用于激光扫描的几种动态聚焦系统分析

分析了几种不同的动态聚焦系统的特点，给出了激光束通过该系统的变换公式以及光杠杆比和透镜焦距的确定方法。     

光固化快速成型中光敏树酯的光学特性对成型的影响

研究了光固化快速成型中光敏树酯的光化学过程、光敏树脂与固化光源的匹配性以及对光吸收特性和固化特征,分析了这些因素对成型过程的影响,为快速成型机的实际应用提供了参考.     

压印光刻中紫外光诱导阻蚀胶固化控制计算

针对压印过程中两类基本的复型缺陷，从实验分析中得出其主要原因是曝光后阻蚀胶的固化程度难以控制．通过分析紫外曝光光源与阻蚀胶的光谱匹配性，得出使得阻蚀胶固化的有效波长为365nm；对光诱导紫外曝光过程中紫外光的传播分析，建立了阻蚀胶中光强分布的数学模型；用粘度来表征阻蚀胶的固化程度，建立了阻蚀胶中的粘度分布函数．分析了阻蚀胶对365nm紫外光的吸收率以及膜厚对阻蚀胶中光强分布均匀性的影响，得出复型后阻蚀胶凸起处的光强分布均匀性对吸收率及膜厚更为敏感的结论．     

高斯光束柱面反射展成法生成光刀的研究

提出一种利用高斯光束柱面反射展成法生成光刀的新方法 ,并导出了光刀几何参数的预估算式。实验表明 ,采用该方法生成的激光光刀线宽变化小 ,对比度高 ,景深大 ,适合作为主动式三维面形测量用线结构光。     

光切成型石墨电极三维模面测量技术的研究

基于光切法三角测量原理,提出一种实现成型石墨电极三维模面的扫描测量方案.文中讨论了光切法三维测量原理及系统组成,并提出了一种基于均匀点阵的虚拟网格标定技术,最后给出了奥迪车门模型石墨电极模面的实际测量结果.通过对测量结果的分析表明此方案简易可行.     

微压印光刻的模具制作工艺研究

从模具材料研究模具制作工艺问题，通过实验研究，对比分析了有机玻璃模具和硅橡胶模具制作工艺。实验表明，可以复制出特征尺寸为0．35μm和0．1μm的有机玻璃模具和硅橡胶模具，均具有很高的复型精度。由于硅橡胶模具制作工艺在复型精度、复型精度稳定性和制作速度上均优于有机玻璃模具，且缺陷密度低于有机玻璃模具。因此，选用基于高复型精度软硅橡胶模具的软压印光刻工艺。     

高精度基准平面建立方法分析

基准平面的确立,是进行表面参数评定的基础;建立理想的基准平面,在几何量形位公差检测及相关工程测量方面具有重要作用.为了建立高精度的激光扫描基准平面,对扫描平面形成过程中光束的传播进行了详细分析;根据光学矢量反射定律,推导出了扫描误差的理论公式;在此基础上揭示了误差补偿的基本原理,导出了用于补偿扫描机构产生的扫描误差的理论公式;提出了据此准则进行设计的扫描机构的模型.分析表明,用激光及其扫描装置建立光学基准面时,扫描误差是不可避免的,这种误差不加补偿,则最终将引入基准光学平面影响基准精度,进而降低参数的评定精度;借助于所推导的误差补偿公式,是可以补偿这种误差的,这对于建立高精度的扫描基准平面具有理论指导意义.     

基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作

介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法。在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联剂不同涂敷方式及不同蒸镀时间对刻蚀结果的影响,优化了硅烷偶联剂的涂敷工艺,使钻蚀率降低到0.6,图形几何形状得到改善。分析了刻蚀生成物的溶解度,采用HCl作为刻蚀液添加剂对刻蚀产生的难溶物进行分解,提高了表面质量。对刻蚀表面缺陷的形成原因进行了分析,采用厚胶层工艺消除了表面缺陷。利用该工艺制作了图形特征尺寸为100μm的MEMS压印模版,并进行了初步压印实验,得到了很高的复型精度。     

超精密磁悬浮工作台的一种低功耗磁悬浮设计

超精密磁悬浮工作台的磁悬浮部分的设计，将直接影响到系统的动力学性能、空间结构以及热性能等。针对这些性能上的要求，给出了一种三磁极电磁铁及相应的磁悬浮设计，并结合常规双磁极电磁铁的情况，对性能进行了分析和比较。相比之下，该设计可使静态功耗(或发热量)降低50％，具有更合理的空间结构。只需要两个这样的电磁铁便可以实现工作台的磁悬浮(采用双磁极电磁铁则通常需要四个)。最后通过一个应用实例及实验结果，验证了该设计的正确性和有效性。     

脉冲激光加热薄膜微尺度热传递研究进展

短脉冲激光显微微加工因其具有制作高精度微结构的能力和其在现代微制作技术中的应用,微尺度薄膜热传递的研究受到极大关注,近年来对薄膜结构高频加热的研究迅猛发展。本文对十年来薄膜微尺度热传递的相关研究进展做了简要评述。