采用SPCVD工艺制作的低氢氮氧化硅光纤

本文主要介绍Eugene M.Dianov等人采用无氢SPCVD工艺制作首批氮氧化硅光纤的工艺过程，并分析氮氧化硅光纤的性能。这种光纤在近红外区的最小损耗为几个dB/km。光纤芯中的氮含量达到3%。     

大气烟尘黑度的电视测量系统

一、概述环境监察是控制烟尘污染,保护大气环境的一个重要管理手段。控制烟尘污染,就是要求各类烟尘污染源不能超过国家规定的排放标准。因此在对烟尘源监察过程中,技术指标(烟气黑度和烟尘浓度)的测试是一个必不可少的环节。以往对烟尘源的环境监察多为单点源检查,使用仪器为林格曼烟气黑度表、望远镜式烟气黑度测试仪等,耗费人力、物力较多,效率极低,而且掌握区域烟尘源排放情况需要时间长。本文介绍的烟气黑度电视测量系统,既可对大     

钾蒸汽中由能量积聚效应产生的分子扩散带受激辐射

本文报道了在K2－K混合系统中由单光子共振激发原子于4P能级，通过4P原子的能量积聚效应及原子──分子的碰撞能量转移过程使分子在高位三重态获得布居，从而产生的扩散带受激辐射．至今已经发现了多种产生分子扩散带的机制．在钠分于中，由单光子或双光子激发销原子于3P能级或4D（或4F）能级，以及在宽波段范围内由可调谐激光双光子激发钠分子获得了紫区430．0nm附近的扩散带受激辐射以及360.0nm附近的扩散带受激辐射；对于锂分子，以双光子共振激发锂原子4S能级，产生蓝区扩散带受激辐射，以紫外单光子激发锂分子态或光-光双共振激发…     

真空微电子器件的栅极制造技术

本文详细地介绍了真空微电子栅极工艺制造的自剥离与无版光刻技术，并用这两种方法分别制造出了符合要求的栅极结构．在现有的条件下进行了栅控场致发射特性的测试，并通过实验曲线计算出了栅控场致发射的三个参数．     

新颖的TFT LCD制作工艺

日本三菱电气公司新近开发了 a-Si TFT 的新工艺,为实现高性能 TFT LCD 创造了条件。下面作一介绍。1.制作工艺(1)TFT 结构TFTs 具有反相交错结构,图1为a-Si TFT 的剖面图。TFT 的 W/L 比为12μm/12μm。TFT LCD 的象素节距是318μm(V)×106μm(H),开口率为60%。     

农村电话用户市场调查与分析

受中国电信委托、原邮电部经济技术发展研究中心在全国进行一次农村电信市场调查，以了解当前农村通信市场发展潜力，本文公布了此次调查的结果，从经济能力、资费和潜在市场等方面提出了发展农话的建议 。     

CDMA系统中的自适应门限检测技术

本文就码分多址(CDMA)系统解扩门限的选取,及其对系统性能的影响进行了讨论,提出了一种自适应门限检测技术,以提高系统的性能。     

用于多种组装技术的厚膜导体复合结构

厚膜导体Ｐｄ－Ａｇ／Ａｕ、Ｐｔ－Ｐｄ－Ａｕ／Ａｕ平面复合结构，Ｐｄ－Ａｇ／Ａｕ立体复合结构可使多种组装技术相互兼容。立体复合结构还可有效地降低导体线电阻，减少线损耗。而且，其超声键合性尤佳