复合物C6H5CH3…Ar和C6D5CD3…Ar的共振电离光谱

本文报道了复合物C6H5CH3Ar和C6D5CD3Ar的共振电离光谱的实验和理论研究。在超声束中,利用双光子共振电离光谱技术和飞行时间质谱技术,揭示了复合物中甲基的内转动和Ar原子振动的信息,利用同位素效应以及内转动和振动能级计算,合理地归属了实验中观察到的涉及CH3转动和Ar振动的光谱。     

利用改进的固相外延技术改善CMOS/SOS器件的特性

ＣＭＯＳ／ＳＯＳ器件同体硅ＣＭＯＳ器件相比,载流子迁移率较低,沟道漏电电流较大,它们主要是由异质外延硅膜缺陷,特别是靠近硅蓝宝石界面的硅膜缺陷造成的．本文描述一种改进的固相外延技术提高外延硅膜质量进而改善ＣＭＯＳ／ＳＯＳ器件特性的实验结果．     

偶氮四唑钾盐的绿色电合成反应耦合WS2纳米片催化电解水制氢

析氧反应(OER)作为动力学缓慢的四电子多步骤反应过程,限制了电催化水分解制氢的反应速率,降低了电催化水分解制氢的整体效率,以热力学更有利的有机含能材料氧化反应替代OER与析氢反应(HER)耦合,在降低槽压制得氢气的同时能得到高附加值的化工产品.本文建立了一种新的耦合体系,在阳极侧制备含能离子盐[偶氮四唑钾盐(K₂AZT)]的同时,阴极侧以碳布负载的二硫化钨纳米片(CC@WS₂ NSs)作为HER催化剂促进H₂的形成.该体系仅需要1.65 V的槽电压即可达到10 m A/cm²的电流密度,相比于CC@WS₂ NSs/CF全解水体系(1.87 V)降低了220 m V.耦合体系在至少15 h内保持平稳运行,表现出优异的稳定性能.通过绿色安全的电化学法制备含能化合物避免了传统有机合成方法高能耗、高风险和高成本等问题,为安全生产含能材料提供了新的合成策略.     

微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定蒙药材文冠木中16种元素

文冠木为常用蒙药材之一。实验采用微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定蒙药文冠木中Cd,Zn,Mn,Fe,Mg,Cu,Hg等16种元素。用微波加热技术消解样品,随后在选定的仪器工作条件下进行测定,测定方法的加标回收率为90.9%~109%,相对标准偏差均小于3.5%,检出限小于0.005 1!g/mL。方法简便、准确、可靠,可作为文冠木中多种元素含量的测定方法。     

核废料硼硅酸盐玻璃在酸性溶液环境下的摩擦磨损性能

通过环境可控的直线往复式摩擦磨损试验机,以不锈钢球为对摩副,探究核废料硼硅酸盐玻璃在不同pH酸性溶液环境中的磨损行为和磨损机理. 研究发现,随着外界溶液pH逐渐从1增大到7,摩擦过程中的摩擦系数缓慢增加,但硼硅酸盐玻璃和不锈钢球的磨损量呈现先增大后减小的变化规律. 硼硅酸盐玻璃在不同pH下的材料去除与其界面的电荷特性和接触情况密切相关. 当溶液pH <2.5时,硼硅酸盐玻璃基底和不锈钢球表面带正电荷,界面的排斥作用降低了界面的直接接触和剪切应力,从而降低了玻璃材料的磨损量;当pH为2.5时,硼硅酸盐玻璃表面几乎不带电荷,使得硼硅酸盐玻璃和不锈钢球在磨损过程中进行直接的接触,导致其磨损量最大;当pH>2.5时,硼硅酸盐玻璃表面与不锈钢球表面分别带负电荷和正电荷,界面间呈现吸引力作用,界面间的水化层对磨损界面起到润滑作用,从而降低硼硅酸盐玻璃和不锈钢球的磨损量.      

电磁泄露信息的采集与预处理

在对电磁差分能量分析攻击的研究中,电磁泄露曲线的对齐处理是攻击成功的关键.在迹线对齐处理时,以相位相关性为基础进行了改进,采用泰勒级数展开的方法得到了迹线的偏移量.针对对齐后的数据进行了极大值提取,实现了电磁泄露曲线的降维处理,降低了攻击的复杂度.提出了一种采用欧式距离对对齐效果进行分析的判据.试验结果表明,在一定维数范围内未对齐的欧式距离波动程度较大,而对齐后的欧式距离波动较小.可通过判断欧式距离的波动程度确定曲线是否对齐.     

用低压KTP普克尔盒和微带传输线进行调Q长脉冲的任意整形

利用新电光材料ＫＴＰ晶体的有效电光系数γｃ１,制成电光开关,实验研究了它的热光效应。成功地用它对输出脉宽为５０ｎｓ的ＮｄＹＬＦ单纵模调Ｑ激光削波整形。实验表明,ＫＴＰ普克尔盒的半波电压低及电容小,配合微带传输线后,能够获得脉宽为１～１０ｎｓ,形状几乎任意可调的整形脉冲,改变了过去那种只把普克尔盒当作简单的削波元件、而无整形能力的状况。并提出了采用双块晶体、补偿结构ＫＴＰ普克尔盒的设想     

掺镱单模石英光纤中放大的自发辐射

描述了掺镱单模石英光纤中正向和反向放大的自发辐射 (ASE)的差异以及ASE谱轮廓随抽运功率、激活光纤长度和抽运波长等量的变化 ,这些结果对于掺镱光纤激光器、放大器的设计有重要的指导意义。     

氟化物玻璃红外光纤

报道氟化物玻璃红外光纤的研制结果,介绍氟化物玻璃红外光纤在光纤通信、纤维激光器和光放大器以及红外传感传能等领域的应用前景。     

为纪念激光器诞生25周年,中国电子学会和中国光学学会联合举办“全国光电子技术交流会”和“全国光电子技术应用推广展览会”

将在今年10月在武汉市举办大型全国光电技术交流会和光电子技术推广展览会.技术交流会主要内容是激光、红外、光电技术——在国民经济各部门的应用及动态.激光应用包括通讯、测距、加工、检测、分析、生物、医学、信息存贮与处理等; 红外应