激光微区发射光谱分析法测定铝酸锶铕镝长余辉材料中的铕

激光微区发射光谱分析法结合CCD光学多道分析仪测定了SrAl2O4:Eu2 ,Dy3 长余辉材料中铕的含量,研究了该方法用于长余辉材料定量分析的准确性。实验中以Eu(Ⅱ)412.973nm为分析线,计算机拟合LogIf~Logc工作曲线,对Eu的分析结果表明:分析谱线相对强度RSD为4.3%,定量分析相对标准偏差RSD为7.4%,分析结果的平均值为2.13%;采用高温固相反应法制备SrAl2O4:Eu2 ,Dy3 长余辉材料,制备前后的Eu百分含量发生明显变化,高温合成后的长余辉材料中Eu百分含量明显增大。     

重金属Pb2+对玉米苗生长的影响

以水栽培的玉米幼苗为材料，用不同浓度的醋酸铅溶液处理后，分别在第10天、第20天、第30天对玉米苗的根、茎、叶分别进行Pb^2＋含量测定。分析结果：Pb^2＋在玉米体内的分布表现为根〉叶〉茎；玉米中的叶绿素含量均降低；随着Pb^2＋浓度的增大，玉米细胞的膜透性表现根〉叶〉茎依次升高；Pb^2＋对玉米的伤害率的大小表现为根〉叶〉茎。该实验为进一步研究农作物对重金属Pb^2＋的耐性和重金属Pb^2＋在农作物体内的分布提供了可参考的数据。     

头孢哌酮与人血清白蛋白相互作用机制

用光谱方法研究人血清白蛋白(HSA)与头孢哌酮 (CPZ)分子间结合作用机制,头孢哌酮与β-内酰胺酶的亲和力。由Lineweave-Burk双倒数作图法确定了该反应的解离常数(15 ℃)K_d=1.10×10-4,(37 ℃)K_d=0.85×10-4。依据Frster非辐射能量转移机制,得到给体-受体间的结合距离和能量转移效率;确定了头孢哌酮与人血清白蛋白以静电作用为主。认为头孢哌酮对β-内酰胺酶稳定性与药物结构有关;抗菌活性和抗生素效力与能量转移效率和解离常数有关。同步荧光技术考察头孢哌酮对人血清蛋白构象的影响。     

微量元素示踪法在古代青铜器铜矿料来源研究中的应用

青铜模拟熔铸实验表明,利用ICP-AES法测定的青铜中亲铜元素的成分数据,通过聚类分析,可以较好地区分不同产地的铜矿料及其青铜产物。文章将这一方法具体应用于盘龙城商代遗址和鄂州出土青铜器的微量元素数据的分析,以考察其可行性和应用价值。多元统计分析结果显示：青铜模拟熔铸实验所得结论,亦可应用于盘龙城和鄂州青铜器铜矿料的区分,进一步验证了微量元素示踪古代青铜器铜矿料来源的可行性。     

以萘为π-中心的双芪类衍生物双光子上转换荧光性能研究

研究了2个新的双光子上转换荧光分子—1,4-双-(9-乙基咔唑基)萘(简称为BECVN)和1,4-双-(4’-N,N-二甲氨基苯乙烯基)萘(简称为BMABN)的单光子、双光子光谱性质。在～375 nm Xe灯光源激发下,两样品的DMF溶液发出很强的蓝、绿色荧光(峰位492～541 nm),视感效果非常明显。BMABN分子的线性吸收/发射光谱的峰位与BECVN分子相比,均发生红移;相对荧光量子产率(Φ_f)比BECVN降低了7.4倍。在飞秒钛宝石激光器泵浦下(760 nm),两样品的DMF溶液发出强的双光子上转换荧光发射,峰位与单光子荧光峰位相比发生红移(500～556 nm)。BMABN的双光子荧光强度和双光子吸收截面分别是BECVN的3倍和30.4倍。     

不同激发波长下C_(60)/C_(70)的荧光研究(英文)

在室温吡啶溶液中得到了较以往丰富的C6 0 /C70 荧光谱,研究了其荧光谱随激发波长的变化,并且比较了C6 0 和C70 的荧光谱     

n-羟基苯甲酸(n=p,m,o)在一种新的活性基底上的SERS研究(英文)

将银纳米颗粒覆盖在覆有铟锡氧化物的导电玻璃上,可以将其作为一种新型的表面增强拉曼散射(SERS)活性基底。将三种羟基苯甲酸分子作为探针分子在这种新的基底上进行检测,得到了很好的SERS信号,从中可反映出大量分子振动信息     

云南青铜防腐显微拉曼光谱和EPMA研究

应用显微激光拉曼光谱和EPMA(电子探针技术),对云南的四件青铜器(两件春秋时期的青铜矛和两面元代的青铜镜)的腐蚀情形和防腐技术进行了分析研究。拉曼实验结果表明,云南青铜器表面腐蚀产物的主要成分有Cu2O和CuCO3.Cu(OH)2。利用电子探针技术,确定了青铜器内部和表面的元素成分。本文初步分析了云南四件青铜器防腐技术的应用和发展,春秋战国时期,人们在青铜矛表面涂上一层锡的氧化物涂层以防腐蚀;元代的人则采用合金表面处理技术防腐。事实证明,锡的氧化物涂层的防腐效果最好。对金属文物的研究,显微激光拉曼光谱是一种原位无损检测的有效方法,但还是有某些局限性,若配合以电子探针等测试方法,可以达到更好的效果。     

永磁流变抛光纳米精度非球面技术研究

利用永磁流变抛光技术制造高精度光学元件是一项极具前景的超精密制造技术。对一台五轴联动磁流变数控抛光系统的结构特点、功能特色及关键部件的设计进行了阐述。在此基础上,结合装置开展基础试验,对磁流变抛光过程中的主要控制参量如抛光轮下压量、抛光轮速度等对材料去除特性的影响进行了研究。开展了磁流变抛光对提高工件(K9玻璃)表面粗糙度效果的抛光试验,结果证明该套系统具有良好的磁流变抛光特性,抛光23min后工件表面粗糙度降低到0 6739nm。     

间插取样光纤光栅多通道滤波器

对间插取样光纤光栅进行了理论分析和数值模拟,并依照理论分析及数值模拟的结果进行了实验研究,采用逐点扫描曝光工艺首次制作出具有10个以上通道数的光纤光栅梳状滤波器。这种方法工艺简单,控制精度要求低,是一种具有良好实用化前景的多通道光纤光栅滤波器制作技术。