采用气体等离子体制作掩模

一、引言最近,气体等离子体被用于大规模集成电路制片工艺中,其实用性已有许多报导,另外,在照相制版工艺使用的光掩模的制作上也采用气体等离子体,并研究了把工艺的一部分干式化。本报告发表了在使用气体等离子体制作掩模工艺中(尤其是关于图形尺寸的精度和图形缺陷发生率、其曝光条件以及腐蚀条件的依赖关系)的研究结果。     

写磁头对记录介质中输出信号的影响

在对垂直二层膜介质的输出信号随时间衰减的实验测试中,发现当使用单磁极磁头兼作读写磁头时,输出电压的变化量很大.通过对这一现象的研究发现,影响介质退磁的外界原因主要有磁头主磁极膜磁畴的不稳定性和信号读出过程中主磁极对外界游离磁场的汇集吸收作用.同时提出了解决方案 关键词： 衰减 垂直二层膜介质 单磁极磁头 磁畴     

电子标签——物流信息化的重要手段

近些年来,自动识别技术在服务、制造业、商业及物流等很多领域中得到了快速的推广应用。随着计算机技术、大规模集成电路技术以及无线电技术的发展,电子标签(RFID tags)系统或称射频识别(RFID)技术,使IC卡解决了“无源”和“免接触”两大难题,因其可以用来追踪和管理几乎所有的     

酷词探讨

许多新词己经在字典中可查到,但理解其含义却不易。本期开辟这个小栏目,旨在与业内人士共同探讨一些常见新词的含义,及一些相关词的区别。     

能谱涨落统计的动力学理论

本文综述了近年来能谱涨落统计研究了中已崭露头角的动力学理论概貌，评述了其基本出发点、理论核心及新近发展，包括作者在这一领域内所进行的某些探索性工作。     

用于5英寸圆片的掩模对准技术

年轻的集成电路技术,其技术革新快,并且经济效果大。目前人们正以片子的大型化和图形的微细化手段提高集成度,追求其经济效果。本文叙述一下卡诺公司为实现最经济的2微米掩模对准技术而研制的“卡诺PLA-500FA”设备。该设备的优点在于能使接近式、软接触式、接触式三种曝光方式互相转换,能根据所需要的分辨率选择曝光方式。此外,又由于采用深紫外线光源,选择接近式能曝光2微米的线条,选用接触式能曝光亚微米图形。再者,设备上还装有激光束扫描的高精度检测自动对准系统。程序控制采用微电子计算机,从而提高了可靠性和保证系统的运     

不连续类氧化层界面多晶硅发射极晶体管理论模型

本文提出了一个不连续类氧化层界面多晶硅发射极晶体管理论模型,根据多晶/单晶硅界面的性质空穴分别以隧道方式或热发射方式通过界面的不同部位.计算机模拟的结果得到了类氧化层界面的连续性、多晶硅膜厚、类氧化层两边的界面态密度、类氧化层厚度和多晶/单晶硅界面杂质浓度峰值等参数与多晶硅发射极晶体管(PET)电学特性的关系.     

有机磁性材料的磁损耗与微波电子器件的开发

与铁氧体比较,所合成的有机磁性材料在很宽的温度范围(-271.5～120℃)内磁性能十分稳定,在高频、微波下低磁损,重量轻,易热压成型,其导磁率(μ')和磁损耗(μ")基本不随使用频率和温度而变化,因此,适于制作许多高频、微波电子器件。