基于Elman-AdaBoost强预测器的目标威胁评估模型及算法

 目标威胁评估是协同目标攻击中的关键问题.为提高空战目标威胁评估的准确性和实用性,建立了Elman_-AdaBoost强预测器目标威胁评估模型及算法.首先,介绍了Elman_-AdaBoost强预测器;其次,建立了Elman_-AdaBoost强预测器目标威胁评估模型;最后,提出了基于Elman_-AdaBoost强预测器目标威胁评估模型的算法.采集75组数据用于实验,其中60组作为训练集,15组作为测试集.分别选择Elman网络隐层节点数L=7,11,14,18和弱预测器数目K=6,10,16,20进行实验,结果表明,Elman_-AdaBoost强预测器算法预测误差远小于弱预测器且在L=7和K=6时误差达到最小.Elman_-AdaBoost强预测器目标威胁评估模型和算法具有很好的预测能力,可以快速、准确地完成作战目标威胁评估.     

刺五加雌、雄花的花柱引导组织结构观察

利用光学显微镜、透射电子显微镜观察了刺五加(Eleutherococcus senticosus)雌、雄花的花柱及其引导组织的结构。结果表明:1.刺五加花柱处合生心皮内表面未完全融合,形成由中心向四周分支的裂缝;2.雌性花柱较雄性花柱,引导组织更为发达;3.发育过程中引导组织细胞内不断有储存为脂体的营养物质分解,并分泌到细胞间隙;4.传粉后,雌花花柱引导组织的部分细胞发生降解,形成大的溶生的细胞间隙,花粉管从中穿过,而雄花花柱中未见溶生的细胞间隙,亦未见花粉管穿过。     

表面光电压技术在Si外延过程中的应用

介绍了用表面光电压(SPV)法测试少数载流子的扩散长度、少子寿命和体Fe含量的基本原理及其计算方法,分析了三种常见外延结构中少子扩散长度的测试方法及其影响因素,得出了用于表面光电压测试的外延片及衬底片应满足的条件。提出了在外延工艺前后,用SPV法测试同一p型控片中少子的扩散长度和体Fe含量,对比前后值的大小来监测Si外延工艺过程中的沾污情况。分别给出了衬底片、石墨基座、HCl、SiHCl3、外延腔体等5种Si外延过程中最常见沾污源的监控和识别流程,特别以平板式外延腔体为例,具体说明了识别及排除Fe沾污所运行的工艺程序,并对Fe沾污的测试结果进行了分析,确定了Fe沾污的来源。     

通信系统磷酸铁锂电池规模应用可行性分析

本实验在基站实际工作环境下的测试,通过本次试验数据的对比分析,研究磷酸铁锂电池在通信行业中应用的可行性、适应性,并找到在通信行业中使用的最佳控制方案。     

红外搜索技术

为了发挥红外技术的优点和开发高技术的更多应用,如红外制导、火控、跟踪、成像以及预警系统等,本文描述了红外搜索系统及其主要参数,如瞬时视场、搜索视场、扫描速率、带宽、扫描效率、探测概率、信噪比、搜索距离等。红外搜索系统在国外已相当发展并应用于某些领域。但在我国仍属空白。预计不久的将来,随着激光对抗武器和目标侦察系统的需要,将会迅速地发展。     

电光调QNd：YAG蓝绿激光在水下弹道测量中的应用研究

介绍了适于在海水中传输的激光光源的各重要性能指标的选择依据和论证过程。描述了电光调QNd：YAG脉冲激光光源的设计原理、基本结构。实验证明该激光光源具有较好的工作性能,获得的测量数据经修正后误差均在0．05m以内,能够满足水下激光弹道测量的要求。     

用计算机产生全息图(CGH)制作楔环形探测器(WRD)及其在模式识别中的应用

本文提出用计算机全息图配合CCD器件制成具楔环探测器功能的CGH/WRD系统。它将取样、探测功能相分离,充分利用CGH的灵活性,亦可适用于其他形式的     

VLSI用低介电常数含氟碳膜研究

用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法制备了不同工艺条件下的含氟碳膜。测量了薄膜的厚度和介电常数,并用傅立叶红外光谱分析了薄膜化学结构,发现薄膜成分和介电性与沉积工艺密切相关,对薄膜的SEM分析表明所得薄膜均匀致密。控制适当的工艺条件,可沉积理想的超大规模集成电路(VLSI)用钝化膜。     

大力发展光子产业 促进西部大开发

简要介绍了光子产业的发展历史、现状、特点和趋势,初步研究了光子产业的发展模式和领域,对确立光子产业在西部发展中的战略地位有较高的参考价值。     

合成孔径激光成像雷达(Ⅴ):成像分辨率和天线孔径函数

基于合成孔径激光成像雷达(SAIL)二维数据收集方程和成像算法,研究了圆形孔径和矩形孔径光学望远镜天线的方位向成像分辨率,导出了点扩展函数的解析表达式,分析了理想成像点尺寸及其光学足迹中心偏离、相位二次项匹配滤波失匹、空间采样宽度、采样周期等的影响;也研究了距离向成像分辨率并分析了非线性啁啾补偿等的影响.对于各种影响因素都给出了数学判据,特别是发现了矩形孔径的光学望远镜可以产生适合于SAIL扫描方式的矩形光学足趾并消除方位向分辨率不均匀降低,可以设计最佳的矩形孔径的尺度分别控制光学足趾在方位向及其垂直方向上的尺度,得到大扫描宽度和高方位向分辨率;也发现了目标外差延时必须尽量小以克服非线性啁啾和初始光频不稳定性相位误差.