一个高密度连续射流团簇离子束源

根据在喷嘴出口附近电子枪来电离产生离子种子，在射流中形成连续，高密度的团簇离子束的设计思想，建造了连续的团簇离子束源，探索并优化了影响团簇离子束质量的因素，如电子枪的位置，滤束器的结构，滤束器与喷嘴间的距离等，初步研究了进气配对比氮氩团簇离子形成的影响，以氩气作为载体，适量的氮气，有助于Ａｒ－Ｎ＾＋２的形成。     

射频阱中C^＋n（n=3,4,5）同O2的化学反应

利用激光溅射的方法，在射频离子阱中产生并囚禁了Ｃｎ＾＋（ｎ＝３，４，５）进而利用了子阱的质量选择存储和离子存储时间长等特点，在其中开展了Ｃ＾＋ｎ同Ｏ２的化学反应研究，得到了反应物的速率常数和反应产物分支比，根据热化学计算，分析了反应进行的主要通道。     

溶胶-凝胶制备技术与新型催化材料Ⅲ.溶胶粒子表面修饰方法制备催化膜

提出用溶胶粒子表面修饰方法，结合溶胶凝胶技术制备无机催化膜．该方法的基本原理是利用合适的金属配合物在胶粒表面的吸附作用，经溶胶凝胶过程，将活性组分结合到无机膜中．实验测定结果表明：（ＮｉＥＤＴＡ）２－，ＶＯ－３，ＭｏＯ２－４，（Ｐｄ（ＮＨ３）４）２＋，ＰｄＣｌ２－４，ＰｔＣｌ２－６和ＲｈＣｌ３－６可用来修饰ＡｌＯＯＨ溶胶．以Ｐｄ／γＡｌ２Ｏ３催化膜的制备为例，经三次溶胶凝胶过程，可制得无裂缺的厚度为９μｍ的Ｐｄ／γＡｌ２Ｏ３催化膜，膜材料的平均孔直径为６ｎｍ，Ｐｄ被均匀地分布在膜的顶层，其平均粒径为２３ｎｍ．     

New ESR-Electrochemical Cell Designs for Coaxial Microwave Cavity

本文报道了一种适用于同轴微波腔的新型ＥＳＲ—电化学池的设计。工作电极的长度可调节，部分屏蔽微波辐射的功能由上下两个屏蔽套承担。除了传统的螺线管，工作电极还可由打孔的金属筒、金属网、甚至复合材料制成。对电极可根据需要置于共振腔的外面或里面。总之，新设计灵活实用，适合更多的研究场合。本文列举了一些应用实例。     

微分方程在混合问题中的应用

在科学研究工作中,经常要在各种各样的系统中进行实验.输入系统的可能是一种或几种原料的混合液,而输出的则是生成物的混合液,问题为要求我们计算出系统中某个量的变     

采用半导体器件的高压纳秒脉冲电路

本文介绍用于产生δ-函数、矩形和指数衰减形大幅度纳秒脉冲的各种实用电路.实验结果表明,仅用半导体器件也能产生高压纳秒脉冲.文中还指出了这些高压快速脉冲在诸如激光、高速摄影、大功率元器件瞬态响应测量等一些十分重要技术领域的应用.     

COATES GRAPH APPROACH FOR GENERATING SYMBOLIC NETWORK FUNCTION

In this paper, symbolic code matrix ,constant matrix and count matrix are defined .The first twomatrices are used to describe the elemental expression of augmented matrix and the nede admittance equa-tion is thus obtained. The third matrix is used to obtain the incoming degree matrix, and according to thematrix all the 1- factors of the Coates graph are given. By using the data code, the determinant is expandedand the same items in the expansion are merged. Thus the symbolic network function in which no term can-cellation occurs is generated.     

钨的热壁低压选择性化学气相淀积

超大规模集成电路需要低阻互连和低阻接触,为此我们研究了热壁低压选择性化学气相淀积钨的新工艺.该工艺能选择性地把钨淀积在接触窗口、栅及其互连线、源漏上而不淀积在周围的氧化层上.钨膜纯度高,电阻率低,与n~+、P~+单晶硅及n~+多晶硅接触电阻小.因此是超大规模集成电路较理想的新工艺和新材料.