白色磷光OLED不使用激发-阻挡层

据北京清华大学的科研小组报道，在两层设计中，为红色和蓝色发射层适当选择不同的基底，可以在磷光有机LED（OLED）中免除激发一阻挡层，在全彩色OLED显示器和固体光源中具有极大应用潜力。采用该设计方法可以使电流效率达到最大值10．5cd／A，亮度达到22,000cd／m^2。     

宁夏广播电视网络有限公司监控系统简述

统一监控系统主要是利用机房现有的节目应急备份切换系统,对传输信号进行监测,对机房关键设备资源占用情况进行预警,对机房工作环境进行监测,保证了有线数字电视的安全播出.     

关于发散的p-级数的一个发散速度估计

设p∈(0,1),本文研究p-级数∑∞n=1n~(-p)的发散速度估计.通过构造适当的区间套,得到了limn→∞A_(n,p):=C_p∈(p,2~(1-p)-1+p),0C_p-A_(n,p)(1-p)n~(-p),这里,A_(n,p)=n~(1-p)-(1-p)∑k=nk=1k~(-p).进一步,应用数值积分的梯形公式,得到了lim_(n→∞)n~p C(_p-A_(n,p))=(1-p)/2以及C_p-A_(n,p)的二次估计.所得结果改进了文(马书燮,关于发散p-级数的一个不等式[J].大学数学,2013,29(2):147-150.)中的结果.     

几种不同硬度材料的滑动磨粒磨损特征

在工程应用的许多场合中，往往同时存在着磨粒分别在表面滚动与滑动造成的两种磨损形式；因此，滑动磨粒磨损也是一种常见现象，但目前所悉对其研究的文献报道却还甚少。通过往复式滑动磨损试验机对几种不同硬度材料与ＳｉＣ磨粒配磨时的滑动磨粒磨损研究发现，在给定的试验条件下，材料的表面硬度是影响耐磨性的主要因素。当材料的表面硬度高于７３４ＨＶ时，其耐磨性对硬度变化的敏感性很大。例如，当硬度从７３４ＨＶ仅增加到８３０ＨＶ时，材料的耐磨性就可以提高近一倍，但磨报表面粗糙度却略有增大。此时的磨损机制为微切削．在材料的表面硬度低于７３４ＨＶ时，硬度对材料耐磨性的影响较小，如在硬度从３１７ＨＶ增大到７３４ＨＶ的情况下，耐磨性仅能提高约５０％，但磨损表面粗糙度的降低很快，此时的磨损机制以微切削为主，还伴随有应变疲劳剥层。因此，在许多工程应用中，追求材料表面的高硬度是获得理想使用寿命的关键。     

三元荆棘状Zn1-xCdxO纳米结构及其光致发光特性

以锌粉(zn)、镉粉(cd)为源材料,金(Au)做催化剂,采用热蒸发法,在硅(si)衬底上制备出掺Cd摩尔分数为6.7%的三元荆棘状Zn1-xCdxO单晶纳米结构.荆棘状纳米结构样品的主干直径均一,约为100 nm.主干两侧刺的直径和长度分别约为10和100 nm.由于Cd替位原子对ZnO带隙的调节作用,样品的近带边(NBE)紫外(UV)发射从3.37 ev红移到3.13 eV.结果表明,氧气(O2)分压是形成荆棘状Zn1-xCdxO纳米结构的重要条件.     

成都市工业区大气环境污染状况研究

以成都东郊工业区为例,采集气溶胶样品用中子活化分析测定了24种元素的含量,将分析结果与京津地区、广州地区进行比较,并用气溶胶中元素含量的均值做了富集因子分析。结果表明,该区的气溶胶污染与煤炭燃烧等有关。     

基于808nm半导体激光器单管合束技术的光纤耦合模块

由于单管半导体激光器比半导体激光线阵、叠阵具有更好的光束质量及散热特性,因此更适用于光电干扰光源。针对于电荷耦合器件(CCD)光谱响应曲线特征,采用808nm单管半导体激光器为光源,将24只单管半导体激光器分组集成,通过空间合束和偏振合束以提高其输出功率密度,采用自行设计的光学系统对光束进行扩束聚焦,耦合进芯径为300μm,数值孔径0.22的光纤中,所有激光器都采用串联方式,在8.5A电流下通过光纤输出功率为162W,耦合效率达到84%。     

超小型设备上的双频带天线设计

研究了一种超小型设备上的双频带天线.该超小型设备的尺寸为30mm×30mm×15mm,其最大边长不到低频所对应波长的十分之一.通过在低频激励地板辐射,在高频激励天线单元辐射的方案,实现了双谐振.同时还采用立体折叠地面方案进一步改进天线的低频性能.结合使用匹配电路,最终实现了GSM900(880～960MHz)和GSMl800(1710～1880 MHz)双频带覆盖.在仿真设计的基础上实际制作了原型天线并进行测量,仿真和测试结果吻合良好.     

考虑互耦的圆形天线阵列方向图综合

利用圆形阵列本征激励模式的方向图矢量叠加，计算所需的阵列方向图，醉征励模式的方向图可由或测量获得，该方法适用于任意形式单元构成的圆形阵列方向图综合。     

流动注射分析测定氧化铝中二氧化硅

本用流动注射分析分光光度法测定Ａｌ２Ｏ３中的ＳｉＯ２，利用硅与钼酸铵生成硅相黄，而后在ＰＨ为１．４－１．７之间和抗坏血酸还原剂生成硅蓝（ε＝２．００×１０＾４）这一特性，在波长λ＝７６０ｎｍ处测定，测定速度为１２０样／ｈ，在０－２０μｇ／ｍＬ浓度范围内服从比尔定律，其检出下限为０．３２２μｇ／ｍＬ，与手工法相比，该法分析结果的精密度和重现性能比较好。