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81.
We present high power terahertz quantum laser at about 3 THz based on bound-to-continuum active region design. At 10 K, corrected by the collection efficiency, the maximum peak power of 137 mW is obtained in pulsed mode. What's more, we firstly introduce Inonolithically integrated THz quantum cascade laser (QCL) array and the maximum peak power increased to 218 mW after correction. In total, the array shows better performance than single device, implying cheerful prospect. 相似文献
82.
采用等离子体增强化学汽相沉积技术生长不同氧含量的氢化非晶氧化硅薄膜(a-SiOx:H),离子注入铒及退火后在室温观察到很强的光致发光.当材料中氧硅含量比约为1和1.76时,分别对应77K和室温测量时最强的1.54μm光致发光.从15到250K的变温实验显示出三个不同的强度与温度变化关系,表明氢化非晶氧化硅中铒离子的能量激发和发光是一个复杂的过程.提出氢化非晶氧化硅薄膜中发光铒离子来自于富氧区,并对实验现象进行了解释.氢化非晶氧化硅中铒发光的温度淬灭效应很弱.从15到250K,光致发光强度减弱约1/2. 相似文献
83.
We demonstrate 10 Gb/s directly-modulated 1.3 μm InAs quantum-dot (QD) lasers grown on GaAs substrates by molecular beam epitaxy. The active region of the QD lasers consists of five-stacked InAs QD layers. Ridge-waveguide lasers with a ridge width of 4 μm and a cavity length of 600 μm are fabricated with standard lithography and wet etching techniques. It is found that the lasers emit at 1293 nm with a very low threshold current of 5 mA at room temperature. Furthermore, clear eye-opening patterns under 10 Gb/s modulation rate at temperatures of up to 50oC are achieved by the QD lasers. The results presented here have important implications for realizing low-cost, low-power-consumption, and high-speed light sources for next-generation communication systems. 相似文献
84.
Boron-doped hydrogenated silicon films with different gaseous doping ratios(B2H6/SiH4) were deposited in a plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) system.The microstructure of the films was investigated by atomic force microscopy(AFM) and Raman scattering spectroscopy.The electrical properties of the films were characterized by their room temperature electrical conductivity(σ) and the activation energy(Ea).The results show that with an increasing gaseous doping ratio,the silicon films transfer from a microcrystalline to an amorphous phase,and corresponding changes in the electrical properties were observed.The thin boron-doped silicon layers were fabricated as recombination layers in tunnel junctions.The measurements of the I-V characteristics and the transparency spectra of the junctions indicate that the best gaseous doping ratio of the recombination layer is 0.04,and the film deposited under that condition is amorphous silicon with a small amount of crystallites embedded in it.The junction with such a recombination layer has a small resistance,a nearly ohmic contact,and a negligible optical absorption. 相似文献
85.
86.
87.
88.
半导体量子点激光器研究进展 总被引:11,自引:0,他引:11
首先简要地回顾了半导体激光器发展的历史和量子点激光器所特有的优异性能,进而介绍半导体量子点及其三维量子点阵列的制备技术,然后分别讨论了量子点激光器(能带)结构设计思想,实现基态激射时所必须具备的条件和近年来国内外半导体量子点器的研究进展。最后分析讨论了量子点激光器研制中存在的问题和发展趋势。 相似文献
89.
采用等离子体增强化学汽相沉积技术生长不同氧含量的氢化非晶氧化硅薄膜(a-SiOx sub>∶H),离子注入铒及退火后在室温观察到很强的光致发光.当材料中氧硅含量比约为1和 1.76时,分别对应77K和室温测量时最强的1.54μm光致发光.从15到250K的变温实验显示 出三个不同的强度与温度变化关系,表明氢化非晶氧化硅中铒离子的能量激发和发光是一个 复杂的过程.提出氢化非晶氧化硅薄膜中发光铒离子来自于富氧区,并对实验现象进行了解 释.氢化非晶氧化硅中铒发光的温度淬灭效应很弱.从15到250K,光致发光强度减弱约1/2.
关键词:
铒
光致发光
氧含量 相似文献
90.