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采用磁过滤真空溅射离子沉积技术,用氩气和氮气共溅射石墨靶,在不同氮气分压下,制备了一组不同氮含量的四配位非晶碳薄膜(ta-C:N).用X射线光电子能谱确定ta-C:N薄膜中的氮含量;研究了氮含量对ta-C薄膜的拉曼光谱和表面形貌的影响.结果表明:不含氮的ta-C薄膜的拉曼光谱是中心在1580cm-1、范围从1200cm-1至2000cm-1的类高斯峰,表面均匀光滑;含氮的ta-C:N薄膜,其拉曼光谱分裂为1360 cm-1的D带和1580 cm-1的G带,且D带与G带的最大强度比, 以及薄膜的表面粗糙度随氮含量的增加而增大.最后讨论了氮含量对ta-C薄膜的微结构的影响. 相似文献
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BiFeO3 (BFO)作为反铁磁性和铁电性共存的多铁性材料,其饱和极化强度理论值大于100μC/cm2,居里温度为830℃,具有较强的电卡效应.但是由于BFO高温烧结过程中Bi2O3易挥发,铁离子易变价,导致BFO中缺陷较多,漏电流较大,其铁电特性难以发挥出来.虽然采用与BaTiO3 (BTO)等氧化物铁电体形成固溶体的方法可以减小漏电流,但是漏电流和高介电损耗问题仍然存在.本文试图通过添加锰离子到BFO-BTO固溶体的方法解决这一问题.采用传统的高温固相反应法制备了0.7BiFeO3-0.3BaTiO3+x%MnO2 (BFO-BTO+x%MnO2,其中x%为质量分数)陶瓷,研究了MnO2掺杂对BFO-BTO固溶体的微观结构、介电和铁电性能的影响.值得注意的是, BFO-BTO+x%MnO2样品测试结果证明少量掺杂MnO2... 相似文献
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采用sol-gel法制备(Pb1-xSrx)TiO3(x=0.40,0.50,0.60,0.70,简称PST40,PST50,PST60与PST70)前驱体溶液,通过旋涂工艺在石英玻璃基片上沉积PST薄膜。研究了PST薄膜的结构和光学特性。结果显示,经750℃退火30min,所得PST薄膜为晶化良好的钙钛矿立方结构,薄膜平均晶粒尺寸为200~300nm。750℃退火的PST40、PST50、PST60和PST70薄膜样品的直接带隙能分别为3.74,3.79,3.80和3.85eV。随着Sr含量的增加,带隙能增加。 相似文献
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利用扫描力显微术的压电响应模式,并基于逆压电效应原理,研究了梯度组成的PZT铁电薄膜纳米尺度铁电畴的场致位移特性.获得了源于纳米尺度铁电畴的压电效应和电致伸缩效应贡献的场致位移回滞线,以及源于线性压电效应和电畴反转效应综合贡献的纳米尺度压电位移 场强蝶形曲线,证实了Caspari Merz理论在纳米尺度上的有效性.发现了梯度铁电薄膜存在纳米尺度印刻现象,认为该现象的内因源于薄膜中的内偏场.
关键词:
PZT铁电薄膜
场致位移
纳米尺度
扫描力显微术 相似文献
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溶胶-凝胶法制备(Pb0.76Ca0.24)TiO3薄膜及性能研究 总被引:3,自引:3,他引:0
以硝酸钙、醋酸铅和钛酸丁酯为原料,甲醇做溶剂,乙酰丙酮为稳定剂。用简单的溶胶-凝胶法和快速退火工艺在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基片成功地制备出四方钙钛矿相(Pb0.76Ca0.24)TiO2(PCT)薄膜。用原子力显微镜、扫描电镜分析了薄膜的表面和断面形貌;测试了薄膜的铁电和介电特性。PCT薄膜的剩余极化强度和矫顽场分别为36μC/cm^2和240kV/cm^2,在100kHz,薄膜的介电常数和损耗因子分别为295和0.027。 相似文献
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本文介绍了电介质的弛豫研究进展情况和存在的困难.采用对数时间标度,在微分介电谱中,每一种弛豫机构对应一个峰.高分子材料聚丙烯(PP)样品的实验结果表明,多弛豫机构的存在来源于束缚空间电荷的自由扩散 相似文献