首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   170123篇
  免费   1839篇
  国内免费   536篇
化学   95882篇
晶体学   2494篇
力学   6613篇
综合类   3篇
数学   17822篇
物理学   49684篇
  2021年   1265篇
  2020年   1462篇
  2019年   1548篇
  2018年   1859篇
  2017年   1874篇
  2016年   3007篇
  2015年   1990篇
  2014年   2823篇
  2013年   7283篇
  2012年   5896篇
  2011年   7277篇
  2010年   4868篇
  2009年   4883篇
  2008年   6919篇
  2007年   6704篇
  2006年   6542篇
  2005年   6073篇
  2004年   5421篇
  2003年   4966篇
  2002年   4774篇
  2001年   5867篇
  2000年   4236篇
  1999年   3306篇
  1998年   2375篇
  1997年   2503篇
  1996年   2403篇
  1995年   2146篇
  1994年   2187篇
  1993年   1975篇
  1992年   2441篇
  1991年   2527篇
  1990年   2313篇
  1989年   2326篇
  1988年   2301篇
  1987年   2275篇
  1986年   2097篇
  1985年   2648篇
  1984年   2717篇
  1983年   2114篇
  1982年   2262篇
  1981年   2078篇
  1980年   2036篇
  1979年   2333篇
  1978年   2409篇
  1977年   2331篇
  1976年   2239篇
  1975年   2093篇
  1974年   2073篇
  1973年   2100篇
  1972年   1357篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
72.
In this paper we study a stochastic differential equation with multivalued maximally monotone drift operator. Under certain assumptions on the growth of the multivalued operator we prove a theorem on the existence and uniqueness of the solution of such an equation.Translated fromTeoriya Sluchainykh Protsessov, Vol. 15, pp. 54–59, 1987.  相似文献   
73.
Summary Wet-chemical cleaning procedures of Si(100) wafers are surface analytically characterized and compared. Hydrophobic surfaces show considerably less native oxides in comparison to hydrophilic surfaces.The growth of the oxide is determined as a function of exposure to air by means of XPS measurements. The chemically shifted Si2p XPS signal is utilized for the quantification of the growth kinetics.One hour after cleaning no chemically shifted Si2p XPS peak is discernible on the hydrophobic surfaces. Assuming homogeneous oxide growth, the detection limit of native oxides is estimated to be below 0.05 nm using an emission angle of 18° with respect to the wafer surface. The calculation of the oxide thickness from the chemically shifted and nonchemically shifted Si2p XPS peak intensities is carried out according to Finster and Schulze [1]. For more than a day after cleaning no surface oxides can be identified on the hydrophobic surfaces. The oxide growth kinetics is logarithmic. The very slow oxidation rate cannot be attributed to fluorine residues since no fluorine is seen by XPS. We explain the slow oxidation rate by a homogeneous hydrogen saturated Si(100) wafer surface.
Oberflächenanalytische Charakterisierung oxidfreier Si(100)-Waferoberflächen
  相似文献   
74.
75.
Translated from Ukrainskii Matematicheskii Zhurnal, Vol. 41, No. 8, pp. 1137–1141, August, 1989.  相似文献   
76.
This paper presents the development and laboratory evaluation of a PM10/2.5/1.0 trichotomous sampling inlet that consists of two main parts: a previously designed PM10 size‐selective inlet part and a PM2.5/1.0 two‐stage virtual impactor, which was newly fabricated and attached serially to the PM10 size selective inlet part. Particles are collected in three locations through the trichotomous sampling inlet to provide for not only particle concentration measurements of PM10, PM2.5 and PM1.0, but also those of PM2.5–10 and PM1.0–2.5.  相似文献   
77.
78.
79.
Several illusions of vision are considered on the basis of a neurophysiological holographic model of visual perception at the level of the eye’s and the retina. It is suggested that the eye’s optical system forms a spatial spectrum of the observed object rather than its image on the retina. The spectrum is encoded by active anisotropic quasi-crystalline structures of rod rhodopsins and cone iodopsins, and a complex Fourier hologram of the observed object consisting of two quadrature components is recorded. The holographic hypothesis is confirmed by the results obtained by digital simulation.  相似文献   
80.
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号