MMIC芯片衰减器的设计与检测

本文提供了一种单片微波集成电路(MMIC)芯片衰减器,采用氮化钽薄膜作为电阻材料,利用嵌套掩膜刻蚀技术将芯片衰减器结构一层一层套刻在陶瓷基片上。主要研究了利用氮化钽薄膜电阻制作芯片衰减器的优点,结合HFSS仿真软件,建立3 dB和10 dB芯片衰减器的有限元模型,并对实物产品进行测试验证。试验结果表明:3 dB芯片衰减器在DC～20 GHz工作频率内有较好的衰减响应,回波损耗在整个宽频带内都小于-20 dB,衰减量偏差在DC～12 GHz工作频率内小于±0.3 dB。10 dB芯片衰减器在DC～20 GHz工作频率内也有较好的衰减响应,回波损耗在整个宽频带内都小于-19 dB,衰减量偏差在DC～12 GHz工作频率内小于±0.35 dB。     

Characterization of Molecular Interactions by Inverse Liquid Chromatographic Method

Inverse chromatography (IC) has been widely applied to characterize surface, interface, and bulk characteristics of technologically important materials. Probe molecules with known properties are injected into an isothermal chromatographic system with the material of interest as     

格蕴涵N序半群中的sl理想

研究由格蕴涵代数所诱导的格蕴涵N序半群的sl理想的代数特性，给出了格蕴涵代数L中的LI-理想与相应的格蕴涵N序半群中的sl理想以及理想之间的关系定理，并对由集合A所生成的sl理想进行了刻画。最后，讨论了L中的准素sl理想和素sl理想之间的关系。     

基于小波变换的Stark展宽算法的优化研究

为了提升Stark展宽计算等离子体电子密度的准确性,基于小波阈值去噪处理方法,对EAST氘原子光谱信号进行了处理,以信噪比(SNR)和均方根误差(RMSE)作为滤波效果的评价依据,通过对比确定了最优小波基db4,最优小波分解4层。根据噪声估计值计算适合的阈值参数进行信号重构,并将经过去噪处理后的数据应用到后期Stark展宽算法计算等离子体密度的分析过程中。结果表明,小波硬阈值去噪能够有效提高光谱信号信噪比、降低均方根误差,在消除光谱信号中噪声的同时,最大程度保留了有用的光谱细节特征信息,进而有利于光谱数据的建模效果,获得更为准确的等离子体电子密度。     

高分辨气相色谱/质谱法分析新闻纸和复印纸中的二噁

随机选择空白的和经过印刷的新闻纸和复印纸 ,粉碎后用溶剂提取并经多步色谱柱纯化 ,采用同位素稀释、高分辨气相色谱 /高分辨质谱 (HRGC/HRMS)联用技术分析了其中的二含量。结果表明 :新闻纸中二的总量高于复印纸 ,但是毒性当量却低于复印纸 ;经过印刷的新闻纸和复印纸中二的含量均高于空白的新闻纸和复印纸 ;新闻纸和复印纸中相同二异构体的含量是不同的。空白的和经过印刷的新闻纸中二毒性当量分别为 0 4 8ng/kg和 0 6 1ng/kg,而空白的和经过印刷的复印纸中二毒性当量分别为 0 74ng/kg和 0 79ng/kg。所有样品中添加的13 C标记的 2 ,3,7,8位取代的二回收率均在 4 9 82 %至 131 34%之间。     

媒体内容安全智慧监管技术平台建设规划与应用实践

本文介绍了贵州广播电视台媒体内容安全智慧监管技术平台的规划建设内容,设计了基于AI中台的内容审核技术平台,探讨了AI内容审核设计要点。平台覆盖了从大屏端到新媒体端、从制作域到播出域的媒体数据生产全流程,为构建新一代媒体数据安全保障体系提供了参考。     

WCDMA-HSDPA技术研究及改进方案

本文将证明HSDPA缺乏技术理论基础,利用现有的CDMA基本原理无法实现HSDPA应该达到的目标:在小区内利用一个载波给多个用户同时提供高速数据和语音业务的应用,显然此时要求提供的下行业务容量应比单独提供语音业务时更大.同时给出一种利用码分多址/时分多址改进HSDPA的方案,它将利用码分多址区分语音和高速数据业务信道,在语音和高速数据业务信道中分别选用码分和时分多址方式.这种方法可改进WCDMA标准上下行容量基本对称的技术缺陷,使其符合移动因特网的需求.     

反相高效液相色谱法测定有机污染物理化参数的进展

 RP HPLC在一些重要的有机污染物理化参数的测定中得到普遍重视 ,在模拟化合物的环境行为、药物的活性等领域有非常好的应用前景。对用RP HPLC方法测定有机污染物理化参数的基本形式、主要应用、研究现状及存在的主要问题等方面进行了阐述 ,并对该研究的应用前景进行了预测。     

钒氧酞菁的合成及其薄膜结构与光电性能的研究

自从60年前^[1]金属酞菁被发现以来,就引起人们的广泛兴趣,其原因主要在于它们在染料颜料、光化学、催化、和成像中的应用. 和许多其它酞菁衍生物一样,钒氧酞菁具有光导和半导体特性,这使得它在光电子学、电子成像、化学传感器、甚至于微电子器件中有潜在的十分光明的应用前景^[2]. 例如, 钒氧酞菁在电子成像体系中已成为有用的感光材料. 近年来,金属酞菁等有机材料的结晶薄膜开始不断地吸引人们的注意力. 人们考察了不同的金属酞菁如: 酞菁铜、酞菁铅、酞菁镍、和酞菁锡 等的光电导和光电压^[3]. 通常酞菁以几种不同的多晶异构体、即以不同的晶体排列结构方式存在. 因此,其光电特性不仅取决于分子中心的金属原子、而且取决于它们的晶体结构. 总之,值得我们研究钒氧酞菁薄膜的光电特性以及它与吸收光谱和薄膜晶体结构的关系.