨基硫脲的双核铜配合物。晶体结构的测定表明两Cu原子之间是通过两个单原子氧桥相联, 每个桥联氧原子既处于一个Cu原子为中心的四方锥底面, 又是另一个Cu原子四方锥的锥顶。晶体属单斜晶系, 空间群为Ce, 晶体结构参数为a=16.445,b=13.889,c=12.770A,β=122.82°。根据半经验MO法的计算结果, 指出了红外谱中N-O键和C=N 键特征峰朝不同方向位移的原因, 并对磁偶合常数作了估计。     

分子中的电子能谱

在轨道近似理论中,从原子体系的电子组态求相应所包含的各种谱项~(2s+1)L一般是利用Russell-Saunder偶合方法。对于非等价电子,总轨道角动量L和多重度S都可以通过矢量偶合的三角形规则得到,然后再互相组合成所有可能的谱项。对于等价电子,由于有Pauli原理的限制,某些谱项要消失掉,因此往往先由相应组态列出所有可能的简并态(指不存在电子相互作用时),从具有最大总轨道角动量的态开始分别一一     

三核苯甲酸铁配合物［Fe_3O（OBZ）_6（H_2O）_3］（NO_3）（a

合成了三核苯甲酸铁配合物［Ｆｅ３Ｏ（ＯＢＺ）６（Ｈ２Ｏ）３］（ＮＯ３）（ａｃｅｔｏｎｅ）５．测定了其晶体结构．其中三个铁形成等边三角形结构．配合物的变温磁化率表明，分子内三个铁之间有弱的反铁磁性交换作用，Ｊ＝－３３．１８ｃｍ－１．分子之间则有更弱的反铁磁性交换作用，ｚＪ＇＝－１．１４ｃｍ－１．     

一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法

光刻仿真工具是描述实际工艺的有效工具。利用光刻仿真工具，能够准确地描述由掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸的变化。利用了改进的空间图像仿真及可变光强阈值模型来获得准确的硅片图形。改进的空间图像的基本思想是，用空间图像与一个高斯滤波器进行卷积，从而使图像较原来变得模糊，以此来模拟光刻胶的实际扩散效应。描述了一种适用于快速光学邻近校正（OPC）的准确的光刻胶剖面仿真算法。     

Exogenous bridge and tautomer effects on magnetic interaction of binuclear copper(II) complexes of μ-phenolato Schiff bases

Four enol-form binuclear copper complexes with different exogenous bridges, [Cu2(L)(μ-Cl)] (1), [Cu(L)(μ-N3)]· DMF (2), [Cu2(L)(μ-OCH3)] (3) and [Cu2(L)(μ-C3H3N2)]· 1/2C2H5OH (4), where L is the trivalence anion of binucleating ligand 2,6-diformyl-4-methylphenol di(tenzoylhydrazone), have been synthesized and characterized. Crystal data for complex (3) are as follows: space group P1- , a=0.8294(1), 6=0.9333(3), c= 1.473 6(6) nm, α=79.51(3)°, β=80.93(2)°,γ=81.32(2)°, Z=1. The magnetic measurements indicated that the effect of exogenous bridging ligands on magnetic interaction is corresponding to that in spectrochemical series. The effect of enol- and keto-form tautomer on magnetic interaction was explained from the point of view of structural factors and electron effects by using molecular mechanks and quantum chemistry calculations.     

N-氧化吡啶-2-甲醛缩氨基硫脲钴配合物的研究

本文报导了N-氧化吡啶-2-甲醛缩氨基硫脲合钴(Ⅲ)配合物的合成和表征,并对配合物的成键方式与中心原子价态之间的关系进行了讨论.有趣的结果是,尽管原料都是二价钴盐,得到的却都是抗磁性的三价钴配合物.     

卤代芳烃的脂水分配系数与分子结构的定量关系

本文通过HMO法计算得到了46个卤代芳烃的部分量子化学参数,同时计算了它们的分子总表面积(TSA),以线性溶解能关系(LSER)理论为基础探讨了化合物的正辛醇/水分配系数与其分子结构间的定量关系,建立了一种良好的分配模型,该模型可准确计算出两种溶剂的表面张力之差。     

一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法

光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,并用高斯过滤器来模拟光刻胶横向扩散和一些掩模工艺效应 ,由此提出了一种基于卷积核的精确、快速地用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 .这种模型的简单性从本质上给计算和分析带来了好处 .仿真结果说明这种方法是有效的     

成品率驱动的光刻校正技术

光刻校正技术已成为超深亚微米下集成电路设计和制光刻校正技术的基本原理以及在IC设计中使用这些技术需要注意的问题,为可制造性设计提供有价值的指导.     

亚波长设计中的可制造性验证方法

描述了一种采用分辨率提高技术后用于可制造性设计的验证方法.该方法的目的是验证设计功能与设计目的是否一致,更精确地说,使刻印出来的图像与设计一致.还描述了这种基于模型的验证方法的过程建模,实例说明这种方法的性能.