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<正> 每一代新的半导体芯片都具有更精细的结构。因此,生产线通常也就需要更新的光刻设备。为组建经济实用的生产线,就必须考虑几个因素,其中很多因素在一定程度上很容易从可选设备的指标中看到,但另一些因素却比较复杂,仅从技术指标中不易得到。 本文论述最为复杂的光刻要求,即层间套刻精度O/L。O/L是很复杂的,它不仅受设备特性的影响,还受掩模精度、对准标记质量、甚至受由工艺引起电子形变的影响。由于这种多重的依赖性,尽管O/L经常出现设备手册中,但却不能只定义为设备的特性指标。 相似文献
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解抛物问题的一类新的瀑布型多重网格法 总被引:1,自引:0,他引:1
本文推广石钟兹 ,许学军对椭圆问题提出的新的瀑布型多重网格法到抛物问题 ,建立了相应的理论结果 . 相似文献
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再谈一个几何不等式的加强周新民(新疆北屯187团一中836007)文晓宇(新疆兵团教育学院833200)杨学枝先生在文[1]中证明了由他提出的猜想:设P为△ABC内一点,点P到△ABC三边的距离分别为r1,r2,r3,△ABC的边长分别为a,b,c,... 相似文献