凝聚态物理学的新进展 Ⅰ

本文综述凝聚态物理学近几年来的重要进展,列举了一些事例予以阐述。在第Ⅰ部分中涉及的主题为:对固体物理学与凝聚态物理学的“范式”进行探讨,对金属氢、重电子金属及氧化物超导体等新有序相探索与研究的近况作一概述。     

LiNbO_3晶体中包裹物和位错的X射线形貌研究

用X射线透射扫描形貌方法研究了LiNb0_3晶体中的包裹物和位错。在实验中发现了包裹物的相应于不同衍射矢量的X射线形貌与基于各向同性理论预言的形貌之间存在分歧,这被解释为弹性各向异性效应。同时还观察到Burgers矢量为最短点阵平移矢量1/3的纯刃型位错和次短点阵平移矢量1/3<0111>的纯螺型位错,以及由该螺型位错组成的纯扭转晶界。     

LiNbO3和LiTaO3单晶体中亚晶界位错结构的研究

本文应用透射法和超显微法对用金缀饰后的LiNbO₃和LiTaO₃单晶体进行了直接观测,观察到两种晶体中亚晶界的三维面貌,对亚晶界进行了极图分析,并进一步用Frank公式进行了定量验证。通过对位错网及三叉亚晶界的分析,表明该类晶体中存在的位错的Burgers矢量是:最短点阵平移矢量——六角晶胞的基矢<1210>,次短点阵平移矢量——菱胞基矢1/3<0111>,以及再次短点阵平移矢量——菱胞短体对角线分1/3<2021>。 关键词：     

人造石英单晶中位错双折射像的反衬

考虑了光弹系数的各向异性,对石英晶体中位错双折射象的反衬进行了计算。在实验上采用反射偏光法抵消旋光后沿光轴观察获得了位错双折射象,并和计算结果进行了比较。 关键词：     

追念钱临照先生——《钱临照文集》读后感

文章叙述了钱临照教授的科学生涯,展示了他对物理学所作的主要贡献和对现代中国科学和教育事业的发展所起的重要作用.文中也包含了作者的一些个人回忆.     

关于前苏联晶体学研究所的一些回忆

在我的记忆中,南京大学1953年就在当时学苏联的浪潮下建立了金属物理教研组.当时施士元教授担任主任.1958年,施士元教授调任新建的核物理教研组,由我开始担任金属物理教研组主任.     

在中国物理学会第五届第二次全体理事会上的工作报告

各位理事：今天我们欢聚一堂,在清华大学召开五届二次全体理事会,我受本届常务理事会的委托,向各位理事报告两年来的工作,请予审议．两年来,在中国科协的领导下,我会在开展学术交流、科普与青少年活动、物理教学研究、科技咨询等方面做了许多工作,取得了较好成绩,现扼要汇报如下．一、两年工作的回顾１９９１年３月中国物理学会召开了第五届全国会员代表大会,选举产生了本届理事会．在第一次全体理事会上,与会同志就?...     

Nd∶LiTaO_3背散射组态下的喇曼光谱异常

本文研究了掺钕钽酸锂晶体背散射几何组态下的喇曼光谱，与纯钽酸锂晶体的喇曼光谱相比，发现喇曼谱中不仅有Ｅ（ＬＯ＋ＴＯ）模向Ａ１（ＴＯ）模的转变，而且还有新振动模的出现和部分振动模强度的变化，本文用光折变理论结合掺杂后晶体微观结构的改变对实验结果作了分析和探讨．     

DISLOCATION DISSOCIATION ON CLIMB PLANE IN TEXTURED YBa2Cu3O7-δ SUPERCONDUCTOR

Using high resolution electron microscopy, the structure of [100] tilt boundary with misorientation of 1.2° in YBa₂Cu₃O_7-δ has been determined. The boundary is shown to consist of an array of partial dis-locations, These partials result from the dissociation of a perfect dislocation with a Burgers vector [0, 0, c] on its climb plane according to the reaction, b→b₁+b₂+b₁+b₂+b₁+b₂. Here b=[00c], b₁=[O,b/2, c/6} (or [a/2, 0, c/6] ). b₂=[0, -b/2. c/6] (or[ -a/2, 0, c/6] ). The spacing between the perfect dislocations satisfies the Read-Shockley formula. There exist no amorphous phases in the boundary region.     

a-Si∶H/SiO2多层膜晶化过程中的发光机理

采用在等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统中淀积a-Si∶H薄膜结合原位等离子体氧化的技术，制备了一系列不同a-Si∶H子层厚度的a-Si∶H/SiO2多层膜. 通过对其进行三步热处理：脱氢、快速热退火及准静态退火,使a-Si∶H/SiO2多层膜中a-Si∶H层发生非晶态到晶态的相变，获得尺寸可控的纳米硅nc-Si/SiO2多层膜. 结合Raman谱，FTIR谱和TEM测试，对退火过程中多层膜的光致发光性质进行跟踪研究，分析了a-Si∶H/SiO2多层膜在各个热处理阶段发光机理的演变，讨论了a-Si∶H/SiO2多层膜晶化为nc-Si/SiO2多层膜过程中，发光机制与微结构之间的相互联系.