金属清洗暂代技术(四)

1.2设备和工艺 虽然在很大程度上目前仍然使用水进行人工清洗,但在一些浸渍、喷淋设施中则大量地使用着碱性清洗系统.在浸渍清洗中,一般的方法是通过加热,并对被清洗物采用机械搅拌、震荡,使用超声波或电解工艺等手段来提高清洗效果.     

ASON控制平面功能元件及管理技术

介绍了组成自动交换的光网络(ASON)控制平面的各功能元件,包括呼叫控制器、连接控制器和链路资源管理器等六种元件,提出了基于TMN的控制平面管理系统,实施对控制平面的配置、性能、故障、安全方面的管理方案。     

金属清洗替代技术(二)

2．3选择清洗系统的程序 下列流程图有助于理解对清洗系统的选用。从表2可以知道哪些清洗剂适合于哪些金属的清洗。从表3可以了解各清洗系统对表面特性的大致影响情况。这一点是十分重要的，因为表面特性与后面的每一工艺有很大的关系。例如采用水     

新型土壤污染清除技术

2003年7月22日,发自日本东京的网上信息介绍:日本TEIJIN化纤株式会社开发了一种具有划时代意义的土壤污垢清洗技术,采用这种技术可以处理和净化受到重金属污染的土壤.TEIJIN集团公司的理念是:"安全和环保至高无上".     

AOI技术在激光微孔产品检查中的应用

在过去几年里,小型PCB诸如硅芯片级以及便携式移动电话的生产者和设计者们已经发现:如果要保持自己的竞争力并具备生产高密度封装板能力,就必须采用微孔技术。微孔技术的出现要求针对微孔缺陷的有效检测手段对工艺进行过程控制。本文对激光微孔的自动光学检测进行了详细介绍。     

若干杂环模型化合物的热氧化稳定性

<正> 自五十年代以来,耐热的杂环高分子取得了很多进展。曾报道聚酰亚胺、聚苯并咪唑、聚苯并噻唑、聚苯并噁唑、聚喹噁林及聚苯并噁嗪酮等都是性能较好的耐热高分子,而有些在工业上已得到应用。我们在进行芳杂环二腈聚合的工作中,曾将上述杂环结构引入二腈,以期获得性能优良的耐热高分子,所得结果已陆续报道。     

Sm2O3对CuO-γ-Al2O3催化剂性能的影响

在色谱微反流动法实验装置上考察了负载Ｓｍ２Ｏ３对ＣｕＯγＡｌ２Ｏ３催化剂ＣＯ氧化活性的影响，并运用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、程序升温还原（ＴＰＲ）及程序升温脱附（ＴＰＤＭＳ）技术研究了Ｓｍ２Ｏ３对ＣｕＯγＡｌ２Ｏ３催化剂的物相结构、氧化还原特性及表面氧的脱附与恢复行为的影响。结果表明，负载适量的Ｓｍ２Ｏ３对ＣｕＯγＡｌ２Ｏ３催化剂表面氧的脱出与恢复有促进作用，可使部分γＡｌ２Ｏ３相变成γＡｌ２Ｏ３和θＡｌ２Ｏ３的混合型。负载适量的Ｓｍ２Ｏ３能改善催化活性，而负载过量的Ｓｍ２Ｏ３则使ＣｕＯ催化剂上ＣｕＯ的晶粒增大，从而对催化活性起了抑制作用。     

重水溶液中稀土—吡啶-2,6-二羧酸配合物的第二配位圈~lH NMR顺磁位移

第二配位圈概念是将内层配位圈看成一个实体而提出来的.关于金属离子第二配位圈的NMR研究已有不少报道.我们在对稀土—吡啶-2,6-二羧酸(DPA)配合。物Ln(DPA)_3进行NMR研究的同时,观察到了由溶剂分子形成的第二配位圈的顺磁位移效应. 实验实验过程已在前文报道.样品中稀土离子的浓度为0.05±0.01mol·dm~(-3),稀土离子与配体DPA的摩尔比为1:4.所用仪器为Varian XL-200谱仪(超导磁体,平行场)和Bruker WP-80谱仪(电磁铁,垂直场).室温下测试.溶剂D_2O中残留的~1H峰相对于外标H_2O的变化列于表1.     

光学陀螺背向散射问题综述(特邀)EI北大核心CSCD

光学陀螺作为光电惯性导航系统的核心器件,在众多领域发挥着举足轻重的作用。随着科学技术的不断进步,传统的激光陀螺、轻质化的光纤陀螺以及集成化的微光陀螺齐头并进、蓬勃发展,但无论是哪一种陀螺样式,在性能优化的过程之中都不可避免地需要考虑背向散射的问题。背向散射是光学陀螺中的一种噪声源,其会带来陀螺的输出偏置或闭锁效应,从而影响其性能。为了更好地理解光学陀螺中的背向散射机制,首先从半经典理论下的自洽方程组出发讨论背向散射的基本原理,而后依照光学陀螺的发展脉络,分析各种光学陀螺的背向散射分析方法、测量手段以及抑制方法,最后对目前光学陀螺中有关背向散射亟待解决的问题进行总结并展望。