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42.
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姜李  张波  孙剑  尹桂  尚通明  王玲  王睿勇 《无机化学学报》2010,26(10):1750-1755
本文介绍了一种紫外-可见和荧光双通道铜离子探针,该探针基于罗丹明-B,通过水合肼为桥梁来连接三苯胺,便利而廉价。其在水体系下对铜离子显示出了良好的选择性和极高的灵敏度(2.78×10-8mol·L-1)。并且,通过初步的活细胞测试,表明该铜离子探针有着良好的生物相容性和细胞穿透性,在生物、医药领域有着非常大的潜力。  相似文献   
44.
采用物理掺杂法制备了生物质灰分作为助剂的融铁催化剂,通过X射线衍射、透射电镜、穆斯堡尔谱等方法对催化剂进行了表征,并在固定床反应器中对其CO_2加氢制高碳烃的催化性能进行了评价。结果表明,与不含生物质灰分助剂的催化剂相比,添加助剂的融铁催化剂粒径较小且尺寸分布较窄,Fe_3O_4、Fe_5C_2、Fe_3C和α-Fe四相协同共存,进而促使逆水气变换反应与C-C偶联的串联反应高效进行,在有效抑制甲烷生成的同时,可明显提升高碳烃选择性。高碳烃产物以C_(4-18)的烃类为主,在300℃、1. 0 MPa、4800 h~(-1)、H~2/CO_2=3. 0、助剂添加量为5%(质量分数)的条件下,其在烃类产物中选择性最高可达73. 9%。  相似文献   
45.
在精密测量领域中,高效地制备冷原子团具有重要的意义.在光晶格钟里,缩短冷原子团的制备时间可以降低Dick噪声,从而提高光晶格钟的稳定性.本文采用二维磁光阱加推送光的构型提高了三维磁光阱在超高真空环境中的装载率,并通过压缩磁光阱技术降低了原子团温度,实现了用于199Hg光晶格钟的增强型冷原子团制备.实验上通过优化三维和二维磁光阱的失谐量和磁场梯度以及推送光的失谐量和功率等参数,将三维磁光阱的199Hg冷原子装载率增强了51倍,提升至3.1×105 s–1,然后使用压缩磁光阱技术将199Hg冷原子团的温度降低至45μK,低于多普勒冷却理论温度.这种基于二维磁光阱的增强型冷原子团制备可在超真空环境下实现对三维磁光阱装载率的高增益,有效地缩短了冷原子团的制备时间,同时也降低了原子团的温度,有利于提高光晶格的转移效率,为其他冷原子实验中冷汞原子团制备提供了有效方案.  相似文献   
46.
智能手机是未来几年内3G手机的发展趋势。人们在享受手机智能化带来便利的同时,也饱受病毒的滋扰之苦。论文在研究手机病毒的原理以及演变趋势的基础上,针对手机病毒常见的攻击形式提出了防范的方法。  相似文献   
47.
本文首先介绍了NFC技术,包括概念,应用领域,运行的频率等特点从而得出NFC技术将会是未来小额支付的主要支付手段。接着列举了NFC技术在美国纽约,德国法兰克福,日本韩国和中国等地区的使用试点案例。随着NFC的发展,数据之间不统一的交换格式将成为阻碍其国际化的主要因素。最后指出目前切实可行的方法就是先进行小范围的统一,其中中国作为NFC技术应用的潜在的巨大市场,对NFC发展有着重要的影响力,所以应该肩负起在首先在东盟范围内进行统一交换数据的责任。  相似文献   
48.
含偏二甲肼(UDMH)的废水在臭氧氧化过程中会显著生成高毒性且难降解的次级氧化产物亚硝基二甲胺(NDMA),采用臭氧/紫外(O_(3)/UV)联用技术仍不能有效抑制NDMA的生成和彻底氧化NDMA.我们以Fe_(2)O_(3)/γ-Al_(2)O_(3)为催化剂,采用多相催化氧化-O_(3)/UV联用技术对含UDMH的废水进行了氧化处理,详细对比了有无催化剂时UDMH的降解效率以及次级氧化产物NDMA生成、氧化消除的规律,结果表明,多相催化技术与O_(3)/UV联用能够显著提高对废水中UDMH的氧化分解效率,且能有效地抑制NDMA的生成和促进NDMA的氧化消除.通过反应参数的优化,确定了最佳的反应条件.在此基础上,对UDMH和NDMA的氧化降解反应动力学进行了对比研究,结果显示,多相催化技术有效提升了NDMA在O_(3)/UV中的氧化降解效率,使得反应所产生的NDMA可以及时分解.我们还对稳定性进行了研究,催化剂经8次循环仍保持较高的催化活性和稳定性.我们的研究结果表明多相催化-O_(3)/UV联用技术对含UDMH废水处理有优良的适用性,综合效能优于现用的O_(3)/UV处理技术.  相似文献   
49.
孙剑  张杰  苏兰海  曹建国 《光学技术》2007,33(5):781-784
平坦度是描述带钢板形质量的主要参数之一,平坦度在线测量对于板形控制至关重要。研究了一种新型的基于数字投影和条纹边缘检测技术的平坦度测量系统,阐述了该系统的测量原理、硬件构成及系统软件,软件包括图像处理、坐标变换及平坦度计算等。该测量方法属于三维全场式测量方法,能克服带钢垂直运动给测量带来的不利影响,与目前广泛应用的传统测量方法相比,抗干扰能力强,测量结果更准确,且成本较低。  相似文献   
50.
利用电子回旋共振(ECR)微波放电等离子体对单晶硅表面进行了低温大面积氮化和氧化处理的探索,在低于80℃的温度下得到了均匀的厚度约为7 nm氮化硅和二氧化硅薄层.结合等离子体光学诊断和成分探测,分析讨论了ECR等离子处理机理.结果表明,利用这种方法可以在低温条件下在硅表面获得均匀的大面积氮化硅和二氧化硅表层.  相似文献   
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