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侯印春 《激光与光电子学进展》1986,23(7):48
美国特种材料公司的W. R. Stark报道,国防工业用的高性能激光器和红外成像系统正由于红外光学材料的持续发展而出现。这些系统不仅对破坏阈值极高的优质薄膜提出要求,而且对生产均匀性标准特别高的红外材料工艺现状也提出要求。 相似文献
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侯印春 《激光与光电子学进展》1987,24(3):38
核武器设计方面的技术进展意味着美国和英国可能很快就生产出新型弹头,而不必通过地下核爆炸来检验这种设计。这些进展可能部分地解释为什么两国政府不愿意与苏联就全面禁止核试验条约恢复谈判。 相似文献
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侯印春 《激光与光电子学进展》1987,24(8):42
东芝公司用准分子激光器和石英透镜的十分之一缩小光学系统,制成电路线宽为0.35 μm、大小为5 mm见方的图案。估计用这一技术并改进原有的曝光技术,对如工64 M DRAM (动态存储器)(电路线宽20.5 μm)。 相似文献
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侯印春 《激光与光电子学进展》1989,26(2):40
日本富士通研究所上月在新奥尔良召开的第4 非击式印刷机国际会议上发表了新研制成不用电晕带电的光印刷法。它将代替目前作为电子照相印刷的卡尔松法,该所把这种新方法称为“光背面记录法。” 相似文献