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211.
近年来各种萃取技术与化学衍生联用的模式作为一种新型样品处理技术广泛应用于生物样品预处理.这种联用技术不仅能有效去除样品基质,还能有效改善极性大、挥发性强、热稳定性差的目标分析物的回收率,提高方法的选择性和灵敏度.研究者根据待分析物及衍生试剂性质选取不同的联用模式.本文评述了萃取技术与化学衍生联用模式以及其在生物样品预处理中的应用.  相似文献   
212.
研究了阳离子表面活性剂溴化十六烷基三甲铵(CTMAB)存在下3'-甲氧基-4'羟基苯基荧光酮(MHPF)与Ge(Ⅳ)的显色反应.在HCl介质中,CTMAB的存在对MHPF与Ge(Ⅳ)的显色反应有显著的增敏作用,Ge(Ⅳ)与MHPF形成稳定的1:2红色配合物.配合物最大吸收波长位于505 nm,表观摩尔吸光系数为1.72×105L·mol-1·cm-1.锗量在0~0.48 mg/L范围符合比耳定律.方法已用于铅锌矿渣中微量锗的测定.  相似文献   
213.
风力机叶尖加小翼动力放大特性实验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文在风力机的叶尖上通过添加V型平板小翼实验,提高了风力机的输出功率.在风洞实验研究中,进行了不同长度和宽度,不同前张角和后张角小翼的探索.实验表明小翼对风力机在一定尖速比λ范围内可以提高功率系数cp值.  相似文献   
214.
两种波纹板通道内的流动及换热比较   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用非稳态算法,计算了周期性正弦型和三角形两种波纹板通道内的流动和换热,比较了它们的平均阻力系数和平均努赛尔数.结果表明:在较大流量下,两种通道内的流动均出现了自维持振荡现象,但是两者相比正弦型通道波纹板的换热和压降均较大.  相似文献   
215.
三维跨音速叶栅自动气动优化设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
应用三维叶栅自动设计参数化方法,选择E3约束的条件下进行了自动气动优化设计.优化后,最优叶栅的总压恢复系数比参考叶栅提高了0.8%,流量和出口气流角都在约束范围内.对优化结果的详细气动分析表明,叶栅性能有显著的改善,表明该算法具有良好的优化性能.  相似文献   
216.
介绍了液晶的结构类型,液晶分子的光电效应,实现液晶显示的偏振片透光原理,包括扭曲向列型(TN)、超扭曲向列型(STN)、薄膜晶体管型(TFT)液晶显示的异同,可用于液晶显示的有机材料,以及液晶显示材料的产业现状及发展趋势。  相似文献   
217.
硝基芳烃对圆腹雅罗鱼毒性的DFT研究   总被引:8,自引:1,他引:7  
闫秀芬  舒远杰  王连军  肖鹤鸣 《化学学报》2007,65(17):1789-1796
对30种硝基芳烃化合物进行DFT-B3LYP/6-311G**水平全优化计算, 据所得量子化学参数分类建立了硝基苯类和硝基苯胺类化合物对圆腹雅罗鱼急性毒性(-lgEC50)的定量构效关系(QSARs)模型. 结果表明, 硝基苯类化合物的毒性主要由硝基基团的电荷(Q-NO2)和前线轨道能级差(ΔE)决定; 硝基苯胺类化合物的毒性则由分子最低未占轨道能级(ELUMO)和ΔE决定. 苯环上取代基的类型、数目和取代位置直接影响到标题化合物的毒性大小, 强吸电子基如硝基会降低Q-NO2ELUMO大小, 使化合物毒性增强, 且邻对位硝基取代的毒性高于间位取代; 相反, 给电子基团氨基的存在则会使化合物的毒性降低. 总之, 硝基是这两类化合物致毒的主要基团, 将硝基包覆或还原为氨基应为此类化合物解毒的重要途径. 最后以1,4-二硝基苯为例, 模拟了其活性亚硝基中间产物与蛋白质中还原性巯基间的反应, 并将其与硝基苯和1,3-硝基苯的反应活化能进行了比较, 讨论了不同取代基数目和位置对分子活性的影响, 结果与QSAR模型分析一致, 进一步验证了硝基芳烃化合物的致毒历程, 研究结果对品优高能炸药的分子设计也有助益.  相似文献   
218.
采用循环伏安法,以含苯胺(An)的硫酸溶液为电解质,采用循环伏安技术在Pt微盘电极上得到随机、不连续沉积的聚苯胺(PAn)微颗粒和PAn膜.实验结果表明:H2SO4浓度、苯胺浓度、电位扫描上限和扫速对电化学合成随机、不连续沉积的PAn微颗粒具有重要影响.不连续随机沉积的PAn微颗粒电极与PAn膜电极在锂离子(Li-ion)电池电解质溶液中的行为有明显差异,不连续随机沉积的PAn微颗粒电极可以清楚地得到氧化还原电流峰,而PAn膜电极无法形成清晰的氧化还原电流峰.采用较缓慢扫描速度更有利于形成良好"结晶"的不连续PAn颗粒电极,该种电极可以同时具有高比能量和可逆性能.  相似文献   
219.
本文评述了分子印迹聚合物发展历史、制备方法、聚合体系的选择、性能表征及作用机理。主要介绍了其作为色谱固定相方面的应用,并对需解决的问题提出了建议。  相似文献   
220.
Cu3N薄膜是近10年来研究的热点材料之一.Cu3N是立方反ReO3结构,理想立方反ReO3结构的一个晶胞中Cu原子占据立方边的中心位置而N原子占据立方晶胞的八个顶点,此结构的体心位置有一较大间隙,Cu原子以及其他原子如Pd、碱金属原子等很有可能进入此位置导致Cu3N的电学性能、光学性能等发生很大的变化,这使得该材料具有很大的潜在应用价值.Cu3N的晶格常数为0.3815nm,密度5.84g/cm3,分子量204.63,颜色呈黑绿色或红褐色,空间点群Pm3m.Cu3N薄膜在室温下相当稳定并且热分解温度较低(300℃左右),热分解前后薄膜的光学反射率有较大差别,这可使Cu3N薄膜用作一次性光记录材料.此外,Cu3N薄膜还可用作在Si片上沉积金属Cu线的缓冲层、低磁阻隧道结的阻挡层、自组装材料的模板等.  相似文献   
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