基于DSP新型图形发生器模数转换器的设计

介绍了一种电子束曝光机图形发生器模数转换器的设计方案，该设计方案以ADI公司的模数转换芯片AD9223为核心，根据电子束曝光机背散射信号的特点，设计了合理的前端放大器和驱动电路及基准源。这样，提供了与DSP的无缝接口并提高了转换速度。该模数转换器可用于电子束和离子束曝光机中的图形发生器采集标记数据和图像数据信息，同时也可用于原子力显微镜采集图像数据信息。     

基于DSP图形发生器曝光算法的研究

新型图形发生器使用DSP控制曝光过程，因此要求DSP程序高效地控制电子束实现图形的高精度扫描。而以往的算法(包括Bresenham算法)无法满足电子束扫描的特殊性，因此提出一种DSP实现曝光的算法。分析了Brcsenham算法的缺陷，同时对提出的新算法进行工作效率的理论分析和曝光数据的采集对比，结果证明该算法是一种能够保证精度和效率的算法。同时还探讨了斜矩形不分割的曝光算法。     

Ee－BES－40A全自动电子束曝光机

Ｅｅ－ＢＥＳ－４０光栅扫描电子束曝光机全部实现自动控制，为用户操作带来极大方便。本文简要论述该机的构成及调试中遇到的问题。重点论述真空自动化，送片机构的自动化，以及电子光柱调整的自动化。     

基于SEM纳米级电子束曝光机的快速束闸设计

基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动器等方面讨论快速束闸的设计.     

电子束图形转移过程中的数据分割和压缩算法

研究了电子束曝光机图形数据各式转换软件的分割、压缩算法,针对传统的图形数据分割、压缩算法存在的主要缺点,提出了新的分割算法和压缩算法,并对压缩算法进行了详细的论述和研究。     

环境因素对微纳加工中精确定位影响的研究

以双频激光干涉仪在电子束曝光机精确定位中的运用为例(其具有典型的代表性),研究环境因素对微纳加工中精确定位的影响,并针对温度是其中影响最大的因素,提出了一种实时温度补偿方法,修正了测量结果由于热膨胀不能真实反映工件台位置带来的定位误差.     

Ee—BES—40A全自动电子束曝光机

Ｅｅ－ＢＥＳ－４０光栅扫描电子束曝光机全部实现自动控制，为用户操作带来极大方便。本文简要论述该机的构成及调试中遇到的问题，重点论述真空自动化，送片机构的自动化，以及电子光柱调整的自动化。     

一种新的电子束曝光机中间图形及其数据格式

在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式。该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电子束曝光机专用数据格式服务的。它采用Niklans Wirth的表示方法进行定义，消除了二义性。经过实验性的程序验证，它不仅能很好地解决版图制造业标准数据格式不支持二次曲线的问题，而且图形设计人员可以直接以该数据作为标准，进行曝光图形的设计与存储。该数据格式的出现，为二次曲线单元图形在电子束曝光技术中的广泛应用奠定了良好的基础。     

带内孔平面多边形的并算法

电子束曝光机版图切割过程中可能出现带内孔的多边形，并且多边莆内环与外环之间可能发生重叠。针对这种多边形，提出了新的基于矢量边的重复交点处理方法，并在此基础上给出了一个强健的多边形并算法。     

EBES—40A型电子束曝光机的软件开发

本文简要会介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构，工作原理及工作过程；并且根据作者长期应用这套软件的具体情况，对使用该软件过程是同到的一些具体问题和解决方法作了详细的说明。此外，对自行编制的软件也作了介绍。