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51.
The aim of this paper is to present construction of finite element multiscaling function with three coefficients. In order to illuminate the result, two examples are given finally. 相似文献
52.
Browder-Petryshyn 型的严格伪压缩映射的粘滞迭代逼近方法 总被引:1,自引:0,他引:1
主要研究Browder-Petryshyn型的严格伪压缩映射的粘滞迭代逼近过程,证明了Browder-Petryshyn型的严格伪压缩映射的不动点集F(T)是闭凸集.在q-一致光滑且一致凸的Banach空间中,对于严格伪压缩映射T,利用徐洪坤在2004年引进的粘滞迭代得到的序列弱收敛于T的某个不动点.同时证明了Hilbert空间中Browder-Petryshyn型的严格伪压缩映射的相应迭代序列强收敛到T的某个不动点,其结果推广与改进了徐洪坤2004年的相应结果. 相似文献
53.
[1]M.Alford,K.Rajagopal,and F.Wilczek,Phys.Lett.B 422 (1998) 247; Nucl.Phys.B 537 (1999) 443.
[2]M.Gyulassy and L.McLerran,arXiv:nucl-th/0405013;E.V.Shuryak,arXiv:hep-ph/0405066.
[3]K.Rajagopal and F.Wilczek,hep-ph/0011333.
[4]M.Alford,Chris Kouvaris,and K.Rajagopal,hepph/0406137.
[5]Y.Nambu and G.Jona-Lasinio,Phys.Rev.122 (1961)345.
[6]R.T.Cahill and C.D.Roberts,Phys.Rev.D 32 (1985)2419.
[7]R.T.Cahill and Susan M.Ganner,hep-ph/9812491.
[8]A.W.Steiner,S.Reddy,and M.Prakash,Phys.Rev.D 66 (2002) 094007.
[9]P.Amore,M.C.Birse,J.A.McGovern,and N.R.Walet,Phys.Rev.D 65 (2002) 074005.
[10]M.Alford and K.Rajagopal,JHEP 0206 (2002) 031.
[11]Xiao-Fu Li,Yu-Xin Liu,Hong-Shi Zong,and En-GuangZhao,Phys.Rev.C 58 (1998) 1195.
[12]H.Reinhardt,Phys.Lett.B 244 (1990) 2.
[13]Steven Weinberg,The Quantum Theory of Fields,Vol.2,Cambridge University Press,Cambridge (1996) p.348. 相似文献
54.
Based on the effective-field theory with self-spin correlations and the differential operator technique,physical properties of the spin-2 system with biaxial crystal field on the simple cubic, body-centered cubic, as well as faced-centered lattice have been studied. The influences of the external longitudinal magnetic field on the magnetization,internal energy, specific heat, and susceptibility have been discussed in detail. The phenomenon that the magnetization in the ground state shows quantum effects produced by the biaxial transverse crystal field has been found. 相似文献
55.
56.
57.
58.
属性区间识别理论模型研究及其应用 总被引:15,自引:3,他引:12
根据程乾生教授创立的属性识别理论模型[1] ,提出了属性测度区间的概念 ,建立了属性区间识别理论模型 ,并在自然科学学术期刊质量评价中进行了应用 . 相似文献
59.
60.
The dry etching characteristics of transparent and conductive indium-zinc oxide (IZO) films have been investigated using an inductively coupled high-density plasma. While the Cl2-based plasma mixture showed little enhancement over physical sputtering in a pure argon atmosphere, the CH4/H2/Ar chemistry produced an increase of the IZO etch rate. On the other hand, the surface morphology of IZO films after etching in Ar and Ar/Cl2 discharges is smooth, whereas that after etching in CH4/H2/Ar presents particle-like features resulting from the preferential desorption of In- and O-containing products. Etching in CH4/H2/Ar also produces formation of a Zn-rich surface layer, whose thickness (∼40 nm) is well-above the expected range of incident ions in the material (∼1 nm). Such alteration of the IZO layer after etching in CH4/H2/Ar plasmas is expected to have a significant impact on the transparent electrode properties in optoelectronic device fabrication. 相似文献