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<正> “863”,高技术! “863”精神:“团结、献身、求实、创新”! “863”,它将造就一支自觉献身、勇于创新、苦干实干、团结奋斗的队伍! 机电部13所光荣地承担了“863”任务,承担了“光电子器件及光电子微电子系统集成”中的任务。通过科技攻关,完成了预定的阶段项目,与此同时培养了一支勇于攻坚、善于攻坚的科研集体。这次提交鉴定和验收的项目共有两个子系统,十七个模块,共十九项科研成果。 1.140Mb/s混合集成光发射盘; 2.140Mb/s混合集成光接收盘; 3.140Mb/s混合集成LD驱动模块; 4.140Mb/s混合集成LD APC模块; 相似文献
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本文通过对 GaAsMESFET 直流特性的理论分析,提出一个能起衡量 GaAsMESFET 微波特性作用的低频优值。并借助电子计算机,计算了各种栅长下的低频优值,以及它们与栅偏压的函数关系,确定出低频优值与沟道参数的关系,明确了提高低频优值的途径,最后论证了低频优值与微波特性(特别是噪声系数)的相关性。 相似文献
93.
本文提出了一种新的HEMT器件非线性CAD模拟方法,即可以利用PSPICE程序中GaAsMESFET的非线性CAD模型(Statz模型)对HEMT器件进行非线性模拟,并用实验验证了这种方法的正确性。 相似文献
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当距离尺度在十分之几微米量级时,在硅和砷化镓器件中可能发生电子和空穴的“弹道”(Ballistic)传输,这种传输不会受到品格本身、晶格缺陷、杂质或界面互作用的障碍,即近似一个子弹在自由空间中运动一样。由于没有受这些互作用影响的“阻碍”,载流子可以达到几倍于大尺寸器件时的速度,结果是器件的工作速度倍增。尽管纯弹道传输是很难达到的,但是当器件尺寸逼近载流子的平均自由程时,器件速度还是会有所提高。本文要讨论很薄器件中电子传输的本质,在此薄器件中通常描述的材料的速度-电场关系不再适用。 相似文献
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96.
97.
98.
99.
一种抗辐射加固功率器件──VDMNOSFET 总被引:1,自引:0,他引:1
采用 Si3N4- Si O2 双层栅介质及自对准重掺杂浅结 P+区研制出了一种抗辐射加固功率器件—— VDMNOS-FET (垂直双扩散金属 -氮化物 -氧化物 -半导体场效应晶体管 ) .给出了该器件的电离辐射效应及瞬态大剂量辐射的实验数据 ,与常规 VDMOSFET相比获得了良好的抗辐射性能 .对研制的 2 0 0 V VDMNOSFET,在栅偏压 +10 V,γ 总剂量为 1Mrad (Si)时 ,其阈值电压仅漂移了 - 0 .5 V,跨导下降了 10 % .在 γ瞬态剂量率达 1× 10 1 2 rad(Si) /s时 ,器件未发生烧毁失效 .实验结果证明 Si3N4- Si O2 双层栅介质及自对准重掺杂浅结 P+区显著地改善了功率 MOS器件的 相似文献
100.