LED负载LLC谐振变换器参数设计

由于LED负载的等效电阻具有可变的特性,传统的电阻负载LLC谐振电路参数设计方法不再适用于LED负载LLC谐振电路参数设计.在电阻负载LLC谐振电路参数设计的基础上,提出一种新的设计方法,使LLC谐振电路在LED负载正常工作范围内满足零电压开关(ZVS);介绍了详细的公式推导和设计过程.基于所提出的方法,以一个谐振频率为100 kHz,额定输入电压为400 V的两路LED灯串为例,给出了设计和仿真结果,验证了新设计方法的可行性.     

高散热变k介质埋层SOI高压功率器件

针对常规SOI器件纵向耐压低和自热效应两个主要问题,提出了变k介质埋层SOI(variable k dielectric buried layer SOI,VkD SOI)高压功率器件新结构.该结构在高电场的漏端采用低k介质以增强埋层电场,在高电流密度的源端附近采用高热导率的氮化硅埋层,从而器件兼具耐高压和降低自热效应的优点.结果表明,对于k1=2,k2=7.5(Si3N4),漂移区厚2μm,埋层厚1μm的器件,埋层电场和器件耐压分别达212V/μm和255V,比相同厚度的常规SOI器件的埋层电场和耐压分别提高66%和43%,最高温度降低52%.     

用傅立叶光学展宽Interleaver的带宽

简要介绍了Interleaver的原理和应用。在推导、比较马赫－泽德干涉仪型和双折射晶体型Interleaver的传输矩阵的基础上，提出并分析了用傅立叶光学展宽Interleaver带宽的方法。     

具有增强介质层电场的SJ-LDMOS

横向超结功率器件遭受衬底辅助耗尽效应,这破坏了超结的电荷平衡,降低了器件的耐压。本文研究了一种基于增强介质层电场的解决方法,以提高横向超结器件（SJ-LDMOS）的耐压。通过高密度的界面电荷增强埋氧层（BOX）的电场从而提高埋氧层的耐压,这可以削弱纵向电场对超结的影响,消除衬底辅助耗尽效应,促进超结电荷平衡。为了获得理想的线性电场增强效果,一种具有槽形埋氧层的超结器件（TBOX SJ-LDMOS）被提出。槽形埋氧层能根据纵向电场的大小自适应地收集空穴,在埋氧层表面形成近似线性的电荷分布,这促进了超结的电荷平衡,提高了SJ-LDMOS器件的耐压,并使其接近理想超结的耐压值。     

内嵌SCR的LDMOS器件双骤回ESD特性研究

基于寄生参数分析,对内嵌SCR的LDMOS器件给出了二次骤回发生判据。本文对三种典型结构进行了数值仿真和比较,并基于此判据仿真优化了影响二次骤回的器件结构参数,从而提高器件ESD性能。TLP试验数据表明,当二次骤回电压由25.4V降低到8.1V时,器件ESD泄放能力由0.57A提高到3.1A。     

330GHz砷化镓单片集成分谐波混频器

在太赫兹频段,二极管尺寸与波长相比已不能忽略,二极管的封装会引入很大的寄生参量,因此需建立二极管三维模型提取寄生参数.同时人工装配难度增大,会增加电路不确定性.采用12μm砷化镓单片集成悬置微带线结构,基于电子科技大学与中国电子科技集团第十三研究所自主联合设计的肖特基二极管研制330 GHz砷化镓单片集成分谐波混频器.实测结果显示在5 mW本振功率的驱动下,在328 GHz可得到最小变频损耗10.4 dB,在320~340 GHz范围内,单边带变频损耗小于14.7 dB.     

超临界干燥多孔硅的光致发光

对两种不同条件下制备的多孔硅进行了红外透射光谱测量，并对超临界干燥和自然干燥条件下的光致发光光谱进行了对比测量。用高分辨率透射电镜对其结构进行了观察，研究表明多孔硅的发光机理与其制备条件有关。     

无线通信技术在海上风电工程中的应用

针对海上风电基建期和运维期对通信的差异化需求,分析了卫星、4G/5G、微波通信的技术特点,提出了一种微波与4G技术融合组网的无线通信方案.在基建期利用微波通信技术传输监控信息,利用船载4G和微波技术传输话务信息,在运维期利用4G和微波技术传输监控、话务信息.最后分别对基建期和运维期方案所需的设备及服务进行了系统配置,不...     

电容传感芯片外部坏点的成因与控制

外部坏点造成的不良是电容传感芯片制造过程中良率损失的主要来源之一。由于庞大的市场需求和日趋激烈的竞争,有必要进一步提升产品良率。从电容传感的原理出发,阐释外部坏点与产品实际物理结构之间的联系;按照失效分析的思路介绍了大粒径塑封填料颗粒异常混入、小粒径填料颗粒异常聚集和塑封料基体树脂异常聚集3类造成电容传感芯片外部坏点的典型成因;并借助有效介质理论归纳了相应的物理模型,给出大颗粒或聚集体临界尺寸的计算方法。在此基础上,依据外部坏点的物理表现和临界尺寸的计算结果,从塑封原材料的生产和塑封料的来料检验角度,分别提出了管控方案。根据实施方案前后同型号产品多批次因外部坏点导致的不良品扣料监控数据分析,几类措施均能有针对性地提升产品良率。     

重复短路应力下p-GaNHEMT器件的阈值电压退化机制

p-GaN HEMT凭借高频、高功率密度的优势,已逐渐应用于高频电源领域。负载短路、错误的栅控信号等因素均会导致器件处于严重的短路状态。目前,研究重点多聚焦于600 V/650 V商用器件的最终失效上,缺乏对器件在短路应力下的退化机理研究。通过重复短路应力研究了100 V商用p-GaN HEMT的短路稳健性,随着应力次数的增加,器件的阈值电压VTH表现出持续正向漂移且漂移量可达+0.65 V,漏极电流IDsat持续下降。此外,还研究了短路应力后器件的动态恢复过程。在较弱的短路应力后,由于Al GaN势垒层内的陷阱和p-GaN/AlGaN界面陷阱释放掉被捕获的电子,VTH和IDsat能够完全恢复;而在苛刻的短路应力后,栅下产生的热电子将轰击p-GaN/AlGaN界面从而诱导出新的界面缺陷,这将导致VTH永久性的正向漂移,最终使得IDsat不可恢复。