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41.
RuH2和RuN2电子组态与光谱性质的从头计算   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
用量子化学从头算方法在B3LYP/6 311G 的水平上 ,研究了RuH2 和RuN2 可能的电子组态和光谱性质 .结果表明 ,RuH2 的3 B2 和5Σ-态对应于静电作用的物理吸附态 .RuN2 的一重态和三重态的计算结果跟钌单晶面上的实验值相接近 .而RuN2 在C∞v对称性时 ,五重态5Σ-的计算频率比实验值稍低 .在C2v对称性时 ,五重态的计算频率值则更低 ,3 B2 和5A1态不能稳定存在  相似文献   
42.
强流离子束离子径向密度分布的模拟研究   总被引:7,自引:0,他引:7       下载免费PDF全文
白龙  翁甲强  方锦清  罗晓曙 《物理学报》2004,53(12):4126-4130
对初始分布为K-V分布的离子束进行模拟研究.除观察到存在束晕现象外,还发现离子束在通 道内运行过程中,离子沿径向密度分布发生了变化. 通过延迟反馈控制,不仅可以消除束晕 ,而且只要控制参数适当,也可以使束中心部分呈均匀分布状态. 关键词: 强流离子束 束晕 填充因子 离子密度分布  相似文献   
43.
本文研究了包括Stark效应时,双光子Jaynes-Cummings模型与单模压缩相干光场发生相互作用过程中场熵的特性,讨论了Stark移动参数、光场参数对场墒演化的影响.  相似文献   
44.
45.
时滞种群模型的正周期解对所有正解的吸引性   总被引:5,自引:0,他引:5  
建立了对数种群模型N′(t)=N(t){r(t)-a1(t)ln[N(t)]-a2(t)ln[N(t-τ(t))]}的周期正解的存在性,并得到了正周期解对所有正解的吸引性.  相似文献   
46.
高功率飞秒脉冲激光器的进展   总被引:3,自引:0,他引:3  
概述了超短激光脉冲技术发展的历程。详尽的论述了啁啾脉冲放大技术的原理和一些关键技术 ,并对当今飞秒激光器研究发展的状况进行了综述。在分析其应用前景的基础上 ,进一步指出了这一技术领域未来的发展趋势。结果表明 ,脉冲激光放大系统以后的发展方向是 :更短脉冲 ;追求更高峰值功率 ;连续光谱调谐化 ;向小型化乃至全光纤化发展。  相似文献   
47.
Wilson,Han和Powell提出的序列二次规划方法(简称SQP方法)是求解非线性规划问题的一个著名方法,这种方法每次迭代的搜索方向是通过求解一个二次规划子问题得到的,本文受[1]启发,得到二次规划子问题的一个近似解,进而给出了一类求解线性约束非线性规划问题的可行方向法,在约束集合满足正则性的条件下,证明了该算法对五种常用线性搜索方法具有全局收敛性。  相似文献   
48.
本文报道了用于多光束分束器的反射式16位相值二元光学器件的制作。该二元光学器件把一束光束分成5×5光束阵列。测量的衍射效率为76.16%,接近理论设计值79.68%。该二元光学器件的有效孔径为10mm×10mm。  相似文献   
49.
近场光学显微技术   总被引:4,自引:2,他引:2       下载免费PDF全文
王海潼  刘斐 《应用光学》2005,26(3):36-40
本文在介绍近场光学显微镜原理的基础上,对近场光学显微技术进行了一定深度的探讨,并着重研究了纳米级探针的制作和纳米级样品与探针间距的控制这两个近场光学显微技术中的关键问题,说明了近场光学显微探针的工作方式,阐述了近场光学成像的衬度类型,介绍了近场光学显微技术在多个领域的应用。在参考大量国内外最新研究成果的基础上,提出了一些个人的见解。  相似文献   
50.
Investigation of remelting and cladding processing with laminar plasma jets on several metals has been conducted looking for possible development of a new surface modification technique. The remelting tests illustrated that the new method could evidently improve the material microstructure and properties of cast iron. The cladding was done with Al2O3 ceramic powder on stainless steel. The energy dispersive spectra (EDS) analysis was used to determine the distribution of the major cladding element in the plasma-processed layers, for which the microstructure observations and hardness measurements were also performed.  相似文献   
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