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991.
Esoteric(深奥)X-03SE是一台各个方面均非常出色的播放机,外观漂亮、做工精良、音质出众,所有都符合一台售价7万元的高端播放机的身份.但是,如此高级的X-03SE却并非该品牌的最顶级产品,实际上只是Esoteric最新的"入门级"合并式CD/SACD播放机,即使如此,它也完全可以归入地球上最昂贵的音频播放机之列了.  相似文献   
992.
Using the molecular dynamics method, the stability of small He-vacancy clusters is studied under the condition of the high He and low vacancy densities. The result shows that there is a competition between He atoms detrapped and self-interstitial atoms (SIAs) emitted during the clustering of He atoms. When the He number is above a critical value of 9, the SIA emission is predominant. The SIA emission can result in deep capture of He atoms since the binding energy of He to a He-vacancy cluster is increased with the number of SIAs created. The cluster thus grows up. In addition, more SIAs are created when the temperature is elevated. The average volume of a He atom is increased. The cluster expansion takes place at high temperature.  相似文献   
993.
作为AV爱好者,我们常常面对变幻莫测的影音市场而感慨,也时常因为无法追赶影音潮流而失落,因此总是试图了解和掌握一些影音产品的发展趋势和动向,让自己在选购器材时能够尽量立于不败之地,尽量选择一些目前看来比较超前而将来极有可能发展成为主流的产品或技术。回首近两年音响技术的发展我们不难发现,影音潮流的风向标在不断发生变化,影音放大器的数字环绕声格式已经不再被人们津津乐道,“自动扬声器设置”功能也面临普及到“滥”的局面。那么目前选择什么配置的放大器才能迎合未来的影音潮流呢?我们认为不论影音产品如何变化,“视听”始终是万变不离其宗的两个重要环节,只有在这两个环节上做文章,并充分发挥器材最佳视听品质的产品或技术才是我们最需要的。显然这通过我们目前主流的模拟音、视频传输技术是难以做到的,新型数字界面HDMI、DVI和i.LINK的出台就能够圆满地解决这个问题。尽管它们三者的工作方式和兼容信号不尽相同,但对视听品质的改善是毋庸置疑的。毫无疑问,这种全数字化、高标准的影音界面既应该是2006年影音产品的主推技术,也应该就是未来AV产品的主要发展趋势。下面笔者将逐个介绍市面上一些具备“新型数字装备”的主流机型,一来帮助消费者了解相关技术,二来希望给有意购买的消费者提供指导和借鉴。对于这些放大器,我们除了进行一些功能方面的阐述,还将简要介绍各机型所具备数字装备的种类和数量,诸位可根据自己的消费能力和实际需求进行取舍。需要说明的是,目前搭载相关数字界面的影音放大器多为各个厂家的中高档甚至旗舰产品。所以消费者对这类产品的品质大可不必怀疑,尽管放心购买就是了。其次由于各机型上市时间的先后有较大差距,搭载数字界面的种类和版本也会有所不同,所以就有可能出现旗舰产品的配置不及下级产品的现象,同时也会牵扯到信号兼容、带宽和传输速度的问题,所以我们建议有条件的消费者还是尽量购买刚刚上市或者等待即将上市的新产品。  相似文献   
994.
投影机大致可以分成家用机与商用机两大类,家用投影机在画质方面较为考究,至于商用投影机,绝大多数都偏重在光输出强度,至于画质方面就比较一般。不过现在已经有厂商开始注重商用机的画质了,并且倾向Full HD化。例如这款Mitsubishi(三菱)FL7000U原本是用在中大型会议室的商用机,但它却拥有1920×1080 Full HD全高清分辨率,  相似文献   
995.
996.
Classe旗下的电子产品分为两个系列:一个是顶级而价高的Omega系列;另一个是价格便宜很多、但品质也非常优秀的Delta系列。CP-700/CA-M400双单声道前后级放大器就是Delta系列中的高级型号。  相似文献   
997.
随着半导体技术的飞速发展,单个芯片上所能承载的晶体管数量以惊人的速度增长,与此同时,半导体制造商们出于节约成本的需要迫切地希望单个晶圆上能够容纳更多的芯片。这种趋势推动了半导体器件特征尺寸的显著减小,相应地也对芯片制造工艺提出了更高的要求,其中一个具有挑战性的难题就是绝缘介质在各个薄膜层之间均匀无孔的填充,以提供充分有效的隔离保护,包括浅槽隔离(Shallow-Trench-Isolation),金属前绝缘层(Pre-Met-al-Dielectric),金属层间绝缘层(Inter-Metal-Dielec-tric)等等。本文所介绍的高密度等离子体化学气相淀积(HDPCVD)工艺自20世纪90年代中期开始被先进的芯片工厂采用以来,以其卓越的填孔能力、稳定的淀积质量、可靠的电学特性等诸多优点而迅速成为0.25微米以下先进工艺的主流。图1所示即为在超大规模集成电路中HDPCVD工艺的典型应用。  相似文献   
998.
999.
1000.
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