基于隔帧差分向量无穷范数的运动点目标检测

提出了隔帧差分向量无穷范数检测运动目标的数学模型,建立了能够充分发挥该模型能力的并行处理结构体系。由于算法以隔帧差分为基础,所以处理系统不仅能够探测到帧间位移不小于1个像元的点目标,而足可以探测列帧间位移小于1个像元而多帧累积位移大子1个像元的运动点目标,使算法探测与识别目标的能力大大提高。实验结果表明了算法的有效性。     

大圆片级制造0.2μm线宽的移相光刻技术

<正>据美国《Semiconductor International》1992年第6期报道,日本夏普公司研究成功大圆片级制造0.2μm线宽的移相光刻技术,它将应用于从64Mb到256MbDRAM的制造。随着电路集成度的提高,线宽不断减小,制造4 Mb DRAM需要线宽为0.8μm,而64Mb到256Mb则需线宽0.3～0.2 μm。     

关注电磁学相关物理效应的教学

本文提出在"电磁场理论"和"电磁场与电磁波"课程教学中关注电磁学相关物理效应,并分析其必要性和可行性。关注电磁学效应的教学,将有助于学生对电磁场与电磁波相关基本概念和定理的理解,有利于提高学生的创新研究能力,有助于激发学生的学习兴趣和科研热情。在本课程教学过程中,可根据不同专业的需要和教学内容的相关性等,适当选讲具有一定理论和实际意义的电磁学效应。     

基于LabVIEW的电机转速监测系统的设计

在电机控制系统中,转速测量的精确度、实时性和稳定性直接影响电机调速系统的性能。文中设计了一种基于LabVIEW软件平台的电机转速监测系统,选择绝对式光电编码器和单片机作为前端转速信号的采集系统,通过RS-232串口通信将数据传送至上位机;利用LabVIEW的数据处理和显示功能,对转速信号进行实时地处理、显示和保存。该设计在开关磁阻电机调速系统中进行了实验测试,结果证明,该方法人机界面良好、测速范围宽、精度高、响应速度快、抗干扰能力强。     

多谱段线列红外探测器读出电路设计优化

集成电路制造技术的发展使单芯片集成多谱段红外探测器成为可能,其中长线列红外探测器读出电路设计遇到的挑战之一就是寄生效应。针对一款多谱段长线列用读出电路在最小积分电容时行间输出电平差异显著,导致成像出现明暗条纹的现象进行了测试分析,得出复杂的电路版图寄生效应是主要原因。通过优化设计及流片验证,解决了寄生效应导致的成像明暗条纹问题。     

浅析计算机先进图像特征提取技术的发展

本文对图像特征提取技术的发展进行了介绍,分别就图像的颜色特征提取和纹理特征提取进行了说明比较。颜色和纹理在图像中都是非常重要的视觉特征,基于这两者的图像特征提取技术层出不穷,对这些技术进行分析总结,有助于新技术新方法的产生发展。实际图像特征应用中,颜色特征和纹理特征的提取是相辅相成,缺一不可的。学习分析这两种特征提取技术,将其合理结合,能更好地实现图像特征的提取。     

串联机械臂及视觉控制探究

本文从串联机器人和视觉技术的应用方面,对机器人如何通过视觉完成复杂的包装工作进行探究.     

高隔离度微带阵列天线的设计

提出了一种通过增加曲折开槽谐振器来增强阵列天线单元间隔离度的方法。首先设计了一款应用于802.11ac(5.17~5.29 GHz)频段移动终端的天线,在其阵列单元间添加一个曲折的开槽谐振器,此谐振器具有带阻特性,能有效降低天线单元间的互耦,增强天线单元间的隔离度,并利用HFSS软件对微带阵列天线进行了仿真与优化。仿真结果显示,增加了开槽谐振器后天线的隔离度增强了11.31 dB,隔离度达到了–29.4 dB,驻波比VSWR小于1.35,S11小于–16 dB,S21达到了–26 dB,满足天线的要求。     

4-[(E)-2-(3, 4-二甲氧基苯基)乙烯基]苯氧基乙酸乙酯的合成及其NMR研究

以对硝基甲苯、3, 4-二甲氧基苯甲醛为起始原料,经过缩合,还原,重氮化水解,亲核取代反应,最终合成了新的化合物4-[(E)-2-(3, 4-二甲氧基苯基)乙烯基]苯氧基乙酸乙酯,用¹H 和¹³C NMR及多种二维核磁共振谱确定了该化合物的结构,完成了¹H 和¹³C NMR的归属,给出了分子中各氢,碳原子的准确化学位移.     

高频采样下人眼波像差特性研究

为提高自适应光学人眼波像差校正和视网膜成像效果,研究了人眼动态波像差的特性。利用采样频率为300Hz、曝光时间为3ms的哈特曼传感器,搭建波像差探测系统。误差分析和模拟人眼实验表明,该系统对动态波像差的测量误差均方根(RMS)均值仅为0.01λ。人眼波像差探测结果表明,人眼存在150Hz以上的波像差,可能对自适应波像差校正造成影响。这种影响可通过延长探测和成像曝光时间的方法来抑制。为了达到衍射极限,对于稳定盯视状态下的人眼,3ms探测曝光、探测校正周期不超过45ms的自适应系统,其校正残差均方根在λ/14以下;当曝光时间增加到6ms时,该周期可放宽至62ms。研究了倾斜像差的波动对成像的影响,确定了高分辨率人眼眼底成像中,成像曝光时间最长不能超过9ms。上述结果表明,将自适应光学视网膜成像的探测曝光与成像曝光时间均定在6ms左右,可获得更好的校正和成像效果。