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111.
对已知的Lie代数An-1作直接推广得到一类新的Lie代数gl(n,C).为应用方便,本文只考虑Lie代数gl(3,C)情形.构造了gl(3,C)的一个子代数,通过对阶数的规定,得到了一类新的loop代数.作为其应用,设计了一个新的等谱问题,得到了一个新的Lax对.利用屠格式获得了一族新的可积系统,具有双Hamilton结构,且是Liouville可积系.作为该方程族的约化情形,得到了新的耦合广义Schrdinger方程.
关键词:
Lie代数
可积系
Hamilton结构 相似文献
112.
讨论了一个由两个工作部件和一个储备部件,并且具有临界人为错误和常规故障的随机数学模型,研究了系统解的渐近稳定性,即:limt→∞P→(.,t)=P→,同时完成了对系统解的可靠性的证明. 相似文献
113.
114.
115.
张玉峰 《数学物理学报(A辑)》2005,25(1):1-10
构造了Loop代数~A_{-1}的一个子代数,利用屠格式导出了一族新的可积孤子方程族,并且是Liouville可积系,具有双Hamilton结构。 相似文献
116.
117.
两不同部件并联可修系统解的半离散化 总被引:2,自引:2,他引:0
对两不同部件并联可修系统中的修复率μi(x)进行初等阶梯函数逼近给出了系统半离散化模型,为进一步数值计算打下理论基础. 相似文献
118.
采用自主配制的碱性抛光液对TiO2薄膜进行了化学机械抛光(CMP),研究了在TiO2薄膜CMP加工过程中,碱性抛光液中的SiO2磨料、螯合剂、表面活性剂的体积分数和抛光液pH值对TiO2薄膜表面粗糙度的影响,并进行了参数优化。实验结果表明,在一定的抛光条件下,选用SiO2磨料体积分数为20%、螯合剂体积分数为1.0%、非离子表面活性剂体积分数为5.0%和pH值为9.0的碱性抛光液,抛光后TiO2薄膜表面没有划痕等抛光缺陷,表面粗糙度为0.308 nm,TiO2薄膜去除速率为24 nm/min,在保证抛光速率的同时降低了TiO2薄膜表面粗糙度,满足工业化生产要求。 相似文献
119.
Abstract: Surface roughness by peaks and depressions on the surface of titanium dioxide (TiO2) thin film, which was widely used for an antireflection coating of optical systems, caused the extinction coefficient increase and affected the properties of optical system. Chemical mechanical polishing (CMP) is a very important method for surface smoothing. In this polishing experiment, we used self-formulated weakly alkaline slurry. Other process parameters were working pressure, slurry flow rate, head speed, and platen speed. In order to get the best surface roughness (1.16 A, the scanned area was 10 × 10 μm2) and a higher polishing rate (60.8 nm/min), the optimal parameters were: pressure, 1 psi; slurry flow rate, 250 mL/min; polishing head speed, 80 rpm; platen speed, 87 rpm. 相似文献
120.
Backlund transformation, exact solitary wave solutions, nonlinear supperposi tion formulae and infinite conserved laws are presented by using TU-pattern. The algorithm involves wide applications for nonlinear evolution equations. 相似文献