Combined effect of the transition layer and interfacial coupling on the properties of ferroelectric bilayer film

Within the framework of modified Ginzburg--Landau--Devonshire phenomenological theory, a ferroelectric bilayer film with a transition layer within each constituent film and an interfacial coupling between two materials has been studied. Properties including the Curie temperature and the spontaneous polarization of a bilayer film composed of two equally thick ferroelectric constituent films are discussed. The results show that the combined effect of the transition layer and the interfacial coupling plays an important role in explaining the interesting behaviour of ferroelectric multilayer structures consisting of two ferroelectric materials.     

Influence of lateral size on dielectric properties of ferroelectric thin films with structure transition zones

By taking into account structural transition zones near the lateral and thickness direction edges, this paper uses a modified transverse Ising model to study dielectric properties of a finite size ferroelectric thin film in the framework of the mean-field approximation. The results indicate that the influence of the lateral size on the dielectric susceptibility cannot be neglected and lateral structural transition zones could be a crucial factor that improves the mean susceptibility of the fixed size film.     

5,10-CH+-THF向邻苯二胺转移一碳单元反应的理论研究

叶酸辅酶在酶催化的一碳单元转移过程中具有重要的作用,已有大量的实验及实验模拟对其生物学功能进行了研究分析.本文用PM3半经验方法对5,10-CH⁺-THF向邻苯二胺转移一碳单元的反应进行了理论研究.结果表明,5,10-CH⁺-THF中的咪唑啉环有两种开环方式,从而使得该反应可以通过两种途径实现,每一种途径都经历了6个反应步骤,其中包括限制速度的两次质子转移步骤.优化计算了每个步骤所有可能的中间体和过渡态的结构和能量,并通过比较分析得到了各反应阶段的最优中间体和过渡态结构.     

加氮对直流电弧等离子体喷射金刚石膜生长、形貌和质量的影响

利用直流等离子体喷射化学气相沉积法制备掺氮的金刚石厚膜.本文研究了在甲烷/氩气/氢气中加入氮气对金刚石膜生长、形貌和质量的影响.反应气体的比例由质量流量计控制,在固定氢气(5000sccm)、氩气(3000sccm)、甲烷(100sccm)流量的情况下改变氮气的流量,即反应气体中氮原子和碳原子的变化比例(N/ C比)范围是从0.06到0.68.同时金刚石膜在固定的腔体压力(4kPa)和衬底温度(800℃)下生长.金刚石膜用扫描电镜(SEM)、拉曼谱和X射线衍射表征.结果表明,氮气在反应气体中的大量加入对直流等离子体喷射制备金刚石膜的形貌、生长速率、晶体取向、成核密度等有非常显著的影响.     

直流电弧等离子体喷射化学气相沉积高质量金刚石膜残余应力分布的垃曼谱分析

不同工艺条件下在钼衬底(φ60mm)上用100 kW直流电弧等离子体喷射化学气相沉积设备进行金刚石膜的制备.金刚石膜用扫描电镜(SEM)、拉曼谱(激光激发波长为488nm)和X射线衍射来表征.研究结果表明,在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的过程中,内应力大小从金刚石膜的中央到边缘是增加的,并且应力形式是压应力.这说明了在金刚石膜中存在明显的应力不均.甲烷浓度和衬底温度都影响金刚石膜中的内应力.随着甲烷浓度和衬底温度的提高,金刚石膜中的内应力呈增加的趋势.     

生物质热解产物中焦油的催化裂解

对生物质热解产物（粗煤气）中焦油的催化裂解过程进行了实验研究。实验装置主体由一个常压鼓泡床热解反应器和一个固定床催化裂解反应器组合而成,生物质原料为玉米杆屑,催化剂分别选用煅烧石灰石和煅烧白云石,实验结果表明,当催化裂解反应器内温度在800－850℃之间时,两种催化剂对粗煤气中焦油的催化裂解效果均非常明显,焦油裂解率均可达到90％以上,虽然煅烧石灰石的催化活性比煅烧白云石高,其失活速率也相对大一些。     

离子注入对SiO_2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响

采用真空蒸镀法在 Si O2 表面制备非晶态碳纳米薄膜 ,考察了碳离子注入对非晶态碳薄膜与基体结合强度及摩擦学性能的影响 ,并采用 X射线光电子能谱表征了碳薄膜 /基体的界面化学状态 .研究结果表明 :非晶态碳薄膜经碳离子注入处理后 ,碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命均明显提高 ;当碳离子注入剂量达到 1× 10 1 6 C+ /cm2 时 ,碳薄膜与基体的结合强度增加 ,但碳薄膜耐磨寿命的提高幅度有限 ;当注入剂量达到并超过 5× 10 1 6 C+ /cm2 后 ,碳离子注入所引起的碰撞混合和化学混合作用直接导致碳薄膜与 Si O2 基体界面处的原子扩散以及 Si- C键的形成 ,从而大幅提高碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命 .     

Ag掺杂ZnO体系中缺陷和电子转移对其高温摩擦学特性的影响研究

考察了Ag/ZnO体系在退火处理后的物理和化学变化,并同其用作金属／陶瓷摩擦副润滑剂时的摩擦－温度特性进行了关联。结果表明：经200℃和400℃退火处理后,Ag和Zn的结合能值均发生较大的化学位移;而经100℃和300℃退火处理后Ag和Zn的化学状态无明显变化;当Ag掺杂ZnO粉末用作β－Sialon／高速多摩擦副润滑剂时,其摩擦－温度特性曲线在200℃和400℃均出现极小值,分析结果表明:Ag/ZnO体系中的缺陷和电子转移与其摩擦－温度特性密切相关。     

电容式触控显示模组的抗反射结构及其性能研究

对电容式触控显示模组的抗反射结构及其性能进行研究,分析对比了当前几种用于触控显示模组的抗反射技术。结果表明:全贴合技术可将内部反射率降低到3.8%左右,super AMOLED和CBD技术可将内部反射率降低到2%以下,其都能有效地提高产品在强光环境下的可读性。此外,还提出了分别针对LCD和OLED触控显示模组的两种抗反射改进结构:前者仅需将上偏光片改为贴附在触摸屏的内表面,即可将LCD模组的内部反射率降低到4.5%,因而不仅具有低成本的优点,且在强光环境下也具有良好的可读性;后者通过圆偏光片与OGS电容触摸屏的组合,使得整个OLED模组具有更低的厚度,且内部反射率可降低到1.8%左右,由于不需采用OCA贴合,其成本也低于当前的super AMOLED模组。