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Compact Arrayed-Waveguide Grating on Silicon-on-Insulator with Integrated Waveguide Turning Mirrors 下载免费PDF全文
A compact arrayed-waveguide grating (AWG) on the silicon-on-insulator material is designed and fabricated with employment of waveguide-integrated turning mirrors (WITMs). By properly setting the incident angle with the value of 45°, the effective area of the WITM AWG is only 1.15 cm×1.15 cm with the arrayed waveguide area of 0.6cm×0.6cm. The crosstalk of the fabricated 1×6 AWG is better than -19 dB. The on-chip insertion loss is about -8.8 dB and the output nonuniformity is less than 0.6 dB. The polarization-dependent central wavelength shift is about 0.048nm and the polarization dependent loss is neglectable. 相似文献
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本文简要描述了本项目的研究计划。该项目在本年度共进行了3次样品辐照试验,对辐照后的样品做了表面分析、结果表明第一镜的沉积主要是由于高能粒子与第一壁材料的轰击所致,对于HL-2A装置目前的放电参数和运行状况、辉光放电和壁的硅化处理更容易造成窗口玻璃或第一镜的沉积。 相似文献
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关于排序模型1|·|ri≥0|n∑i=1vi的注记 总被引:2,自引:1,他引:1
设 J={J1,…,Jn}是n个工件的集合,M是一台机器.每个工件Ji要在机器M上加工一次,而且是相继只加工一次,即加工不能够中断.Ji的加工时间是pi,准备时间是ri,即Ji不能在ri之前加工,要求完工的期限是di,即工件ji的加工应该在di之前完成.否则,这个工件将被拒绝放在一旁.我们的目的是寻找排序算法A,当使用到给定的J上时,使被拒绝的工件个数为最少.1978年Kise,Ibaraki,Mine等在条件ri<rj蕴涵di≤dj(对于任何1≤i,j≤n)下,对于任何给定的J找到算法A.他们在论文[1]中"证明"算法A是最优算法.最近,李杉林给出一个例子说明他们的证明中的一个关键引理是错误的.本文作者在书[2]中也沿用了这个错误的"证明".对于算法A的最优性,本文给出一个新的简单的证明. 相似文献
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基于LeRoy与Bemstein的工作,孙卫国等最近建立了计算精确的双原子分子离解能的新解析表达式.应用该公式和最近建立的研究双原子分子精确振动能谱的代数方法(AM),我们研究了一些双原子分子部分电子态的分子离解能,并与实验值进行了比较.研究结果表明,用新解析式获得的精确分子离解能与实验值符合得非常好.该式在理论上提供了获得精确分子离解能的物理新方法. 相似文献
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采用X射线衍射、电子衍射及透射电子显微技术研究了Fe73 .5 Cu1Nb3 Si13 .5 B9非晶合金在 82 3K ,1~ 5GPa下退火所形成的纳米晶结构 ,高压实验采用Belt型压力装置 .结果表明 ,压力没有改变合金结晶相的类型 ,但对其纳米晶结构的形成有重要影响 .当压力从常压增加到 5GPa时 ,结晶相α Fe固溶体 (α Fe相 )的尺寸从 1 1 .5nm减小至 5nm .当压力低于 2GPa时 ,α Fe相的体积分数随压力的增高而增加 ,然后随压力进一步增高 (P >2GPa)而减小 .还讨论了压力影响Fe73 .5 Cu1Nb3 Si13 .5 B9纳米晶合金形成的机制 . 相似文献
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