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In this paper,the cell face velocities in the discretization of the continuity equation,the momentum equation,and the scalar equation of a non-staggered grid system are calculated and discussed.Both the momentum interpolation and the linear interpolation are adopted to evaluate the coefficients in the discretized momentum and scalar equations.Their performances are compared.When the linear interpolation is used to calculate the coefficients,the mass residual term in the coefficients must be dropped to maintain the accuracy and convergence rate of the solution. 相似文献
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采用传统固相反应法以V2O5为V5+掺杂源合成制备了CaCu3Ti4-xVxO12(CCTVO,x=0;,1;,3;,5;)陶瓷粉体,研究了V掺杂量对CaCu3Ti4O12(CCTO)物相低温合成及其低温烧结性能的影响,并对V掺杂CCTO陶瓷的低温合成机理和烧结机理进行了分析.XRD结果表明:当V掺杂量为≥1;时,在870℃煅烧20h可以完全获得CCTO物相,而未掺杂的样品则含有明显杂相,这说明V掺杂可以实现CCTO物相在低温下的合成制备.但差热分析表明,V掺杂后会提高CCTO发生固相反应的起始温度.分析认为低温下之所以实现CCTO的制备主要得益于V掺杂后会在高温煅烧过程中形成液相而增强了扩散气质和热传递效应.V掺杂量为3;的粉体在920℃相对较低温度下烧结后,具有较大的晶粒尺寸和高达92.4;的致密度,所得陶瓷在20Hz的低频率下介电常数高达2.28×105. 相似文献
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测定氟苯、邻氟甲苯、对氟甲苯及三氟甲苯经F19(γ,n)F18核反应后的化学状态,有机保留百分值分别为39,33,39和47;在照射前加入0.2克分子分数苯胺后,保留值分别降到20,24,20和27。固体对氟苯甲酸的保留为15,3M对氟苯甲酸呲啶溶液为零。测定氟、氯、溴和碘四种卤代苯经(γ,n)核反应产生的氟-18、氯-34、溴-78和碘-126的化学状态,保留值分别为39,74,51和>51,母体保留值分别为19,41,36和>41。并用弹性碰撞理论解释有机氟化物的母体保留占总保留的百分比小于氯、溴和碘的相应化合物的原因。用氟苯及其乙醇溶液、对氟甲苯和对氟苯甲酸等化合物体系,比较F19(γ,n)F18和F19(n,2n)F18核反应的化学效应。结果说明“热”原子的过剩能量对最终的化学状态无显著的贡献。测定氯、溴、碘三种卤代苯的(n,γ)核反应产生的氯-38、溴-80、碘-128的保留值,并与(γ,n)反应产物作相应的对比,结果同样说明无显著的能量效应。测定氟硼酸钠及其水溶液的(γ,n)产物氟-18的化学状态,保留分别为88和0。用芳基氟和氟硼酸钠可制备高比度的无机氟-18离子。浓集系数的数量级分别为103和102。 相似文献
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采用低压化学气相沉积法(LPCVD)在制绒的单晶硅片衬底上制备了B掺杂ZnO(BZO)的透明导电薄膜,研究了B2H6掺杂量、沉积时间对BZO薄膜的微观形貌、导电性能及光学减反性能的影响.结果表明,在制绒单晶硅片衬底上制备的BZO薄膜均呈现“类金字塔”的绒面结构,其平均晶粒尺寸在200 ~ 500 nm之间,并随B2H6掺杂量增加而减小;BZO薄膜的方阻随沉积时间的增加而呈线性迅速减小的趋势,当沉积时间为420 s时,BZO薄膜的方块电阻低至28 Ω/□;在制绒单晶硅片上制备BZO薄膜后,表面平均反射率由15;明显降低至5;左右,表现出优异的光学减反性能. 相似文献
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