场发射阵列发射性能下降机制分析

场发射阵列（FEA）发射性能的下降是场发射显示（FED）研究中普遍遇到的一个问题，研究FEA发射性能下降的机制对于推进FED进展具有重要意义。阴极氧化、溅射损伤和离子注入是目前提出的三种解释。对这三种解释进行了进一步的分析和讨论，认为目前的实验工作还不足以充分说明哪种机制在FEA发射性能下降中占据主导地位，并提出了进一步的实验研究的方向和内容。     

荫罩式彩显管电子束斑测量技术的研究

本文提出了实时地,真实地再现荫罩式彩显管电子束斑的原理和方法;描述了系统的硬件组成;微偏转系统的要求和设计原则;     

双束投影管测试台的研制

介绍了双束投影管测试台的性能指标和相关的特殊电路。