首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   108955篇
  免费   27580篇
  国内免费   20020篇
化学   71262篇
晶体学   1311篇
力学   7187篇
综合类   338篇
数学   13397篇
物理学   63060篇
  2024年   490篇
  2023年   1344篇
  2022年   1494篇
  2021年   1662篇
  2020年   2169篇
  2019年   2620篇
  2018年   2367篇
  2017年   2838篇
  2016年   3597篇
  2015年   3697篇
  2014年   3911篇
  2013年   6324篇
  2012年   7299篇
  2011年   8922篇
  2010年   11044篇
  2009年   11257篇
  2008年   5359篇
  2007年   4786篇
  2006年   4260篇
  2005年   4353篇
  2004年   4787篇
  2003年   3869篇
  2002年   3638篇
  2001年   3727篇
  2000年   2919篇
  1999年   3231篇
  1998年   2764篇
  1997年   2554篇
  1996年   2957篇
  1995年   3282篇
  1994年   3294篇
  1993年   3244篇
  1992年   2806篇
  1991年   2417篇
  1990年   2024篇
  1989年   2048篇
  1988年   1999篇
  1987年   1276篇
  1986年   1321篇
  1985年   983篇
  1984年   1069篇
  1982年   940篇
  1981年   776篇
  1980年   793篇
  1979年   548篇
  1978年   558篇
  1977年   664篇
  1976年   1068篇
  1973年   450篇
  1972年   546篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
161.
This paper reports that the m-plane GaN layer is grown on (200)-plane LiAlO2 substrate by metal-organic chemical wpour deposition (MOCVD) method. Tetragonal-shaped crystallites appear at the smooth surface. Raman measurement illuminates the compressive stress in the layer which is released with increasing the layer's thickness. The high transmittance (80%), sharp band edge and excitonic absorption peak show that the GaN layer has good optical quality. The donor acceptor pair emission peak located at -3.41 eV with full-width at half maximum of 120 meV and no yellow peaks in the photoluminescence spectra partially show that no Li incorporated into GaN layer from the LiAlO2 substrate.  相似文献   
162.
a-C:F薄膜的热稳定性与光学带隙的关联   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
杨慎东  宁兆元  黄峰  程珊华  叶超 《物理学报》2002,51(6):1321-1325
以CF4和C6H6的混合气体作为气源,在微波电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)装置中制备了氟化非晶碳薄膜(aC:F),并在N2气氛中作了退火处理以考察其热稳定性.通过傅里叶变换红外吸收谱和紫外可见光谱获得了薄膜中CC双键的相对含量和光学带隙,发现膜中CC键含量与光学带隙之间存在着密切的关联,在高微波功率下沉积的氟化非晶碳膜具有低的光学带隙和较好的热稳定性. 关键词: 氟化非晶碳膜 光学带隙 退火温度 热稳定性  相似文献   
163.
This paper is a continuation of the authors'previous paper[1].In this paper the authorsprove,assuming additional conditions on the initial data,some results about the existence anduniqueness of the entropy weak solutions of the Cauchy problem for the singular hyperbolicsystem a_t+(au)_x_2au/x=0,u_t+1/2(a~2+u~2)_x=0,x>0,t≥0.  相似文献   
164.
165.
Confined excitons in non-abrupt GaAs/AlxGa1−xAs single quantum wells are studied. The graded interfaces are described taking into account fluctuations in their thickness a and positioning with respect to the abrupt interface picture. Numerical results for confined (0,0),(1,1) and (0,2) excitons in GaAs/Al0.3Ga0.7As quantum wells show that while the interfacial fluctuations produce small changes (<0.5 meV) in the exciton binding energies, the confined exciton energies can be red- or blue-shifted as much as 25 meV for wells with mean width of 50 Å and 2 ML wide interfaces.  相似文献   
166.
本文采用椭圆偏振光谱法研究了剂量为1×1016—3×1012cm-2的As+注入硅,及其在700℃退火后的光学性质。得出:当As+注入剂量增大到某一程度后,便呈非晶特性。低于临界剂量的样品,其n-λ,ε2-λ关系曲线随剂量的增大而往下方移动,呈有规律变化;退火后,在大于4000?波段,n-λ与ε2-λ曲线基本恢复到单晶硅状态。但在小于4000?的紫外区却未完全恢复,注入剂量越大,偏离单晶硅就越大。并指出,紫外光区是离子注入硅的信息敏感区;用有效质量模型计算出注入剂量与损伤度的关系。计算结果与实验符合得较好。 关键词:  相似文献   
167.
研究了制备的掺钕螯合物Nd(DBM)3Phen材料的吸收光谱、激发光谱、荧光光谱,应用Judd-Ofelt理论计算了该材料的强度参量.分析了钕离子激发态4F3/2的辐射寿命(631 μs)和4F3/2→4IJ′跃迁的受激发射截面和荧光分支比.  相似文献   
168.
任红  肖苏  陈冬颖 《物理实验》2006,26(11):36-38
金割效应物理摆是将数学中的优选法与物理实验中的复摆结合起来并用计算机处理数据的自制教学仪器.把金割效应物理摆作为研究性实验进行开设,更有利于培养学生的开拓精神和创新能力.  相似文献   
169.
本文首先将文[1]中的BLD映射推广为弱(L1,L2)-BLD映射,并证明了如下正则性结果:存在两个可积指数 P1=P1(n,L1,L2)<n<q1=q1(n,L1,L2),使得对任意弱(L1,L2)-BLD映射f∈(Ω,Rn),都有f∈(Ω,Rn),即f为(L1,L2)-BLD映射.  相似文献   
170.
修正了 [4,5]中的 Jabotinsky矩阵,得到并证明了一类无穷下三角矩阵T(f)的一些性质,最后,导出了一些与导数相关的反演关系和组合恒等式.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号