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91.
基于绝缘体上硅技术,提出并研制动态阈值nMOSFETs结构.阐述了动态阈值nMOSFETs的工作原理.动态阈值nMOSFETs的阈值电压从VBS=0 V时的580 mV动态变化到VBS=0.6 V时的220 mV,但是这种优势并没有以增加漏电流为代价.因此动态阈值nMOSFETs的驱动能力较之浮体nMOSFETs在低压情况下,更具有优势.工作电压为0.6 V时,动态阈值nMOSFETs的驱动能力是浮体的25.5倍,0.7 V时为12倍.而且浮体nMOSFETs中的浮体效应,诸如Kink效应,反常亚阈值斜率和击穿电压降低等,均被动态阈值nMOSFETs结构有效抑制. 相似文献
92.
对PDSOI CMOS 器件及电路进行总剂量辐照的加固势必会引起其性能下降,这就需要在器件及电路加固和其性能之间进行折中.从工艺集成的角度,对PDSOI CMOS器件和电路的总剂量辐照敏感区域:正栅氧化层、场区氧化层及埋氧层提出了折中的方法.采用此种方法研制了抗总剂量辐照PDSOI SRAM ,进行总剂量为2×105 rad(Si)的辐照后SRAM的各项功能测试均通过,静态电流的变化满足设计要求,取数时间:辐照前为26.3 ns;辐照后仅为26.7 ns. 相似文献
93.
开口面积比是微通道板(MCP)重要的性能指标,在MCP输入面进行扩口,对于MCP的探测效率、噪声因子等参数有显著的提升作用,在微光夜视仪、粒子探测器等军用、民用领域具有巨大的应用潜力。采用湿法腐蚀进行微通道板扩口,面临工艺一致性差、选择性腐蚀造成锥度尺寸难以达标等难题,实质性批量应用非常困难。针对扩口MCP难以制作和应用的问题,提出一种采用干法刻蚀进行MCP扩口的方法,阐述了干法刻蚀进行MCP扩口原理及可行性。通过建立理论模型研究干法刻蚀工艺参数如刻蚀角度、刻蚀时间等对于MCP开口面积比、通道内刻蚀深度、通道内壁刻蚀锥度等性能参数的影响,计算出合适的工艺参数范围,为开展实验研究奠定了基础。 相似文献
94.
PDSOI CMOS SRAM单元的临界电荷(Critical Charge)是判断SRAM单元发生单粒子翻转效应的依据.利用针对1.2μm抗辐照工艺提取的PDSOI MOSFET模型参数,通过HSPICE对SRAM 6T存储单元的临界电荷进行了模拟,指出了电源电压及SOI MOEFET寄生三极管静态增益β对存储单元临界电荷的影响,并提出了在对PDSOI CMOS SRAM进行单粒子辐照实验中,电源电压的最恶劣偏置状态应为电路的最高工作电压. 相似文献
95.
96.
按照重庆市净化社会文化环境实施意见,重庆市通信管理局充分发挥部门职责,采取多项措施,重点对互联网上低俗内容进行了清理。截至目前,管局已处理各类网站393个, 相似文献
97.
2010年12月14日上午,山东省济宁无线电管理处接到江苏省徐州无线电管理局的协查干扰函,称近日沛县供电公司的230MHz数传频率受到强信号干扰,该局监测 相似文献
98.
和照 《广播电视网络技术》2009,(7):86-93
孔子说过:工欲善其事,必先利其器。
我们在进行影像的创作过程中,所有的表达手段是要靠技术设备来实现的,存在决定意识,意识决定行为,行为又决定作为。只有掌握设备的性能才可能使你的影像具有个性。 相似文献
99.
Mg和Na对高熔点煤灰熔融性的影响 《燃料化学学报》2012,40(10):1161-1166
以山西阳泉固庄高熔点煤灰为研究对象,通过向煤灰中添加不同量的MgO与Na2CO3,研究了Mg2+与Na+在高温下对煤灰熔融性的影响。研究结果表明,煤灰熔融温度随氧化镁的添加(5%~25%)单调下降;而随氧化钠添加(5%~25%)出现先降后升现象,在氧化钠添加量为15% 时,灰熔点达到最低。XRD分析表明,阳泉固庄煤灰熔融温度高(大于1 750℃)的原因是高温条件下耐熔矿物莫来石、方英石的存在。添加外加剂后,高温时外加剂与硅酸盐矿物反应,生成了更多的低共熔矿物霞石、堇青石等。同时,Mg2+和Na+的加入会使得非桥氧数量增多,高温煤灰低聚物增多,降低了煤灰的熔融温度。通过三元相图以及SEM分析,高温条件下煤灰中部分元素的富集以及团聚现象是导致Mg2+和Na+对煤灰熔融温度影响不同的原因。 相似文献
100.
工业和信息化部无线电管理局 《中国无线电》2009,(1):1-1
在新年钟声的余响中.我们迎来了崭新的2009年。值此辞旧迎新的美好时刻,我们向辛勤工作在无线电管理战线的全国无线电管理工作者和全体离退休同志,致以新年的祝福.并表示亲切的慰问! 相似文献