百瓦级多芯片半导体激光器稳态热分析

半导体激光器在各领域的广泛应用要求其输出功率不断提高,使得多芯片集成封装大功率半导体激光器的发展成为主流之一。针对典型的12 只芯片以阶梯形式封装的百瓦级激光器,利用ANSYS 软件进行了稳态热分析,模拟得出芯片有源区温度及其热耦合温升与热沉结构尺寸变化的关系曲线,分析了该激光器热特性,进而提出一种使芯片散热较好的热沉结构。     

一种温度检测传感器的设计

路面传感器在公路交通领域有着极其重要的应用,它能够对路面状况信息进行监测及警报,从而大大提高公路交通的安全系数。温度检测传感器用于监测道路表面及下方一定深度处的温度,并结合其他传感器如水膜厚度、盐度传感器等对路面状态进行综合判断。论文主要介绍温度检测传感器的原理、电路结构、测试方法等,给出数据处理的改进方法,提高检测的准确性。     

基于TSPC的4/5双模前置分频器设计

针对无线传感网络对射频电路高速、低功耗方面日益增长的性能要求,设计了一款用于高频锁相环中的高速、低功耗4/5双模前置分频器。在分析真单相时钟(TSPC)电路工作原理的基础上,指出了该电路结构存在的两个主要缺点,并结合器件工艺和物理给出了相应的版图优化解决方法。然后,采用SMIC 0.18μm标准CMOS工艺,设计了一款基于这种改进后的真单相时钟电路的集成4/5双模前置分频器。在版图优化设计后利用Cadence Spectre进行了后仿真验证,结果表明,在直流电源电压1.8 V时,该4/5双模前置分频器的最高工作频率可达到3.4 GHz,总功耗仅有0.80 mW。该4/5双模前置分频器的最低输入幅值为0.2 V时,工作频率范围为20 MHz~2.5 GHz,能够满足面向无线传感网络应用的锁相环(PLL)的高速、低功耗性能要求。     

神经网络曲线拟合在温补晶振上的应用

石英晶振作为重要的频率源器件,其频率稳定度至关重要。但温度对石英晶振的影响很大。传统的微处理器温度补偿晶振中在拟合曲线时算法简单,导致软件引起的误差较大。利用了神经网络算法在曲线拟合上的应用,拟合出补偿电压与温度之间的函数关系,微处理器根据温度传感器采集的温度控制AD芯片产生补偿电压,从而使压控振荡电路输出稳定的频率的目的。实验结果表明:温度在-10⁸0℃时,频率稳定度达到±0.35 ppm,比未补偿时提高了近20倍,比其他曲线拟合方法得出的效果要好。     

新型机载光电平台内部载荷相对姿态测量方法

针对新型无人机载光电平台内部载荷的安装特点及三轴万向节支撑结构,提出了一种使用高精度距离传感器进行平台内部载荷相对姿态的测量方法。首先,利用偏心旋转的基本原理建立了偏心测角的数学模型,导出了利用偏心法进行小角度测量时角度与距离变化的近线性关系;然后,结合机载光电平台内部载荷相对外框架运动的特点,通过巧妙的偏心结构设计建立载荷沿方位与俯仰方向上相对姿态测量方案;利用双偏心球面及多传感器组合有效地消除了系统径跳等误差对测量精度的影响;最后,使用高精度传感器与本文的测量方法对测量方案进行了验证。理论分析与实验结果表明,本文测量方法简单可行,测量精度优于15″,测量带宽达1.24kHz,完全满足某新型机载光电平台载荷内姿态的测量要求。具有很好的应用价值。     

空调排风热回收与蒸发冷却相结合的应用

简述了空调排风热回收系统与蒸发冷却的基本原理,分析了两种技术相结合在节能和提高空气品质等方面的优点,介绍了几种将热回收和蒸发冷却技术相结合的空调系统,并分析了这些系统的工作原理和优缺点。     

点聚焦透镜天线焦斑附近波长延长

利用简易装置搭建“测量线”系统,采用驻波法测量了点聚焦透镜天线焦斑附近轴线上不同位置处的波长λF,与自由空间中的波长λ0相比,找出λF随轴向距离变化而变化的关系,并对该变化进行定性分析。通过对2种点聚焦透镜天线的测量,发现焦斑附近的波长λF较之自由空间中的波长λ0有0~5%的延长,且延长量随离焦点距离的增大而减小。最后对测试系统的精确度和误差源进行了分析。     

温室大棚多点温度采集系统的设计与实现

针对目前在温度采集电路中的不足,结合一般温室大棚的功能需求,提出了一种基于FPGA的多点温度采集系统,本系统采用HX—EP2C8-V5型FPGA开发板作为研发平台,以DS18820作为温度传感器,利用FIR滤波器实现对采集信号的去噪处理,实现对温室大棚内多点温度采集,当测量温度超过设定范围时,可实现自动报警。文章详细分析了系统功能需求,结合QuartusⅡ给出了温度定期及按键选择采集模块、DS18820温度采集模块以及FIR滤波器的仿真结果。     

高效节能型IDC机房建设浅谈

结合某通信运营商的实际机房案例,讲解如何建设高效节能的数据中心机房,并通过重点介绍空调系统,辅以介绍机房工艺、电力系统等方面的新技术运用,阐述了相关技术原理、实现过程以及最终的形态效果。     

EDA产业的革新

必须全面评估产品的价值，强调面向客户，并且适应全球化的趋向。