直流等离子体化学汽相沉积法合成的金刚石膜的内应力研究

研究了直流等离子体化学汽相沉积(CVD)法合成的金刚石膜内应力随甲烷浓度、沉积温度的变化关系。实验研究表明,金刚石膜的总内应力随沉积条件变化十分敏感。压缩应力是由非金刚石成份及氢等杂质引起的,而伸张应力可由膜中高密度的微空和内面积导致的晶粒间界弛豫模型来解释。     

应力诱导碳纳米管电阻的变化

利用三点弯曲法研究了掺杂和末掺杂碳纳米管薄膜应力诱导电阻的变化.该研究中所用的碳纳米管是用热灯丝化学汽相沉积法合成的.实验结果表明,碳纳米管有显著的应力诱导电阻变化的效应.当应力从0.2GPa增加到1GPa时,膜的电阻相对变化从7%增加到11%,而非掺杂的薄膜电阻变化小于掺杂膜的情况.电阻随应力变化的原因也许是带隙变化(掺杂)和管之间接触电阻变化(非掺杂)所致.     

p型半导体金刚石膜的磁阻效应

在p型硅(100)衬底上,采用衬底负偏压微波等离子体CVD方法进行了p型异质外延金刚石膜的生长.用O₂等离子体刻蚀技术将金刚石膜刻蚀成长条形,利用四探针法在0—5T的磁场范围内测量了样品的磁阻.实验结果表明,p型异质外延金刚石膜可以产生较大的磁阻.在Fuchs-Sondheimer(F-S)薄膜理论的基础上考虑晶格散射、杂质散射和表面散射,通过求解Boltzmann方程,利用并联电阻模型研究了p型异质外延金刚石膜的磁阻效应,给出了磁阻和金刚石膜厚度、迁移率、空穴密度及磁场的关系.讨论了表面散射和价带形变对p型异质外延金刚石膜磁阻的影响,初步解释了p型异质外延金刚石膜产生较大磁阻的原因 关键词： 金刚石膜 异质外延 磁阻效应 电导率     

Ni52Mn24Ga24单晶中取向内应力的热动力学计算

测量了Ni₅₂Mn₂₄Ga₂₄单晶样品在磁场加载和未加载情 况下马氏体相变时的相变应变.分析结果表明：用提拉法生长单晶时在晶体内部引入了单一取向的内应力，该取向内应力可诱导马氏体变体择优取向，从而导致马氏体相变时产生大的相变应变.从理论上计算了该内应力的大小.另外，对样品在马氏体态单纯磁诱导应变的热动力学研究，表明取向内应力在马氏体态依然存在. 关键词： 马氏体相变 磁感生应变 内应力     

一种缺陷态半导体薄膜——CdIn2O4膜研究

CdIn_2O_4薄膜是一种三元氧化物宽带隙n型半导体材料.它有许多优异的光学和电学性质.在可见光范围内它有很高的光透射率,红外光附近有良好的反射率,但同时其电阻又十分低.与金属铜、金、银相比较,CdIn_2O_4薄膜的化学性质十分稳定和耐磨损.因而广泛应用于光电子器件、热镜、太阳能电池及航天器透     

沉积条件和内应力对a—Si：H膜光致发光谱的影响

实验研究表明,a-Si:H薄膜的光致发光谱随沉积条件,内应力的变化十分敏感。当射频功率、偏压及内应力增大时,发光峰值能量向低能方向移动,半宽带展宽,并且发光强度略有下降。文中对这些实验结果进行了解释。     

对碳纳米管阵列的场发射电场增强因子以及最佳阵列密度的研究

研究了外电场、碳纳米管自身线度、尤其管的阵列密度对碳纳米管的场发射性能的影响,从理论上深入探索碳纳米管阵列的电场增强因子并提出改善其场发射电子性能的有效途径.研究结果表明,碳纳米管阵列的电场增强因子的数量级一般为102—103,并对任何长径比的碳纳米管阵列,都对应着一个最佳阵列密度,当碳纳米管阵列密度取此最佳密度值时,其电场增强因子明显提高.这里的理论研究对弄清碳纳米管的场发射机理及实验合成高发射性能的碳纳米管阵列有一定的意义 关键词： 碳纳米管阵列 最佳阵列密度 电场增强因子 长径比     

应力诱导碳纳米管电阻的变化

利用三点弯曲法研究了掺杂和末掺杂碳纳米管薄膜应力诱导电阻的变化。该研究中所用的碳纳米管是用热灯丝化学汽相沉积法合成的。实验结果表明，碳纳米管有显著的应力诱导电阻变化的效应。当应力从0．2GPa增加到1GPa时，膜的电阻相对变化从7％增加到11％，而非掺杂的薄膜电阻变化小于掺杂膜的情况。电阻随应力变化的原因也许是带隙变化(掺杂)和管之间接触电阻变化(非掺杂)所致。     

化学处理增强碳纳米管的湿敏效应

研究了多壁碳纳米管的湿敏效应。研究中所用碳纳米管是用热灯丝化学汽相沉积法生长的。实验结果表明 ,经由化学修饰后碳纳米管的湿敏效应有了极大的增强。化学修饰后碳纳米管在水蒸汽中电阻相对变化达到了 30 0 % ,而未修饰只有 3.2 5 %。本文对其结果进行了分析和讨论