一种用于VLSI工艺模拟的反应离子刻蚀速率模型

本文提出了一种适用于VLSI工艺模拟的反应离子刻蚀(RIE)速率模型。模型的建立采用统计数学方法,结合较少次数的实验。该模型精度高,实用性强。对CF_4/O_2刻蚀二氧化硅和SF_6/O_2刻蚀掺磷多晶硅的实验表明,模型精度达到5％。该模型植入刻蚀模拟器后能使亚微米刻蚀模拟的精度,提高到一个新的水平。     

一类具有反射变元的泛函微分方程的有界解和概周期解

利用指数二分法及不动点定理,研究了一类具有反射变元的中立型泛函微分方程的有界解和概周期解的存在性.     

数学竞赛之窗

本期给出第３９届ＩＭＯ试题及解答，解答由上海科技出版社田廷彦先生提供，由冯志刚编辑．第３９届国际数学奥林匹克（１９９８年７月１０日至７月２１日台北）第一天１．凸四边形ＡＢＣＤ中，两对角线ＡＣ和ＢＤ互相垂直，两对边ＡＢ与ＣＤ不平行，且ＡＢ与ＣＤ的垂直平...     

中国物理学会和美国物理学会双边会议简讯

中国物理学会和美国物理学会双边会议简讯应中国物理学会的邀请，美国物理学会主席ＢｕｒｔｏｎＲｉｃｈｔｅｒ教授、下届当选主席Ｃ．ＫｕｍａｒＮ．Ｐａｔｅｌ教授和国际部主任ｌｒｖｉｎｇＡ．Ｌｅｒｃｈ博土一行三人于１９９４年１０月１０－１６日对我国进行了访问，...     

测量铜原子亚稳态密度的饱和吸收法

提出了测量连续脉冲放电余辉期激活粒子亚稳态密度的饱和吸收方法,在两台分别作为探测光源和吸收池的溴化亚铜激光器测量系统中得到证实。观察和讨论了D_(5/2)亚稳态能级布居在脉冲间隔的弛豫特性。     

定常Navier-Stokes方程最小二乘Petrov-Galerkin有限元逼近的L~∞-估计

描述定常粘性不可压缩流动原始变量表述的N-S方程,为求(u,p)满足 -v△u+(u·?)u+?p=f,在Ω中, div u=0, 在Ω中, (1.1) u=0, 在?Ω上,其中u表示速度,p表示压力,f表示所给外力,v为粘性系数,Ω?R~2为有界区域。引进Sobolev空间X=(H_0~1(Ω))~2,M=L_0~2(Ω),则适合于通常混合有限元逼近的弱形式如     

矩阵液晶调制器实现光学逻辑运算

本文采用多路驱动法研制出矩阵式液晶调制器,并可在IBM/XT计算机控制下产生图像。利用此调制器建立了一种新的光学逻辑运算器,并实现了16种布尔逻辑运算及光学半加运算。这种偏振编码、紧凑的逻辑运算器是实现光计算的基本运算单元。     

三明治腔结构的Nd:YVO_4激光器

报道了一种三明治腔结构（Ｓａｎｄｗｉｃｈ－ｔｙｐｅｒｅｓｏｎａｔｏｒ）的ＮｄＹＶＯ４全固态激光器。用发射波长８０６ｎｍ的光纤耦合二极管激光器（ＬＤ）泵浦ＮｄＹＶＯ４晶体，泵浦光功率为７Ｗ时获得１．０６４μｍ连续波（ＣＷ）ＴＥＭ００模最大输出功率为３．７Ｗ，光学斜效率为６２％；将ＫＴＰ放入腔内倍频，当泵光为５．６Ｗ时，获得ＣＷ绿光输出６２０ｍＷ。光－光转换效率达１１％。     

正交鉴相电路及其鉴相精度分析

正交鉴相技术与单片微机数据处理系统相结合,产生了一种新颖的相位检测方案。本文重点讨论影响正交鉴相电路鉴相精度的各种误差因素,给出了计算公式和计算结果。