高强度三次谐波转换中位相扰动的变化

以I/II类角度失谐三倍频方案为例,详细讨论了在高强度三次谐波转换过程中入射基频光的位相扰动和振幅调制对三倍频光位相扰动的影响,定量分析了基频光和三倍频光的位相扰动之间的变化关系。模拟结果表明,三倍频光的位相扰动幅度近似为基频光的三倍;入射基频光的位相分布对三倍频光的影响比振幅调制的影响更加明显,但是当入射功率密度较大时,基频光的振幅调制对三倍频光位相分布的影响明显增大。     

一维电磁脉冲模拟器的理论分析和设计

为解决一维导体结构的电磁脉冲响应实验困难,提出了一维电磁脉冲模拟器的概念,并从理论上对电磁脉冲在一维结构上的感应电流进行了计算,结果分析说明了建立一维电磁脉冲模拟设备的可行性,并对该模拟器设计中的几个问题进行了讨论。     

X光面光源的尺寸对系统线扩展函数的影响

在辐射照相系统中,X光源的尺寸是一个影响图像清晰度的重要参数。尤其是在使用高能的X光进行辐射照相时,特殊的照相条件使X光源面积对于系统空间分辨率的影响更为突出。针对这一现象,基于台阶照相法测量系统线扩展函数的理论建立了计算模型,模拟了面光源尺寸对于系统空间分辨率的影响,并说明了提高分辨率应采取的措施。     

光-力耦合受激布里渊散射方程组

采用位移形式表征各向同性介质的运动,从而对传统的SBS耦合波方程组进行改造,使之适用于多维的情况并体现光学理论和力学理论的耦合。采用有限差分方法数值求解了光学-力学耦合型后向SBS方程组,得到了瞬态的位移场、速度场和应力场。计算结果表明,当泵浦光光强为2.0×1015W/m2时,SBS可激发厚度为1cm的K9玻璃样品的表面产生出0.1nm量级的位移和10m/s量级的速度,对应的应力幅度达到10MPa量级。     

CH薄膜非平衡辐射烧蚀的特性

用一维多群辐射输运流体力学RDMG程序数值模拟研究了在神光-II黑腔辐射源条件下,非平衡辐射烧蚀CH薄膜的过程,给出了与平衡辐射烧蚀不同的烧蚀图像,得到了非平衡辐射烧蚀相关的数值定律。     

周期永磁聚焦电子注性能计算机模拟

使用全三维电磁场粒子模拟程序MAFIA建立了行波管周期永磁聚焦系统模型,计算了磁系统中的磁场分布和静态电子注传输特性。分析了周期永磁系统聚焦电子注传输特性,并重点讨论了磁场强度、磁场端部效应和横向速度分布对电子注聚焦性能的影响。为周期永磁聚焦系统的工程设计和优化提供了有价值的模拟结果。     

模拟低频反馈系统的初步尝试

为了提高注入束流的积累,抑制由于注入系统误差引起较大的β残余振荡是非常有必要的。较系统地介绍了利用合肥光源逐圈测量（turn by turn）系统［１］,研究束流不稳定性,并给出了抑制注入β振荡的反馈系统设计原理和线路及初步实验结果。作为原理论证和预研,使用了一个相对简单的模拟滤波移相器对Kicker过程激发的β振荡进行反馈,得到了明显的对damping时间和振荡幅度的抑制作用,为以后低频和高频逐束团（bunch by bunch） 反馈系统研制和抑制束流的横向和纵向不稳定性的研究打下了良好的基础。     

准分子激光光束均匀性的评价指标研究

详细研究了准分子激光光束均匀性的各项评价指标,加工窗口描述了加工任务本身对光束均匀度的要求;能量分数回答了具体加工窗口即均匀度要求下的能量利用率问题;平顶因子则描述了整个光斑能量分布范围内的均匀性问题。利用激光波面分析仪对不同均匀器所获得的均匀光束进行评价比较,蝇眼透镜均匀器能量利用率高,整个光斑内的均匀效果好,但最佳均匀截面的位置动态范围小;组合棱镜均匀器均匀截面动态范围大,但整体均匀效量较差。     

LD连续泵浦Nd:YVO4声光调Q激光器

利用半导体激光器（LD）连续单端泵浦Nd:YVO4晶体,实现了声光调Q输出1 064nm的短脉冲。分析并用实验验证了不同透过率输出耦合镜及不同重复频率条件下,输出调Q脉冲能量、脉冲宽度及平均输出功率的规律。在泵浦功率为20.7W,重复频率为50kHz时,获得了最大平均输出功率为5.72W的脉冲,光 光转换效率为28%,斜效率为32.4%;在重复频率为10kHz时,最大单脉冲能量为0.286mJ,脉宽为22ns,峰值功率为13kW。     

高功率二极管激光器寿命测试

介绍了高功率激光二极管不同模式的失效机理,分析了激光二极管不同的寿命测试方法;在冷却水温20℃和实际工作温度下分别对封装的激光器进行了寿命测试。根据试验结果得出退化率,推算出准连续二极管激光器在水温20℃,电流90A,占空比为10%（500Hz,200μs）时,平均激光工作寿命为2.19×109次脉冲;冷却水温35℃时,其平均激光工作寿命下降为1.65×109次脉冲。由实验结果分析得出,高功率激光器封装工艺中的焊料沉积和多层焊接技术,以及工作环境温度是影响激光器可靠性和寿命的关键因素。