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γ—Mo2N合成过程中的热变化及中间产物的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用DTA技术,通过改变升温速率研究了γ-Mo2N合成过程中的热变化,并经XRD,BET及IR测试,对DTA曲线中的谱峰进行归属,考察了中间产物,DTA结果表明,在MoO3和NH3程序升温反应过程中有放热峰及吸热峰出现,且随升温速率的长高,放热峰面积与吸热峰面积之比逐渐减小,结合XRD及IR结果可知,DTA曲线听放热峰可归属为由MoO3变化为MoO2的还原峰,吸热峰则归属为由MoO2变化为Mo2N 相似文献
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研究了在乘性和加性色噪声以及加性非对称双值噪声作用下方波信号驱动的延迟双稳系统中的随机共振现象。基于小延迟近似,在绝热近似条件下推导出了系统输出信噪比(Signal-to-Noise Ratio, SNR)的解析形式。分析结果表明,随着双值噪声强度与非对称性参数、方波信号幅度以及乘性和加性色噪声强度的变化,SNR表现出了随机共振行为。随着延迟时间、色噪声相关时间和系统参数的增大,SNR作非单调变化。 相似文献
3.
激光烧蚀-多接收电感耦合等离子体质谱测定铀颗粒物中铀全同位素比值 总被引:2,自引:0,他引:2
建立了铀颗粒物中铀全同位素比值的分析方法,采用双面胶带装载铀颗粒物样品,优化激光烧蚀-多接收电感耦合等离子体质谱的运行参数,用标准样品交叉法校正质量分馏和探测器检测效率,测定了粒径几十微米的铀标准物质CRM124-1、GBW04234和GBW04238中铀全同位素比值.本方法对铀颗粒物中235U/238U、234 U/235U和236 U/235U测量的相对实验标准不确定度分别小于0.050%,1.7%和1.8%,测量结果与参考值在不确定度范围内符合.研究表明,本方法可快速、准确、高精度地测定铀颗粒物中铀全同位素比值. 相似文献
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激光共振电离光谱技术是一种利用一路或多路激光将待测原子选择性共振激发与电离,通过测量离子信号来研究原子能级结构的光谱技术。研建了一套激光共振电离光谱装置,用于原子高激发态能级结构参数的测量。分别从该装置的总体结构、关键技术和应用实例等方面进行了详细介绍。该套装置主要包括高调谐精度的染料激光器系统、高效的激光离子源系统和高分辨率的飞行时间质量分析器。染料激光器系统包括3台多纵模可调谐染料激光器和1台单纵模可调谐染料激光器,均为脉冲工作方式,重复频率为10 kHz,泵浦源均为532 nm的Nd∶YAG固体激光器。激光离子源系统包括原子化源、激光与原子相互作用区和离子光学透镜组三部分组成,样品在原子化源中被电加热实现原子化,喷射出的原子被激光选择性激发、电离,产生的离子被离子传输透镜整形成能量分散小、束窄的离子束。飞行时间质量分析器采用了反射式结构设计、脉冲垂直推斥技术和偏转板调节技术。利用此装置,实验测定了U原子的自电离态光谱,获得了U原子一条较佳的三色三光子共振电离路径,对应激光的波长分别为591.7,565.0和632.4 nm。此系统还可用于测量同位素位移和原子超精细结构等参数。另外,由于此系统中联用了质量分析器,因此可用于样品多元素分析、痕量元素分析、同位素丰度分析。 相似文献
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主要基于紫外可见(UV-Vis)漫反射光谱首次对比研究了经过热处理、有机或无机染料改色或钴-60产生的γ射线辐照三种不同处理工艺对同为珍珠质的淡水与海水珍珠及贝壳珍珠层的漫反射光谱的影响机制。结果表明:(1)在不同颜色、淡海水属性的珍珠与贝壳珍珠层的UV-Vis反射光谱的紫外区皆存在约280 nm 处的吸收峰,上述吸收峰位归属于珍珠层中自身存在的有机质所致,而非珍珠的致色色素。(2)以上三种不同的处理工艺对上述280 nm处的吸收峰位存在一致的影响行为,即随着不同的处理工艺强度的增大,处理样品对应的反射谱图中约280 nm处吸收峰的强度逐渐降低直至消失。与此同时,珍珠的反射谱图中紫外区的反射主波长的反射强度也随之减弱,且反射主波长的峰位向可见光区发生显著红移。研究工作可为珍珠及珍珠的优化处理的鉴定筛选及其珍珠颜色的形成属性判定提供检测依据与理论支撑。 相似文献
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确保电力设备、电网能够正常稳定运行是电力生产管理者对用电客户提供连续、合格电能的服务职能。对电气设备进行倒闸操作,是变电站运行值班人员须履行的基本职责,因此作为一名生产管理者应该避免电气倒闸的误操作。 相似文献
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一类强阻尼波方程解的存在性和爆破性 总被引:3,自引:0,他引:3
徐江 《高校应用数学学报(A辑)》2006,21(2):157-164
讨论一类强阻尼波方程解的局部存在性,并利用势井理论研究解的整体存在性和爆破性. 相似文献
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针对双线性对运算效率低的问题,提出了一种面向双线性对的二次扩域细集成操作数扫描(Fp~2-FIOS)模乘算法。该算法通过优化二次扩域下(AB+CD)mod P的运算过程,有效降低了模乘中的模约减次数;设计了满足不同应用需求的2种硬件架构及其调度方式以提升算法的计算效率;采用TSMC 55 nm工艺实现了双线性对运算单元。与现有文献相比,所设计的架构在一次模乘时间、时钟频率和面积时间积等性能指标上优于同类模乘设计,在整体Optimal ate对运算实现上也有一定的优势。 相似文献