应用ICP-AES表征高剂量氧注入过程中的金属污染

研究了采用感应耦合等离子体-原子发射光谱技术表征高剂量氧注入单晶硅制备SIMOX-SOI材料过程中金属杂质污染的有效性.同时研究了采用强酸清洗、加SiO2膜覆盖等方法对降低污染程度的效果.利用ICP技术可以对大面积或整个硅片进行采样,检测结果是一种整体的平均效果.采用强流氧注入机进行高剂量氧注入,发现金属杂质污染元素主要是Al、Ar、Fe、Ni;注入后强酸清洗样品可有效降低Al污染;60nm厚的二氧化硅注入保护膜可阻挡一半的上述金属污染.     

InGaAsP/InP双异质结双极晶体管与1.5μm激光二极管的单片集成

介绍一种双异质结InGaAsP/InP双极晶体管,它包括一层用溅射淀积制备的作宽禁带发射区的CdO膜。电流增益已高达40。用CdO层作集电区时,晶体管还能以相反方式工作。该管的主要特点是在结构方面与可作单片集成的1.5μmDH激光器相容。     

介质光波导的数值计算及近似方法

综述介质光波导中模式分析方法的最新进展。着重分析严格的数值分析方法及近似方法最近的研究进展。依据方法的计算精确度、计算效率和计算复杂度等因素．对有限元法和有限差分法这两种数值分析方法以及有效指数法和频谱指数法等近似方法进行讨论。论述磁光波导的分析方法。     

高稳定度CPM飞秒激光特性的研究

利用最优化动力学参数的方法,获得了高稳定度的CPM飞秒激光器运转特性。激光器输出平均脉宽43fs,中心波长624nm,平均功率20mW,脉宽不稳定度±3.3％,频率不稳定度小于10~(-6)。     

有毒有机污染物光化学降解及机理研究

水环境污染已成为全球性普遍关注的重要课题.Fenton氧化法和Fenton光化学氧化法由于它在处理废水中的有毒有机污染物方面呈现了其它处理方式不能取代的特点而具有广阔的应用前景.虽然Fenton氧化法是一种非常有效的废水处理方法,但是由于体系中大量的铁离子的存在,使得处理后的体系带有颜色,且沉降铁泥的处理大大增加了运行成本.此外,Fenton反应一般需要在pH小于3的酸性介质中进行及在反应过程中过氧化氢的利用率不高等不足都限制了该方法的广泛应用.在本文中,我们用铁络合物代替Fenton反应中的铁离子并首次把可见光引入到反应体系中氧化降解有机污染物,着重研究了铁络合物在可见光照射下在均相和异相反应体系中对有毒有机污染物的光催化降解动力学、光化学反应机理、微环境的影响、活性自由基的形成以及光降解产物等方面内容,并得出以下几个重要结论:     

碳铂类似物的合成,表征及对大鼠W—256肉瘤的抑制作用

合成了十八种〔PtA_2X〕·yH_2O,其中A分别为NH_3、CH_3NH_2、1/2乙二胺和1/2(2,3-二甲基-2,3-丁二胺),X分别为1,1-环丙烷二羧酸根(CPrDCA)、2-甲-1,1-环丙烷二羧酸根(2-M-CPrDCA)、2-甲-1,1-环丁烷二羧酸根(2-M-CBDCA)、1,2-环戊烷二羧酸根(CPDCA)和1,1-环已烷二羧酸根(CHDCA),并进行了表征。测定了配合物抑制大鼠W-256肉瘤的活性,发现配合物〔Pt(NH_3)_2X〕系列按X不同有以下的活性次序:CPrDCA>2-M-CPrDCA>CPDCA>CBDCA(碳铂)≥2-M-CBDCA。     

超临界二氧化碳在高分子合成及加工领域的应用

重点概述了近年来超临界二氧化碳作为环境友好介质在高分子合成与加工方面研究的新进展,具体介绍了在超临界二氧化碳中丙烯酸的合成及疏水改性方面所做的工作,并在此基础上,展望超临界二氧化碳作为高分子合成介质的前景。     

乙基醋酸纤维素溶致性液晶的研究

非全取代的乙基纤维素在浓硫酸催化下与醋酸反应,生成乙基醋酸纤维素。乙基醋酸纤维素在适当的条件下可以形成溶致性液晶。随浓度的升高,溶液从各向同性态经两相共存,转变成完全的液晶态。在加热溶液时,可以看到两相共存状态的形成和液晶相的完全消失,降低温度,液晶相又可以再生成。在液晶相生成的过程中,存在过冷现象,液晶聚集的区域由许多微小的取向区域组成,它们的取向方向不相同。溶液的n—c曲线在各相同性、两相共存和液晶态区域内是直线,但在这些相态之间相互转变时出现转折点。溶液的双折射△n=ne—no在两相共存与液晶态相互转变时也会发生较大变化。乙基醋酸纤维素大分子链的刚性随有机酸溶剂体系的酸的强度增大而增大,使临界浓度C_1~*随溶剂酸的强度的增大而减小。     

超临界二氧化碳-高分子化学中的绿色介质

介绍了超临界二氧化碳的特点，综述了近期以超临界二氧化碳为溶剂的高分子聚合和高分子化学反应及其应用前景。指出超临界CO2在聚合反应中能作为传统有机溶剂的替代溶剂。