番茄挥发物组分分析及其对番茄灰霉病菌的熏蒸抑菌作用

为了明确番茄不同部位的挥发物组分和番茄挥发物主要组分对番茄灰霉病菌的熏蒸抑菌作用。本试验采用HS-SPME-GC-MS法分析鉴定番茄花、果、叶的挥发物组分,并测定了主要共有组分桧烯和异松油烯对番茄灰霉病菌的熏蒸抑制作用。结果显示,番茄花、果、叶的共有组分为桧烯、异松油烯、α-水芹烯和α-蒎烯。桧烯在番茄花、果实、叶中含量分别为67.302%、57.761%和65.956%;异松油烯在番茄花、果实、叶中含量分别为10.570%、14.486%和10.836%。熏蒸抑菌试验发现,桧烯对番茄灰霉病菌抑制作用不明显,异松油烯对番茄灰霉病菌有较好的熏蒸抑制作用,EC₅₀为70.61μL·L^-1,EC₉₀为223.58μL·L^-1。松油烯处理后的番茄灰霉菌菌丝崩溃断裂,细胞结构受损明显。本试验为开发新型天然杀菌剂提供了依据。     

准确操控摄像机 努力提高电视节目技术质量

立足实际应用,对于通过对摄像机的准确调整,来提高电视节目技术质量的重要性以及相关具体的操作方法,谈了作者在实践中得到的几点理解与体会.     

Toeplitz预条件子的统一构造与性能分析

１．引言考虑线性方程组ＴＮｘ＝ｂ（１．１）其中ＴＮ＝（ｔｉ,ｊ）是ＮｘＮ对称正定（ＳＰＤ）Ｔｏｅｐｌｉｔｚ矩阵,即ｔｉ,ｊ＝ｔ｜ｉ－ｊ｜（ｉ,ｊ＝０,１,...,Ｎ－１）且ＴＮ的所有特征值均为正数,并表为ＴＮ：＝Ｔ（ｔ。,ｔｉ,...,ｔＮ－１）．如果我们用预条件子共轭梯度法（ＰＣＧ）求解方程组（１．１）,最关健的任务是构造出高效的预条件子．而预条件子最自然的选择似乎其逆矩阵易求且构成矩阵ＴＮ的某种最优逼近．由于循环矩阵ＣＮ的逆矩阵ＣＲ'仍为循环矩阵,因此ＣＮ和ＣＨ'与向量的乘积可通ｉｓ速Ｆｏｕｒｉｅｒ…     

索尼超高速CMOS传感器颠覆传统数码相机概念

2006年2月8日,索尼在“ISSCC2006”上发布的CMOS传感器给数码相机开发者带来了巨大冲击。该公司此次主要发布了2款产品:一款是640万像素、最高帧速率达60f/s的样品A,另一款是276万像素、最高帧速率达180f/s的样品B。据日本某摄像元件厂商的技术人员介绍,这些产品的像素数据输出速率快得超出想象,令数码相机开发者感到相当震惊。索尼此次发布的C M O S传感器的输出速率是现有300万～600万像素家用CCD相机的20倍～60倍。与4K数字电影相比,样品A的输出速率为其1.5倍,样品B的输出速率为其2倍(见图1)。该技术人员还表示:“我们曾经以为C…     

电子回旋共振离子源（ECR）述评

本文论证了电子回旋共振离子源(ECR)的工作原理及其特点,介绍了ECR的历史现状及其发展前景。     

任意长—维DFT的MIMD并行算法

本文提出了共享与分布式存储计算机上任意长—维ＤＦＴ的ＭＩＭＤ并行算法，若Ｎ＝Ｏ（ｐ，ｑ），则算法需要次算术运算。其中，Ｐ与Ｎ可为任意自然数，分别表示处理机台数与ＤＦＴ长度．本文算法具有很高的并行效率．     

用有限元法分析多波导耦合系统本征模的模式特性

本文应用有限元法(FEM),计算和分析了多波导耦合系统的本征模(超模)的模式特性及其变化规律,得到了强度均匀分布的基超模,克服了微扰理论计算这类问题的局限性.     

CCD彩色摄像机及其特性

<正> 1970年3月在IEEE国际会议上,贝尔实验室口头发表了有关CCD(电荷耦合器件)的消息,十年之后彩色摄像机才开始在世界上进入实用化阶段,这就是1980年发表的索尼空中观察系统彩色摄像机「XC-1」,并被“全日空”航空公司采用。该机为了通过运输省航空局的规范试验,采用了航空飞机的高性能规范,规范认为试验包括:-40℃～+71℃的温度试验、-1000～30,000英尺的高度试验、两昼夜的高湿、高温循环、振动、冲击、灵敏性、抗干扰和耐火性能等试验。     

改进的同步迭代算法在光声血管成像中的应用

光声成像结合了光学成像和声学成像的优点，是一种高分辨率，高对比度的无损伤医学成像技术.一种改进的同步迭代算法应用于光声图像重建.仿真和模拟结果表明，与传统的代数迭代算法相比，在90°，135°，180°的有限场光声成像中，此算法对测量误差的校正和迭代次数的收敛上具有较大的优势，图像重建的速度和成像质量都有了明显的提高.实验中，一种圆形扫描结构的光声成像装置，用于180°的有限场扫描，利用改进的同步迭代算法，重建出了高对比度和高分辨率（60μm）的鸡胚胎光声血管图像.实验证明，这种算法的应用，大幅度减少了数据采集时间，为光声成像技术运用于实时监测血流灌注和肿瘤光动力治疗的血管损伤效应提供了潜在的应用价值. 关键词： 光声成像 有限角度 代数迭代算法 光声血管成像     

（Ti,Al）N Film on Normalized T8 Carbon Tool Steel Prepared by Pulsed High Energy Density Plasma Technique

Under optimized operating parameters, a hard and wear resistant （Ti,Al）N film is prepared on a normalized T8 carbon tool steel substrate by using pulsed high energy density plasma technique. Microstructure and composition of the film are analysed by x-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and scanning electron microscopy. Hardness profile and tribological properties of the film are tested with nano- indenter and ring-on-ring wear tester, respectively. The tested results show that the microstructure of the film is dense ahd uniform and is mainly composed of （Ti,Al）N and A1N hard phases. A wide transition interface exists between the film and the normalized T8 carbon tool steel substrate. Thickness of the film is about lO00nm and mean hardness value of the film is about 26 GPa. Under dry sliding wear test conditions, relative wear resistance of the （Ti, Al）N film is approximately 9 times higher than that of the hardened T8 carbon tool steel reference sample. Meanwhile, the （Ti,Al）N film has low and stable friction coefficient compared with the hardened T8 carbon tool steel reference sample.