三洋投资150亿日元生产快闪E~2PROM

日本三洋电机公司为了增加生产快闪EZPROM，在生产分公司约投资150亿日元，使目前400万个的生产能力扩大二倍。由于数字摄像机等新型设备的需要增加，生产能力的成倍增加是必要的。新增新泻三洋电子的H条生产线。1997年的半导体设备投资为630亿日元。三洋投资150亿日元生产快闪     

聚丙烯微孔膜的等离子体接枝聚合改性

利用拉伸时的晶型转变致孔特性,从β晶相聚丙烯经单向或双向拉伸制得了新型聚丙烯微孔膜、用等离子体接枝聚合技术接上了亲水性聚合物如聚丙烯酸、聚丙烯腈等。研究了等离子体处理时间、单体性质对得到的亲水膜的亲水性、离子/溶质渗透性的影响。发现接枝聚丙烯酸的双向拉伸膜对Na~+、Mg~(++),尿素有较大的渗透性,并具有优良的形状稳定性。     

AFTEX—3000F型ECR溅射装置

电子回旋共振(ECR)等离子体法广泛用于SiO_2、Si_3N_4膜等的低温CVD技术,以及MOS器件的微细栅极刻蚀技术。在ECR等离子体法中,由于低气压下生成高离子化的等离子体,故以低能量、大的离子电流照射而能持续进行表面反应,然而以往的技术无法实现高质量的薄膜工艺。由于用固体靶溅射,靶材供给容易,进而把上述技术作为基础,开发了ECR溅射技术。     

基于FPGA的位同步信号提取

同步是通信系统中一个非常重要的实际问题。在同步通信系统中,同步系统性能的降低会导致通信系统性能的降低,甚至使通信系统不能正常工作。因此,同步是信息能够正确可靠地进行传输的前提。介绍一种基于FPGA的锁相环位同步提取技术的原理,并用VHDL语言编程实现,在QuartusⅡ下编译仿真通过,给出仿真波形图。经分析该设计稳定可靠,且能够完成要求。     

利用EGR技术生成薄膜

半导体制造工艺中的薄膜生长,迄今广泛应用的是热CVD法(Chemical VaporDeposition)和等离子CVD法,而这些方法是在高温状态下进行的,因此,对那些衬底耐热性较差或者经高温处理其性能和可靠性要降低的器件来说,利用这些方法有一定的困难。为了提高大规模集成电路、超大规模集成电路的性能、集成度和成品率,迫切需要一种能在低温下形成高质量薄膜的薄膜生长新技术。     

原子吸收法在有机分析中的应用（Ⅵ）香烟中氢氰酸的分析

原子吸收法在有机分析中的应用（Ⅵ）香烟中氢氰酸的分析谢志海，郎惠云，高云（西北大学化学系，西安，７１００６９）关键词：氢氰酸，测定，原子吸收光谱香烟中的尼古丁，烟焦油等含氮有机物燃烧后将产生氢氰酸，吸入人体后极为有害。国外在这方面的研究始于七十年代，...