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Effect of Reactor Pressure on Qualities of GaN Layers Grown by Hydride Vapour Phase Epitaxy 下载免费PDF全文
The influence of reactor pressure on GaN layers grown by hydride vapour phase epitaxy (HVPE) is investigated. By decreasing the reactor pressure from0. 7 to 0.5 mm, the GaN layer growth mode changes from the island-like one to the step flow. The improvements in structural and optical properties and surface morphology of GaN layers are observed in the step flow growth mode. The results clearly indicate that the reactor pressure, similarly to the growth temperature, is One of the important parameters to influence the qualities of GaN epilayers grown by HVPE, due to the change of growth mode. 相似文献
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合成了一系列异核配合物[(Eu1-xPrx)(DPSO)(phen)3(ClO4)2]ClO4*nH2O(x=0.000~0.200, DPSO为二苯亚砜, phen为邻菲罗啉, n=1, 2, 3, 4, 5, 6). 对配合物进行了组成分析, 摩尔电导, IR光谱及荧光激发和发射光谱的测定. 荧光光谱测定结果表明 本身不发光的Pr3+对Eu3+的发光产生较大影响, 当Pr3+的掺入量为0.001 mol时, 可使Eu3+的发光强度提高到200%以上,随着Pr3+浓度的增大,对Eu3+的发光先敏化后猝灭.Eu3+在配合物中所处的格位对称性低,无对称中心. 相似文献
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本文利用反应类(Reaction Class)概念和矩(Moment)方法,研究了层流预混甲烷火焰中碳黑颗粒的成核与长大过程。模型综合考虑了颗粒的成核、颗粒间由于碰撞的聚合、以及气态组分在颗粒表面的生长。通过数值计算预报了碳黑颗粒平均粒径、总表面积、体积分数和数密度,以及萘(A4)和乙炔(C2H2)在颗粒表面的增长速率。 相似文献
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Temperature and substrate dependence of structure and growth mechanism of carbon nanofiber 总被引:1,自引:0,他引:1
The carbon nanofibers were grown on Ni/Si and Ni/Ti/Si substrates in 1 atm CH4 atmosphere at 640 °C and 700 °C by thermal chemical vapor deposition method. The carbon nanofibers were characterized by field emission scanning electron microscopy, transmission electron microscopy, and Raman spectrometry for morphology, microstructure, and crystallinity. The electron emission property of carbon nanofibers was also investigated by current-voltage (I-V) measurement. The results showed that the solid amorphous carbon nanofibers could be grown on Ni/Si substrate at 640 °C through tip growth mechanism, the carbon nanotubes could be grown on Ni/Si substrate at 700 °C through tip growth mechanism, and the carbon nanotubes could be grown on Ni/Ti/Si substrate at 700 °C through root growth mechanism. 相似文献
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Effect of substrate temperature on microstructure and optical properties of single-phased Ag20 film deposited by using radio-frequency reactive magnetron sputtering method 下载免费PDF全文
Using a radio-frequency reactive magnetron sputtering technique, a series of the single-phased Ag20 films are deposited in a mixture of oxygen and argon gas with a flow ratio of 2:3 by changing substrate temperature (Ts). Effects of the Ts on the microstructure and optical properties of the films are investigated by using X-ray diffractometry, scanning electron microscopy and spectrophotometry. The single-phased Ag20 films deposited at values of Ts below 200℃ are (111) preferentially oriented, which may be due to the smallest free energy of the (111) crystalline face. The film crystallization becomes poor as the value of Ts increases from 100℃ to 225℃. In particular, the Ag20 film deposited at Ts=225℃ loses the (111) preferential orientation. Correspondingly, the film surface morphology obviously evolves from a uniform and compact surface structure to a loose and gullied surface structure. With the increase of Ts value, the transmissivity and the reflectivity of the films in the transparent region are gradually reduced, while the absorptivity gradually increases, which may be attributed to an evolution of the crystalline structure and the surface morphology of the films. 相似文献