XEA枪聚焦性能研究

日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品，形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品，用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能，保证大屏幕纯平面彩管的品位，日立公司最近开发出新一代XEA电子枪，本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟，对该优异性能的内在原因进行了分析和研究。     

全息拼接光栅的误差研究

为了制作大面积拼接光栅,对全息光栅拼接误差进行了分析。利用参考光栅与光场光栅形成的莫尔条纹来控制拼接光栅位置和误差,确定了参考光栅莫尔条纹间距、倾斜度及相位与拼接光栅位置之间的关系。研究了参考光栅面和拼接光栅基片不平行时莫尔条纹与拼接光栅条纹的相位一致性,计算了光程差漂移对拼接光栅相位对准误差的影响,分析了工作平台移动对光栅拼接误差的影响。得出光栅拼接总误差为0.15λ,该误差接近光栅拼接精度要求,通过实验验证了全息光栅拼接误差分析的正确性。结果表明,利用参考光栅进行全息光栅拼接是可行的。全息拼接光栅的误差分析为制作米量级高精度拼接光栅提供了理论支持。     

高分辨率平场全息凹面光栅的研制

提出一种利用ZEMAX软件设计、分析评价平场全息凹面光栅的方法。该方法不需要求解复杂的高级像差方程组,兼顾平像场和提高分辨率的效果显著。ZEMAX软件能对设计结果迅速进行评价,减少了人工运算,提高了设计结果的可信度及工作效率。研制了直径Ф=60mm、F／#=3．3和使用波长范围为652～704nm的全息凹面光栅,对设计结果分析表明：在点光源再现情况下,理论分辨率优于0．1nm;在宽度为30μm缝光源再现情况下,理论分辨率优于0．2nm。实际研制结果与理论分析相符。     

65cm彩管平板荫罩发辨率的提高

荫罩是彩色显像管的重要部件,本文详细介绍了提高64cm平面直角（FS）彩色显借管用于平板荫罩分辨率计算方法和计算结果,在不影响旧透过率和强度,又不用制作新的荫罩成形模具有以及彩管的其它部件的情况下,水平节距从原来的0.71mm降低到0.57mm,彩管的分辨纺从原来的587线提高到727线,而亮度及色纯等整管参数跟现行64cm彩管基本相同,可以更好的接受VGA信号,DVD图像以及电视节目。     

大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同电流下聚焦的稳定性都有较大的影响。     

用平凸透镜制作大口径光栅的像差分析

分析使用两个对称的单平凸透镜光路制作光栅并用MATLAB编写光线追迹程序分析了所制作的光栅的衍射波像差的特点,经计算得出在较小焦比D/F情况下其衍射波像差仅与两支光路点光源的调节偏差之差有关与单独的各个偏差无关;初级像差中球差很小几乎可忽略:彗差仅与垂轴调节偏差之差成线性关系;像散仅与轴向调节偏差之差成正比;且当平凸透镜的焦比D/F增大时,各像差项迅速增大.点光源调节偏差一致时的衍射波像差随着系统的焦比D/F增大而迅速增大,并分析了当透镜的焦比D/F一定时,透镜的焦距与所制作的光栅的空间频率对衍射波像差的影响.     

超高能伽马射线的天体物理起源

中国大科学装置之一的高海拔宇宙线观测站开创了超高能伽马射线天文学的新时代,至今已作出多项重要的科学发现,为人们破解银河系宇宙线起源之谜带来了关键线索,并为研究极端天体中的极端物理过程提供了独特的探针。文章主要介绍其探测到的超高能伽马射线源,以及相关天体的物理图像。     

光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验

为了控制光刻胶全息光栅显影过程,建立了槽形演化和衍射效率模型,模拟了槽形演化和衍射效率曲线,分析了显影监测曲线的特征和规律。并将模拟槽形和实验槽形、模拟监测曲线和实验监测曲线进行对比,均很好地吻合。结果表明衍射效率的监测对把握显影过程停显时刻、控制掩摸槽形非常有效。     

日立公司最新电子枪技术

对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论. 聚焦对比实验显示出日立公司新一代电子枪具有优越的聚焦性能.