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201.
用电子束蒸发沉积方法在X切LBO(X-LBO)晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532 nm倍频增透膜,其中一种膜系结构为基底/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,另一种为基底/0.5Al2O3/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,两种膜系结构的主要差别在于有无氧化铝过渡层。测量了薄膜的反射率光谱曲线,发现两种增透膜在1 064和532 nm处的反射率均小于0.5%,实际镀制结果与理论设计曲线的差异主要是由材料折射率的变化引起的。且对样品在空气环境中进行了温度为473 K的退火处理,结果发现两种膜系结构均表现了较优异的光学性能,氧化铝过渡层的加入使薄膜具有强的热应力性能。 相似文献
202.
203.
(Ti,Al)N Film on Normalized T8 Carbon Tool Steel Prepared by Pulsed High Energy Density Plasma Technique 下载免费PDF全文
Under optimized operating parameters, a hard and wear resistant (Ti,Al)N film is prepared on a normalized T8 carbon tool steel substrate by using pulsed high energy density plasma technique. Microstructure and composition of the film are analysed by x-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and scanning electron microscopy. Hardness profile and tribological properties of the film are tested with nano- indenter and ring-on-ring wear tester, respectively. The tested results show that the microstructure of the film is dense ahd uniform and is mainly composed of (Ti,Al)N and A1N hard phases. A wide transition interface exists between the film and the normalized T8 carbon tool steel substrate. Thickness of the film is about lO00nm and mean hardness value of the film is about 26 GPa. Under dry sliding wear test conditions, relative wear resistance of the (Ti, Al)N film is approximately 9 times higher than that of the hardened T8 carbon tool steel reference sample. Meanwhile, the (Ti,Al)N film has low and stable friction coefficient compared with the hardened T8 carbon tool steel reference sample. 相似文献
204.
205.
206.
在时间分辨的模式下, 实验研究了天鹅绒阴极产生的双脉冲相对论强流电子束的束心运动、束包络和束的发射度. 在实验中, 电子束流强度和电子束心运动用电阻环进行测试, 而电子束和石英玻璃的相互作用产生的契仑科夫辐射用来给出电子束包络和发射度信息. 电子束和石英玻璃作用产生的契仑科夫辐射用1台8幅分幅相机记录. 实验结果表明, 天鹅绒阴极产生的相对论强流双脉冲电子束在束流大小、束心运动轨迹、束包络及束发射度等方面具有较好的一致性. 相似文献
207.
208.
分析了光信息科学与技术专业的特点,探讨了该专业双语教学改革的特点和提高双语教学效果的方法,为专业发展提出了思路。 相似文献
209.
Assuming that the operators L1, L2 are self-adjoint and satisfy the generalized Davies-Gaffney estimates, we shall prove that the weighted Hardy space associated to operators L1, L2 on product domain, which is defined in terms of area function, has an atomic decomposition for some weight . 相似文献
210.
以Zn4(OH)2(O2CCH3)6·2H2O为单一固相有机源,采用单源化学气相沉积法(Single sour cechem icalvapor deposition,SSCVD)在Si(100)衬底上制备ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)分析ZnO薄膜样品的晶体结构和微观形貌,并用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的锌氧化学计量比进行了分析。研究结果表明:在非平衡条件下所得到的ZnO薄膜沿a-b轴取向生长,基片温度对ZnO薄膜生长过程影响较大,随着基片温度的升高,薄膜呈现c轴生长趋势;晶粒成柱状、尺寸均匀、膜层结构致密;薄膜样品中nZn:nO=0.985。 相似文献