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我们于1980年研制成功了BDN[双(4-二甲基氨基二硫代苯乙烯)镍]及BDN-PMMA(简称)染料片。它最突出的优点是光化稳定性及热稳定性好,因而工作寿命长。染料盒在31.2兆瓦/厘米~2功率密度下,可工作20万次以上;染料片在12次/分、输入能量8焦耳、输出23毫焦耳时已工作了3万次以上。 1981年,我们又研制出两种近红外波段的调Q染料。它们与BDN都是由NiS_4C_4H_4为核心而衍生出来的物质,总称为镍硫络合物。 随着激光波长向近红外波段的扩展,需要有各相应的调Q染料,以NiS_4C_4H_4为核可衍生出十几种材料,每种材料的最大吸收峰位置随取代基结构而异。 相似文献
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利用光致聚合物的真彩色反射全息图 总被引:1,自引:0,他引:1
本文用Ar~+-Kr~+激光器的红光(647.1nm)、绿光(574.5nm)和蓝光(488.0nm)分别对准全色的光致聚合物干板制作反射光栅,给出各个反射光栅的光谱透射率曲线,由此可得最小透射率随曝光量、再现波长随曝光量变化的情况.并采用Ar~+-Kr~+激光器全谱线输出和减色滤光片一次曝光成功地拍摄了真彩色反射全息图.本文还讨论了彩色反射全息图再现像的色度坐标和彩色控制. 相似文献
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早在1952年Strickland就指出硅钼民酸本身以α和β两种形式存在,其相对量依赖于生成条件,β式的硅钼酸不可逆地逐渐转变为α式,而且在大多数的波长下,两种形式络合物的消光系数不同。过去分析者们常用以下三种方法来克服上述现象在分析中带来的困难:1)选择生成β式硅钼酸的条件,一当络合物完全生成后立即测量溶液的光密度;2)使用β到α式转化的校正值;3)通过将溶液加热的方法,使β式完全转 相似文献
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电子束曝光作为扫描型电子显微镜的应用技术制作集成电路图形大约是在十年前开始的。其分辩率早就被公认是很好的,研制出来了用光所不能实现的新器件,但还未达到实用阶段。其主要原因是曝光所需时间太长,装置的稳定性也差。但是在这期间,实施了电子光学、电子电路的各种考虑方案,做了基础方面的理论分析,进行了各种数据的积累和方式考查。扫描型曝光中的光栅扫描法、随机存取扫描 相似文献
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