同步辐射X射线光刻实验研究

同步辐射X射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置3BlA光刻束线上的曝光结果，并对X射线掩模的制作工艺作了简要介绍。     

中低分辨率CMOS闪烁型模数转换器的折中考虑与设计

对中低分辨率CMOS闪烁型模数转换器的四个主要模块的折中设计进行了研究.这些折中考虑包括基准电压的非理想因素、前置放大器的折中六边形思考、再生比较器的滞回作用、误差更正电路.在模块折中设计研究的基础上,CMOS闪烁型模数转换器可达到高性能和低功耗.根据这种设计考虑,采用TSMC 0.25 μm CMOS 单层多晶硅五层金属工艺实现了一个4 bit 65 MHz的高转换率的闪烁型模数转换器.     

埃洛石纳米管的改性方式对其负载的金催化剂在环己烷液相选择性氧化反应中的催化性能的影响

为了提高纳米金在埃洛石纳米管(halloysite nanotubes,HNTs)上的负载率并改善负载型金催化剂的稳定性,采用经过有机硅烷(N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷,AEAPTMS)化学改性的埃洛石纳米管(AHNTs)作为载体,利用AEAPTMS上的-NH2能够配位俘获金离子的特点,实现了金的前驱体H...