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41.
探讨了相对分子质量不同的聚乙烯吡咯烷酮对多元醇法制备银纳米结构的影响,采用扫描电镜和X射线衍射仪对样品进行了表征及分析,并用紫外可见分光光度计研究了粒子的光学性质。实验结果表明:在相同的实验条件下,不同相对分子质量聚乙烯吡咯烷酮将得到不同形貌的银纳米粒子;相对分子质量为1×104的聚乙烯吡咯烷酮得到的银纳米线产率最大,随着聚乙烯吡咯烷酮相对分子质量增加,银纳米线将减少,相应的银纳米立方体将增多。  相似文献   
42.
设计了一个综合实验,将“聚集诱导发光(AIE)”“分子机器”等科学前沿问题引入实验教学。该实验将化合物合成、荧光性能表征和化学动力学测试相结合,集有机化学、分析化学和物理化学相关内容于一体。通过课堂讲解和拓展阅读,使学生了解“分子机器”的基本概念,熟悉AIE现象产生的机理,提升学生利用理论知识解决实际问题的能力。本实验项目所需仪器简单、原料廉价、安全性高,适合于不同层次院校的本科实验教学。本实验项目基本学时为4学时,具有良好的可拓展性,建议在第五学期开设。更重要的是,本实验项目将课程思政与实验教学相结合,通过对AIE这一由中国人原创的科学理论的学习,增强学生的民族自豪感和自信心,激发学习热情。  相似文献   
43.
采用腐蚀去合金化方法制备纳米多孔铜材料。研究了固溶时间、腐蚀时间及腐蚀温度对纳米多孔铜表面形貌及残余Mn含量的影响。研究表明:由于固溶时间的延长,合金成分越来越均匀化,去合金化后所得纳米多孔铜的残余Mn原子分数降低。固溶95 h的前驱体合金,随着腐蚀时间的延长,其残余Mn含量降低不明显;随着温度的升高,其残余Mn原子分数由25 ℃的3.54%降至60℃的1.14%,但是60 ℃腐蚀后的孔隙与丝径尺寸明显粗化,样品易碎。通过调整去合金化参数,实验所制备的纳米多孔铜呈现均匀的海绵状纳米多孔结构,残余Mn原子分数1.23%, 平均丝径尺寸40 nm。  相似文献   
44.
王阁藩  刘博  李恺  王金婵 《电子器件》2023,46(6):1474-1479
动态比较器在高速高精度模数转换器中至关重要,针对失调和回踢噪声等指标,提出了一种可有效抑制回踢噪声的低失调电压高频动态比较器。所提出的比较器在预放大器中增加一对交叉耦合的MOS电容,中和输出节点的寄生电容,从而抑制回踢噪声,稳定高频输入信号;将锁存器的单尾电流源改为差分双尾源结构,同时跨接一个钟控MOS开关,有效实现了失调电压的抑制以及复位和再生的加速。采用TSMC 40 nm/0.9 V标准CMOS工艺和Cadence Spectre工具,对比较器的输入、失调、延迟和功耗特性进行分析仿真。结果表明:在1 GHz高频采样时钟频率和输入差模电压50 mV的条件下,回踢噪声和失调电压分别减小到22.297 mV和11μV,两种非理想特性被显著抑制;整体比较器的延时时间仅为0.061 ns,功耗为23.3μW,在高速高频Flash ADC、并行ADC等应用方向具有明显优势。  相似文献   
45.
设计合成了一种新型聚集诱导发光分子三苯乙烯炔金-三苯基膦(1).1溶解在DMSO中几乎无荧光,在固体状态下具有明亮的蓝色荧光,表现出典型的聚集诱导发光性能.研究表明,其聚集诱导发光特性来自于限制分子内旋转机理.1在水溶液中表现出对Hg2+的荧光猝灭响应,并表现出良好的选择性和抗干扰能力.  相似文献   
46.
 采用多孔阳极氧化铝(AAO)模板脉冲电沉积法制备了强辐射源用铜纳米线阵列靶,并用扫描电子显微镜(SEM)、能谱(EDS)和X射线衍射(XRD)对其进行了结构表征。结果表明:去除AAO模板后铜纳米线平均直径比去除AAO模板前的平均孔径大32%,长度缩短5%。对电沉积2 000 s的样品进行铜纳米线长度分布表征,结果显示:距离模板圆心越远,铜纳米线越长。与超短脉冲激光相互作用实验结果表明:纳米线平均长度在18~50 μm范围内,铜Kα光子产额先随纳米线长度增加而增加,当长度大于33 μm时,铜Kα光子产额开始下降。  相似文献   
47.
 研究了烟火药激光器泵浦源传统配方Zr/KClO4中Zr粉粒径对该配方燃烧特性的影响。结果表明:Zr粉从61.375 μm减小到18.675 μm,Zr/KClO4混合物的点火温度从506.40 ℃降低到492.42 ℃,燃烧辐射脉宽由60 ms缩短到25 ms,峰值辐射强度增加1倍;在 200~1 100 nm波段内,随着Zr粉粒径的减小,可见光区内的辐射能所占的比例增强;针对掺钕激光介质的泵浦而言,Zr粉粒径为800目时,分布在激光介质的3个主要泵浦带内的辐射能最高,而且闪光脉宽最短。因此,在其它条件相同时,选择颗粒尺寸小的Zr粉有利于获得高的激光输出。  相似文献   
48.
空气静压电主轴是高速精密加工设备的关键部件之一,其工作稳定性直接影响整机的使用性能和寿命。从自激振动和转轴涡动两个方面,对空气静压电主轴稳定性的主要影响因素进行了分析研究;并结合空气静压电主轴在半导体封装设备晶圆减薄机和划切机上的应用,重点对气浮轴承内部气容比、节流塞形式、进气压力、径向轴承结构参数、径向轴承形状误差以及动平衡等方面提出了合理的优化建议和方法,这些建议和方法在实践中起到了良好作用。  相似文献   
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