pH值响应性毒死蜱/铜席夫碱配合物改性SBA-15的制备及缓释性能

以3-氨丙基三乙氧基硅烷（APTES）、水杨醛和铜离子为改性剂,通过后嫁接法制得铜席夫碱配合物改性SBA-15（Cu-SBA-15）,并以毒死蜱为模型药物,制备了毒死蜱/铜席夫碱配合物改性SBA-15缓释体系。利用TEM、SEM、XRD、N₂吸附-脱附、TG、FTIR和XPS对SBA-15、氨基改性SBA-15（NH₂-SBA-15）、水杨醛希夫碱改性SBA-15（SA-SBA-15）的形貌、结构和Cu-SBA-15的配位情况进行了表征,考察了SBA-15在改性前后对毒死蜱的吸附量和缓释性能,并着重探究了毒死蜱/铜席夫碱配合物改性SBA-15载药体系在不同pH值下的释药行为。结果表明,APTES和水杨醛能够通过后嫁接法修饰于SBA-15,修饰后仍保持十分有序的孔道结构。SBA-15通过改性后,其对毒死蜱的吸附量由100 mg·g^-1增加至195 mg·g^-1,且其对药物的缓释性能也得到改善。毒死蜱/铜席夫碱配合物改性SBA-15缓释体系显示出明显的pH值响应性,pH=3时的释药速率大于pH=11时,而在中性条件下的缓释效果相对最好。载药体系的释药行为可用Riger-Peppas动力学模型来描述,其药物释放由Fick扩散控制。     

喷雾热分解法制备的钛酸钡颗粒内钡钛元素分布

基于氯化钡和二氧化钛具有不同的溶解特性,采用溶剂萃取法分别对喷雾热分解法和喷雾水解反应法制备的钛酸钡前驱体干燥产物颗粒内钡和钛分布进行定性分析,从而间接钛酸钡颗粒内的钡和钛分布情况。实验结果表明,该法可快速而准确地分析组合分析组分偏析情况。     

拉曼光谱在石墨烯结构表征中的应用

石墨烯是sp2碳原子紧密堆积形成的二维原子晶体结构,因其独特的结构与性质引起了科学家们的广泛关注.拉曼光谱是一种快速而又简洁的表征物质结构的方法.主要综述了拉曼光谱技术在石墨烯结构表征中应用的一些最新进展.首先,在系统分析石墨烯声子色散曲线的基础上介绍了石墨烯的典型拉曼特征(G'峰、G峰和D峰),讨论了G'峰、G峰和D峰在石墨烯层数的指认和石墨烯边缘与缺陷态分析中的应用;然后,通过对石墨烯拉曼G峰和G'峰的峰位、峰型以及强度的分析,讨论了石墨烯的层间堆垛方式、掺杂、基底、温度和应力等对石墨烯的电子能带结构的影响;最后,介绍了石墨烯中的二阶和频与倍频拉曼特征以及石墨烯的低频拉曼特征(剪切和层间呼吸振动模),并讨论了其对石墨烯结构的依赖性.     

铜-钼源漏电极对非晶氧化铟镓锌薄膜晶体管性能的改善

在铜(Cu)和非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)之间插入30 nm厚的钼(Mo)接触层, 制备了具有Cu-Mo源漏电极的a-IGZO薄膜晶体管(TFT). Mo接触层不仅能够抑制Cu与a-IGZO有源层之间的扩散, 而且提高了Cu电极与玻璃基底以及栅极绝缘层的结合强度. 制备的Cu-Mo结构TFT与纯Cu 结构TFT相比, 具有较高的迁移率(～9.26 cm²·V^-1·s^-1)、更短的电流传输长度(～0.2 μm)、更低的接触电阻(～1072 Ω)和有效接触电阻率(～1×10^-4Ω·cm²), 能够满足TFT 阵列高导互联的要求.     

富勒吡咯及其N-氧化物对双卟啉荧光的萃灭研究

本文合成了新型的亚苯基桥连双卟啉化合物（1~4）和富勒吡咯化合物(C₆₀-m, C₆₀-h) 以及它们的N-氧化物(C₆₀-mo, C₆₀-ho)。通过稳态荧光光谱研究了在甲苯溶液中富勒吡咯及其N-氧化物对双卟啉化合物的荧光萃灭作用。通过稳态荧光光谱滴定法测定了双卟啉化合物和富勒烯衍生物之间的荧光萃灭常数并发现：富勒吡咯化合物的荧光萃灭能力随引入富勒烯表面功能基团数目的减少而降低: C₆₀-h>C₆₀-m > C₆₀，并且发现富勒吡咯烷-N-氧化物对双卟啉的荧光萃灭能力比相应的富勒吡咯化合物增长了大约1.3~7.4倍。这些结果都说明通过改变富勒烯表面的功能基团可以调控双卟啉和富勒烯衍生物之间的光电子转移效率。     

DNA脱碱基位点的检测方法及其生物学研究进展

DNA中糖苷键断裂形成的脱碱基位点（脱嘌呤/嘧啶位点,AP位点）是常见的DNA损伤类型之一,由核苷酸自发水解产生,也是DNA碱基切除修复途径中的关键中间体。若修复不及时,可能会导致DNA复制阻滞和DNA链断裂,产生突变和细胞毒性,同时还会引起形成DNA交联或DNA-蛋白质交联的损伤,因此对于AP损伤的检测有助于理解细胞氧化应激损伤和基因毒性物质的毒性评价。目前检测AP位点的方法有14C或32P后标记法、酶联免疫吸附分析（ELISA）法和液相色谱-质谱（LC-MS）技术等。该文重点概述DNA中AP位点的检测方法和生物学研究进展,并展望了AP位点损伤相关研究的前景。     

一种改进的基于有限域的准循环LDPC码设计方法

结合有限域方法和具有简单递归编码特性的Tam结构,提出了一种新的准循环LDPC码构造方法.该方法首先利用有限域方法构造出校验矩阵,并得到其相应的指数矩阵,接着采用具有Tam结构的校验矩阵对应的二元基矩阵,两者进行掩膜运算(mask),得到新的指数矩阵,最后构造出的准循环LDPC码兼具有限域方法的良好纠错特性和Tam结构的简单递归编码特性.仿真结果表明,所提方法构造的准循环LDPC码的BER(Bit Error Rate)性能要优于Tam码和802.16e码.     

多径衰落信道下LDPC码初始译码消息研究

LDPC码初始译码消息是LDPC码密度演进研究的必要条件。本文简述了LDPC码的相关基础知识．重点研究了Rician衰落信道及Rayleigh信道下LDPC码的初始译码消息的概率密度．给出了译码消息的对称性和稳定性的表达，探讨了BP和BP_based两种译码方法的初始消息的概率密度形式，对于不同信道参数和译码算法下的初始消息的概率聚集函数（PMF：Probability Mass Function）进行了比较。     

N2O处理对背沟刻蚀金属氧化物薄膜晶体管性能的影响

通过采用稀土元素镨掺杂铟锡锌氧化物半导体作为薄膜晶体管沟道层,成功实现了基于铝酸的湿法背沟道刻蚀薄膜晶体管的制备.研究了N₂O等离子体处理对薄膜晶体管背沟道界面的影响,对其处理功率和时间对器件性能的影响做了具体研究.结果表明,在一定的功率和时间处理下能获得良好的器件性能,所制备的器件具有良好的正向偏压热稳定性和光照条件下负向偏压热稳定性.高分辨透射电镜结果显示,该非晶结构的金属氧化物半导体材料可以有效抵抗铝酸的刻蚀,未发现明显的成分偏析现象.进一步的X射线光电能谱测试表明, N₂O等离子体处理能在界面处形成一个富氧、低载流子浓度的界面层.其一方面可以有效抵抗器件在沉积氧化硅钝化层时等离子体对背沟道的损伤;另一方面作为氢的钝化体,抑制了低能级施主态氢的产生,为低成本、高效的薄膜晶体管性能优化方式提供了重要参考.     

基于定向电纺纤维膜的可调制偏振片的制备

基于定向静电纺丝技术制备了高取向性有序纤维薄膜, 利用有序纤维对液晶分子取向的诱导, 构建了可调制散射型偏振片. 填充混合液晶的有序聚甲基丙烯酸甲酯纤维薄膜在可见光范围内, 表现出明显的偏光特性. 混合液晶中光敏性偶氮液晶4-正丁基-4'-甲氧基偶氮苯在360 nm紫外光照射下进行顺反异构转变, 诱导混合液晶发生从各向异性到各向同性的相变. 利用混合液晶光致相变与有序纤维的耦合, 实现了薄膜偏光特性的光控切换.